特許ウォッチ

公開番号2025086299
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-06-06
出願番号2023218249
出願日2023-12-25
発明の名称静電チャック
出願人TOTO株式会社
代理人個人,個人,個人,個人
主分類H01L 21/683 20060101AFI20250530BHJP(基本的電気素子)
要約【課題】ガス穴を通じた絶縁破壊を抑制することのできる静電チャック、を提供する。
【解決手段】静電チャック10は、ガス穴160が形成された誘電体基板100と、誘電体基板100を支持する金属部材であって、ガス穴160と対応する位置にガス穴260が形成されたベースプレート200と、誘電体基板100とベースプレート200との間を接合する接合層300と、を備える。誘電体基板100のうちベースプレート200側の面120には、ベースプレート200に向けて突出する突出部140が形成されている。ガス穴160は突出部140を貫くように形成されている。
【選択図】図2
特許請求の範囲【請求項１】
被吸着物が載置される載置面を有し、第１ガス穴が形成された誘電体基板と、
前記誘電体基板を支持する金属部材であって、第１ガス穴と対応する位置に第２ガス穴が形成されたベースプレートと、
前記誘電体基板と前記ベースプレートとの間を接合する接合層と、を備え、
前記誘電体基板のうち前記ベースプレート側の面には、前記ベースプレートに向けて突出する突出部が形成されており、
前記第１ガス穴は前記突出部を貫くように形成されていることを特徴とする静電チャック。
続きを表示（約 870 文字）【請求項２】
前記第２ガス穴の内部には通気部材が配置されていることを特徴とする、請求項１に記載の静電チャック。
【請求項３】
前記通気部材は、通気性を有する部分である多孔質部と、
通気性を有さない部分であって、前記多孔質部を外周側から囲む緻密部と、を有し、
前記載置面に対し垂直な方向から見た場合には、前記多孔質部は前記第１ガス穴と重なっていることを特徴とする、請求項２に記載の静電チャック。
【請求項４】
前記載置面に対し垂直な方向から見た場合において、
前記緻密部のうち少なくとも一部は前記突出部よりも外側にあることを特徴とする、請求項３に記載の静電チャック。
【請求項５】
一つの前記突出部を複数の前記第１ガス穴が貫くように形成されていることを特徴とする、請求項１に記載の静電チャック。
【請求項６】
前記第１ガス穴のうち前記ベースプレート側の端部における内径は、前記第１ガス穴のうち前記載置面側の端部における内径よりも大きいことを特徴とする、請求項１に記載の静電チャック。
【請求項７】
前記突出部は、前記誘電体基板の他の部分と一体に形成されていることを特徴とする、請求項１に記載の静電チャック。
【請求項８】
前記突出部の先端には面取りが施されていることを特徴とする、請求項１に記載の静電チャック。
【請求項９】
前記ベースプレートのうち、前記接合層を介して前記誘電体基板と対向している表面のことを対向面としたときに、
前記通気部材の一部が、前記対向面から前記誘電体基板側に向けて突出していることを特徴とする、請求項２に記載の静電チャック。
【請求項１０】
前記対向面は絶縁膜で覆われており、
前記通気部材の一部が、前記絶縁膜の表面から前記誘電体基板側に向けて突出していることを特徴とする、請求項９に記載の静電チャック。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は静電チャックに関する。
続きを表示（約 1,400 文字）【背景技術】
【０００２】
例えばエッチング装置等の半導体製造装置には、処理の対象となるシリコンウェハ等の基板を吸着し保持するための装置として、静電チャックが設けられる。静電チャックは、吸着電極が設けられた誘電体基板と、誘電体基板を支持するベースプレートと、を備え、これらが互いに接合された構成を有する。吸着電極に電圧が印加されると静電力が生じ、誘電体基板上に載置された基板が吸着され保持される。
【０００３】
誘電体基板と基板との間の空間には、処理中における基板の温度調整等を目的として、ヘリウム等の不活性ガスが供給される。例えば下記特許文献１に記載されているように、不活性ガスは、ベースプレート及び誘電体基板のそれぞれに形成されたガス穴を通じて上記空間に供給される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
特開２０２０－１０９８０６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
基板の処理中においては、プラズマの入射や吸着電極への電圧印可等に伴って、基板及びその周囲の電位は高くなる。一方、ベースプレートの電位は、半導体製造装置を構成する周辺部材と同じ電位（例えば接地電位）に維持される。このため、ガス穴を通じた経路での絶縁破壊が生じやすくなる。
【０００６】
ガス穴の近傍であって、誘電体基板とベースプレートとが互いに対向している部分においては、両部材の間に、接合層の厚さと同程度の厚さの空間が形成されている。当該厚さは例えば２５０μｍ程度である。パッシェンの法則によれば、ガス穴の内部における不活性ガスの圧力は、上記厚さの空間において、絶縁破壊が比較的生じやすい圧力域となっていることが多い。
【０００７】
本発明はこのような課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、ガス穴を通じた絶縁破壊を抑制することのできる静電チャック、を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決するために、本発明に係る静電チャックは、被吸着物が載置される載置面を有し、第１ガス穴が形成された誘電体基板と、誘電体基板を支持する金属部材であって、第１ガス穴と対応する位置に第２ガス穴が形成されたベースプレートと、誘電体基板とベースプレートとの間を接合する接合層と、を備える。誘電体基板のうちベースプレート側の面には、ベースプレートに向けて突出する突出部が形成されている。第１ガス穴は突出部を貫くように形成されている。
【０００９】
このような構成の静電チャックでは、誘電体基板に突出部が形成されているので、第１ガス穴等の位置において互いに対向する誘電体基板とベースプレートとの間の距離を、接合層の厚さよりも小さくすることができる。誘電体基板とベースプレートとの間の距離を、絶縁破壊が生じない程度に小さくすることで、両部材間の絶縁破壊を十分に抑制することが可能となる。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、ガス穴を通じた絶縁破壊を抑制することのできる静電チャック、を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
（【００１１】以降は省略されています）

関連特許