特許ウォッチ

公開番号2025088425
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-06-11
出願番号2023203119
出願日2023-11-30
発明の名称決定方法、調整方法、および物品製造方法
出願人キヤノン株式会社
代理人弁理士法人大塚国際特許事務所
主分類G03F 7/20 20060101AFI20250604BHJP(写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ)
要約【課題】移設前と環境が異なる移設先での露光装置の調整を容易にするために有利な技術を提供する。
【解決手段】投影光学系を有する露光装置を第1環境から第2環境へ移設する場合における前記露光装置の調整量を決定する決定方法は、第1光透過部材を有する第1光学部品が取り付けられた基準状態の前記投影光学系について、前記第1環境での光学性能を計測する計測工程と、前記第1光透過部材と厚さが異なる第2光透過部材を有する第2光学部品が取り付けられた前記基準状態の前記投影光学系について、前記第2環境での光学性能を推定する推定工程と、前記計測工程で計測された光学性能と前記推定工程で推定された光学性能との差が低減するように、前記第2環境において前記投影光学系に前記第2光学部品を取り付ける際の前記第2光透過部材の傾き量を決定する決定工程と、を含む。
【選択図】図9
特許請求の範囲【請求項１】
投影光学系を有する露光装置を第１環境から第２環境へ移設する場合における前記露光装置の調整量を決定する決定方法であって、
第１光透過部材を有する第１光学部品が取り付けられた基準状態の前記投影光学系について、前記第１環境での光学性能を計測する計測工程と、
前記第１光透過部材と厚さが異なる第２光透過部材を有する第２光学部品が取り付けられた前記基準状態の前記投影光学系について、前記第２環境での光学性能を推定する推定工程と、
前記計測工程で計測された光学性能と前記推定工程で推定された光学性能との差が低減するように、前記第２環境において前記投影光学系に前記第２光学部品を取り付ける際の前記第２光透過部材の傾き量を決定する決定工程と、
を含み、
前記投影光学系は、レンズと、前記レンズを駆動する駆動機構とを含み、
前記基準状態は、前記駆動機構により前記レンズを駆動可能なストローク範囲内の基準位置に前記レンズが配置されている状態である、ことを特徴とする決定方法。
続きを表示（約 980 文字）【請求項２】
前記推定工程では、前記計測工程の計測結果、前記第１環境と前記第２環境との気圧差、および、前記第１光透過部材と前記第２光透過部材との厚さの差に基づいて、前記第２光学部品が取り付けられた前記基準状態の前記投影光学系について前記第２環境での光学性能を推定する、ことを特徴とする請求項１に記載の決定方法。
【請求項３】
前記傾き量は、前記投影光学系に対して前記第２光透過部材を前記投影光学系の光軸に沿う第１方向、及び前記第１方向に垂直な第２方向のうちの少なくとも１つの方向の軸回りの回転方向に傾斜させる量を含む、ことを特徴とする請求項１に記載の決定方法。
【請求項４】
前記第２環境は、前記第１環境と気圧が異なる、ことを特徴とする請求項１に記載の決定方法。
【請求項５】
前記第２環境は、前記第１環境と標高が異なる、ことを特徴とする請求項１に記載の決定方法。
【請求項６】
前記第１光学部品は、複数の前記第１光透過部材と、複数の前記第１光透過部材の各々の傾きを変更するための第１変更機構とを含み、
前記第２光学部品は、複数の前記第２光透過部材と、複数の前記第２光透過部材の各々の傾きを変更するための第２変更機構とを含む、
ことを特徴とする請求項１に記載の決定方法。
【請求項７】
前記第１光透過部材および前記第２光透過部材の各々はガラス板である、ことを特徴とする請求項１に記載の決定方法。
【請求項８】
第１環境から第２環境へ移設された露光装置を調整する調整方法であって、
請求項１乃至７のいずれか１項に記載の決定方法で決定された前記露光装置の調整量を取得する取得工程と、
前記取得工程で取得された前記調整量に基づいて、前記第２環境において前記露光装置を調整する調整工程と、
を含むことを特徴とする調整方法。
【請求項９】
請求項８に記載の調整方法で調整された露光装置を用いて基板を露光する露光工程と、
前記露光工程で露光された前記基板を加工する加工工程と、
前記加工工程で加工された前記基板から物品を製造する製造工程と、
を含むことを特徴とする物品製造方法。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、露光装置の調整量を決定する決定方法、露光装置の調整方法、および物品製造方法に関する。
続きを表示（約 2,300 文字）【背景技術】
【０００２】
