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公開番号2025098815
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-07-02
出願番号2023215199
出願日2023-12-20
発明の名称情報処理装置、情報処理装置の制御方法、インプリント装置、及び物品の製造方法
出願人キヤノン株式会社
代理人個人,個人,個人
主分類H01L 21/027 20060101AFI20250625BHJP(基本的電気素子)
要約【課題】パターン形成不良の発生メカニズムの推定を効率的に行う。
【解決手段】パターンを有する型を用いて、基板上の複数のショット領域に順次インプリント材のパターンを形成するインプリント処理を行うインプリント装置による基板上の形成不良における発生メカニズムを推定する情報処理装置において、インプリント材のパターンが形成された基板の検査情報を取得する第1の取得手段と、型のパターンを基板上のショット領域に形成する際のショット領域情報とインプリント処理の順番情報を含むインプリント情報を取得する第2の取得手段と、インプリント情報に応じて、基板の領域を複数の領域に分割する領域分割規則に基づき、複数の基板の検査情報を領域別検査情報に分割する分割手段と、複数の領域別検査情報から、形成不良の発生領域と経時変化の特徴を特定し、特定した経時変化の特徴から1つ以上の発生メカニズムを推定する推定手段と、を有する。
【選択図】図16
特許請求の範囲【請求項１】
パターンを有する型を用いて、基板上の複数のショット領域に順次インプリント材のパターンを形成するインプリント処理を行うインプリント装置による前記基板上の形成不良における発生メカニズムを推定する情報処理装置において、
前記インプリント材のパターンが形成された基板の検査情報を取得する第１の取得手段と、
前記型のパターンを前記基板上のショット領域に形成する際のショット領域情報と前記インプリント処理の順番情報を含むインプリント情報を取得する第２の取得手段と、
前記インプリント情報に応じて、前記基板の領域を複数の領域に分割する領域分割規則に基づき、複数の基板の検査情報を領域別検査情報に分割する分割手段と、
複数の前記領域別検査情報から、形成不良の発生領域と経時変化の特徴を特定し、特定した経時変化の特徴から１つ以上の発生メカニズムを推定する推定手段と、を有する、
ことを特徴とする情報処理装置。
続きを表示（約 930 文字）【請求項２】
前記インプリント情報は、少なくともインプリント処理条件情報、前記基板の識別子、及び前記型の識別子を含むことを特徴とする請求項１に記載の情報処理装置。
【請求項３】
前記インプリント情報は、前記基板のインプリント処理順番、前記型のレイアウトの種類、前記インプリント装置の識別子、前記インプリント装置のユニットの識別子、前記基板のロット情報を１つ以上含むことを特徴とする請求項１に記載の情報処理装置。
【請求項４】
前記検査情報は、前記基板の識別子、前記形成不良の有無、前記形成不良の数、前記形成不良の種類、前記形成不良発生領域、前記基板のサイズ、前記基板の形状、前記基板の角度情報を１つ以上含む、ことを特徴とする請求項１に記載の情報処理装置。
【請求項５】
前記領域分割規則には、ショット領域の外周からの距離ごとに領域分割する規則が含まれることを特徴とする請求項１に記載の情報処理装置。
【請求項６】
前記領域分割規則には、ショット領域のインプリント処理順ごとに領域分割する規則が含まれることを特徴とする請求項１に記載の情報処理装置。
【請求項７】
前記領域分割規則には、インプリント処理時の基板の移動方向ごとに領域分割する規則が含まれることを特徴とする請求項１に記載の情報処理装置。
【請求項８】
前記領域分割規則には、前記基板の外周を含むショット領域から前記基板の外周を含まないショット領域のインプリント処理順番ごとに領域分割する規則が含まれることを特徴とする請求項１に記載の情報処理装置。
【請求項９】
前記推定手段は、複数の前記領域別検査情報間の値または変化量からルールベースで領域別形成不良の発生領域と経時変化の特徴を特定することを特徴とする請求項１に記載の情報処理装置。
【請求項１０】
前記推定手段は、１つ以上の領域別形成不良の発生領域と経時変化の特徴の組み合わせから、ルールベースで発生メカニズムを推定することを特徴とする請求項１に記載の情報処理装置。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、情報処理装置、情報処理装置の制御方法、インプリント装置、及び物品の製造方法に関するものである。
