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公開番号2025087498
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-06-10
出願番号2023202197
出願日2023-11-29
発明の名称リソグラフィ装置、リソグラフィ方法及び物品の製造方法
出願人キヤノン株式会社
代理人弁理士法人大塚国際特許事務所
主分類G03F 9/00 20060101AFI20250603BHJP(写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ)
要約【課題】アライメント計測系の計測精度を向上させるのに有利な技術を提供する。
【解決手段】原版を介して基板にパターンを形成するリソグラフィ装置であって、前記原版又は前記基板を保持するステージと、前記ステージに設けられたマークからの光を蓄積して光電変換することにより前記マークの位置を計測するアライメント計測系と、前記アライメント計測系を制御する制御部と、を有し、前記制御部は、前記アライメント計測系における、前記マークからの光を蓄積する蓄積時間と前記マークの位置の計測結果のばらつきの度合いとの関係を示す情報を取得し、前記情報に基づいて、前記アライメント計測系によって前記マークの位置を計測させる処理において前記アライメント計測系に設定すべき前記蓄積時間を決定する、ことを特徴とするリソグラフィ装置を提供する。
【選択図】図4
特許請求の範囲【請求項１】
原版を介して基板にパターンを形成するリソグラフィ装置であって、
前記原版又は前記基板を保持するステージと、
前記ステージに設けられたマークからの光を蓄積して光電変換することにより前記マークの位置を計測するアライメント計測系と、
前記アライメント計測系を制御する制御部と、
を有し、
前記制御部は、
前記アライメント計測系における、前記マークからの光を蓄積する蓄積時間と前記マークの位置の計測結果のばらつきの度合いとの関係を示す情報を取得し、
前記情報に基づいて、前記アライメント計測系によって前記マークの位置を計測させる処理において前記アライメント計測系に設定すべき前記蓄積時間を決定する、
ことを特徴とするリソグラフィ装置。
続きを表示（約 1,600 文字）【請求項２】
前記情報は、前記関係を近似して表す関数を含み、
前記関数は、前記ばらつきの度合いが極小値となる複数の極小点を含み、
前記制御部は、前記複数の極小点に基づいて、前記処理において前記アライメント計測系に設定すべき前記蓄積時間を決定する、
ことを特徴とする請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項３】
前記制御部は、前記複数の極小点のうち、第１極小点と、前記第１極小点に最も近い第２極小点との差分である蓄積時間差の整数倍を、前記処理において前記アライメント計測系に設定すべき前記蓄積時間として決定する、
ことを特徴とする請求項２に記載のリソグラフィ装置。
【請求項４】
前記制御部は、前記アライメント計測系で蓄積する前記マークからの光の蓄積光量を増加させる場合に、前記蓄積時間が前記蓄積時間差の整数倍で増加するように、前記処理において前記アライメント計測系に設定すべき前記蓄積時間を決定する、ことを特徴とする請求項３に記載のリソグラフィ装置。
【請求項５】
前記制御部は、
前記リソグラフィ装置の装置モードとして、前記基板に形成する前記パターンの精度を優先する第１モード、又は、前記基板に前記パターンを形成する生産性を優先する第２モード、を設定し、
前記第１モードを設定する場合には、前記複数の極小点のうち、第１極小点と、前記第１極小点に最も近い第２極小点との差分である蓄積時間差の整数倍を、前記処理において前記アライメント計測系に設定すべき前記蓄積時間として決定し、
前記第２モードを設定する場合には、前記蓄積時間差にかかわらず、前記処理において前記アライメント計測系に設定すべき前記蓄積時間を決定する、
ことを特徴とする請求項２に記載のリソグラフィ装置。
【請求項６】
前記制御部は、
前記リソグラフィ装置の装置モードとして、前記基板に形成する前記パターンの精度を優先する第１モード、又は、前記基板に前記パターンを形成する生産性を優先する第２モード、を設定し、
前記第１モードを設定する場合には、前記複数の極小点のうち、第１極小点と、前記第１極小点に最も近い第２極小点との差分である蓄積時間差の第１整数倍を、前記処理において前記アライメント計測系に設定すべき前記蓄積時間として決定し、
前記第２モードを設定する場合には、前記蓄積時間差の第２整数倍を、前記処理において前記アライメント計測系に設定すべき前記蓄積時間として決定し、
前記第１整数倍は、前記第２整数倍よりも小さい整数倍である、