半導体デバイスやＭＥＭＳデバイスの製造工程であるリソグラフィ工程では、投影光学系を有する露光装置が使用されている。露光装置では、外部環境の変動に連動して投影光学系の光学性能が変化しうるため、半導体デバイス工場内において温度および湿度が制御されている恒温チャンバ内に配置される。しかしながら、当該恒温チャンバ内の気圧については精度よく制御することが困難である。そのため、露光装置では、投影光学系の光学性能を補正するための補正機構が設けられ、当該補正機構により気圧の変動に応じて投影光学系の光学性能が補正されうる。特許文献１には、投影光学系内のレンズを光軸方向に変位させることによって投影光学系の光学性能（倍率）を補正する技術が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
特開昭６２－３５６２０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
露光装置が設置される移設先（出荷先）の地点の環境（例えば標高、気圧）が、露光装置に投影光学系を搭載するなど露光装置の製造が行われる移設前（出荷前）の地点の環境と異なることがある。この場合、移設前の地点と移設先の地点とで投影光学系の光学性能に差が生じうる。このような光学性能の差を低減する方法として、投影光学系に取り付けられる光学部品を交換する方法がある。しかしながら、光学部品の交換だけでは、移設先の地点において投影光学系の光学性能が所望の仕様を満たさず、投影光学系に光学部品を取り付ける際に、投影光学系に対して光学部品を傾けるなどの調整が必要となることがある。
【０００５】
そこで、本発明は、移設前と環境が異なる移設先での露光装置の調整を容易にするために有利な技術を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記目的を達成するために、本発明の一側面としての決定方法は、投影光学系を有する露光装置を第１環境から第２環境へ移設する場合における前記露光装置の調整量を決定する決定方法であって、第１光透過部材を有する第１光学部品が取り付けられた基準状態の前記投影光学系について、前記第１環境での光学性能を計測する計測工程と、前記第１光透過部材と厚さが異なる第２光透過部材を有する第２光学部品が取り付けられた前記基準状態の前記投影光学系について、前記第２環境での光学性能を推定する推定工程と、前記計測工程で計測された光学性能と前記推定工程で推定された光学性能との差が低減するように、前記第２環境において前記投影光学系に前記第２光学部品を取り付ける際の前記第２光透過部材の傾き量を決定する決定工程と、を含み、前記投影光学系は、レンズと、前記レンズを駆動する駆動機構とを含み、前記基準状態は、前記駆動機構により前記レンズを駆動可能なストローク範囲内の基準位置に前記レンズが配置されている状態である、ことを特徴とする。
【０００７】
本発明の更なる目的又はその他の側面は、以下、添付図面を参照して説明される好ましい実施形態によって明らかにされるであろう。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、例えば、移設前と環境が異なる移設先での露光装置の調整を容易にするために有利な技術を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
露光装置の構成例を示す概略図
第１実施形態における投影光学系の調整を説明するための図
投影光学系におけるレンズのストロークバジェットを説明するための図
投影光学系におけるレンズのストロークバジェットを説明するための図
第１実施形態における第２光学部品の構成例１を示す概略図
平面ガラスを保持する第１保持部の構成例を示す概略図
第１実施形態における第２光学部品の構成例２を示す概略図
投影光学系におけるレンズのストロークバジェットを説明するための図
露光装置の調整量の決定方法を示すフローチャート
第２実施形態における露光装置の調整を説明するための図
投影光学系におけるレンズのストロークバジェットを説明するための図
第３実施形態における第２光学部品の第１保持部の構成例を示す概略図
第３実施形態の第１保持部における第１保持部材とその周辺とを上方から見た概略図
第３実施形態の第１保持部における板バネおよび調整ネジの挙動を説明するための図
第５実施形態における第２光学部品の第１保持部の構成例を示す概略図
第５実施形態の第１保持部における変更機構の構成例を示す概略図
第５実施形態の第１保持部の断面を示す概略図
第５実施形態の第１保持部における変更機構の挙動を説明するための図
第６実施形態における第２光学部品の第１保持部の構成例を示す概略図
第６実施形態における第２光学部品の第１保持部の変形例を示す概略図
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下、添付図面を参照して実施形態を詳しく説明する。なお、以下の実施形態は特許請求の範囲に係る発明を限定するものではない。実施形態には複数の特徴が記載されているが、これらの複数の特徴の全てが発明に必須のものとは限らず、また、複数の特徴は任意に組み合わせられてもよい。さらに、添付図面においては、同一若しくは同様の構成に同一の参照番号を付し、重複した説明は省略する。
（【００１１】以降は省略されています）

関連特許