続きを表示（約 1,800 文字）【背景技術】
【０００２】
基板（ウエハ）上に微細パターンを形成する技術の一つとして、露光装置を用いて投影光学系を介し、基板に型（マスク）のパターンを転写する方法が用いられている。一方、基板に微細パターンを形成する別の技術として、パターン形成装置（インプリント装置）がある。インプリント装置は、基板上に供給されたインプリント材にパターンが形成された型を接触させて、光を照射することでインプリント材を硬化し、その後インプリント材から型を離すことで基板上のインプリント材にパターンを転写することができる。インプリント材は、例えば光硬化樹脂である。
【０００３】
従来、インプリント装置により転写されたパターンの形成不良要因を推定する方法として、特許文献１に開示の方法がある。特許文献１では、インプリント材に形成されたパターンを複数回撮像し、得られた複数の画像の経時的な変化に基づいて、パターンの形成不良要因が型の破損によるものであるか、型に付着した異物によるものであるかを判定する。
【０００４】
また、特許文献２では、検査対象の形成不良が発生する周期性に着目し、周期性の有無に応じて製造工程の異常の有無を判定する。また、特許文献３では、形成不良の要因を推定するための既知の形成不良判定ルールや、色、サイズ、エッジ鮮明度など形成不良の特性に基づく統計的ルールなど、様々なルールに基づき形成不良を解析、分類している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
特開２０１１－２４０６６２号公報
特開２００７－１９４２６２号公報
特表２００８－５１５２３９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかし、インプリント装置により転写されたパターンの形成不良要因を推定する場合、投影光学系を介し基板にパターンを転写する一般的な露光装置と異なり、インプリント装置によるパターン生成は、インプリント材と型の物理的な接触が発生する。そのため、パターンが転写された基板の特定の領域毎に形成不良の発生連続性や発生間隔などの時系列的な特徴に着目する必要がある。その際、時系列的な特徴を捉えるためには、インプリントされた順番などのインプリント情報を用いることが必要である。
【０００７】
従来、形成不良要因を推定し分類するための特定領域の決定や時系列的な特徴の抽出は、高度な解析技術を持つ技術者が形成不良情報とインプリント順番などのインプリント情報を経験に基づき手動で組み合わせて行っていた。そのため、形成不良の解析、要因の特定に多大な時間を費やす必要があった。
【０００８】
そこで、本発明においては、パターン形成不良の発生メカニズムの推定を効率的に行うことが可能な情報処理装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記目的を達成するために、本発明の一側面としての情報処理装置は、パターンを有する型を用いて、基板上の複数のショット領域に順次インプリント材のパターンを形成するインプリント処理を行うインプリント装置による前記基板上の形成不良における発生メカニズムを推定する情報処理装置において、前記インプリント材のパターンが形成された基板の検査情報を取得する第１の取得手段と、前記型のパターンを前記基板上のショット領域に形成する際のショット領域情報と前記インプリント処理の順番情報を含むインプリント情報を取得する第２の取得手段と、前記インプリント情報に応じて、前記基板の領域を複数の領域に分割する領域分割規則に基づき、複数の基板の検査情報を領域別検査情報に分割する分割手段と、複数の前記領域別検査情報から、形成不良の発生領域と経時変化の特徴を特定し、特定した経時変化の特徴から１つ以上の発生メカニズムを推定する推定手段と、を有する、ことを特徴とする。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、パターン形成不良の発生メカニズムの推定を効率的に行うことが可能な情報処理装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
（【００１１】以降は省略されています）

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