ことを特徴とする請求項２に記載のリソグラフィ装置。
【請求項７】
前記整数倍は、１倍から５倍を含む、ことを特徴とする請求項３に記載のリソグラフィ装置。
【請求項８】
前記制御部は、前記アライメント計測系に複数の蓄積時間のそれぞれを設定し、前記複数の蓄積時間のそれぞれが設定された前記アライメント計測系によって前記マークの位置を複数回計測することによって、前記情報を取得する、ことを特徴とする請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項９】
前記情報は、前記関係を近似して表す関数を含み、
前記制御部は、前記関数から前記蓄積時間の周期を求め、当該蓄積時間の周期の整数倍を、前記処理において前記アライメント計測系に設定すべき前記蓄積時間として決定する、
ことを特徴とする請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１０】
前記制御部は、前記情報から前記アライメント計測系の振動の固有周期を求め、当該固有周期の整数倍を、前記処理において前記アライメント計測系に設定すべき前記蓄積時間として決定する、
ことを特徴とする請求項１に記載のリソグラフィ装置。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、リソグラフィ装置、リソグラフィ方法及び物品の製造方法に関する。
続きを表示（約 1,400 文字）【背景技術】
【０００２】
半導体素子などの製造プロセス（リソグラフィ工程）に用いられる露光装置は、基板を保持する基板ステージと、原版のパターンを基板に投影する投影光学系と、を有する。基板ステージは、一般的に、基板に入射する露光光（投影光学系の光軸）に対して垂直な平面に沿って駆動可能に構成されている。
【０００３】
露光装置において、基板上の適切な位置を露光するためには、アライメント計測系によって、基板ステージに配置された基準プレート上のアライメントマークの位置、及び、基板上のアライメントマークの位置を高精度に計測する必要がある。一方、基板ステージを駆動すると、基板ステージを支持する構造体（本体）を介して、アライメント計測系が振動することになる。アライメント計測系と構造体との相対的な振動、或いは、アライメント計測系の内部の振動は、アライメントマークの計測精度を低下させる要因となる。
【０００４】
そこで、アライメント計測系の振動による計測精度への影響を低減させるための技術が提案されている（特許文献１参照）。特許文献１には、基板ステージとアライメント計測系との相対的な位置を複数回計測し、それらの計測データを積和することで、アライメント計測系の計測精度を向上させる技術が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
特開２００５－３２８８７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、従来技術では、基板ステージとアライメント計測系との相対的な位置を計測する計測手段が必要となることに加えて、複数回の計測に要する時間（計測時間）が長くなるため、生産性の低下につながる。
【０００７】
本発明は、このような従来技術の課題に鑑みてなされ、アライメント計測系の計測精度を向上させるのに有利な技術を提供することを例示的目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記目的を達成するために、本発明の一側面としてのリソグラフィ装置は、原版を介して基板にパターンを形成するリソグラフィ装置であって、前記原版又は前記基板を保持するステージと、前記ステージに設けられたマークからの光を蓄積して光電変換することにより前記マークの位置を計測するアライメント計測系と、前記アライメント計測系を制御する制御部と、を有し、前記制御部は、前記アライメント計測系における、前記マークからの光を蓄積する蓄積時間と前記マークの位置の計測結果のばらつきの度合いとの関係を示す情報を取得し、前記情報に基づいて、前記アライメント計測系によって前記マークの位置を計測させる処理において前記アライメント計測系に設定すべき前記蓄積時間を決定する、ことを特徴とする。
【０００９】
本発明の更なる目的又はその他の側面は、以下、添付図面を参照して説明される実施形態によって明らかにされるであろう。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、例えば、アライメント計測系の計測精度を向上させるのに有利な技術を提供する。
【図面の簡単な説明】
（【００１１】以降は省略されています）

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