TOP
|
特許
|
意匠
|
商標
特許ウォッチ
Twitter
他の特許を見る
公開番号
2025076625
公報種別
公開特許公報(A)
公開日
2025-05-16
出願番号
2023188323
出願日
2023-11-02
発明の名称
単結晶製造方法及び黒鉛坩堝
出願人
SECカーボン株式会社
代理人
弁理士法人ユニアス国際特許事務所
主分類
C30B
29/36 20060101AFI20250509BHJP(結晶成長)
要約
【課題】単結晶製造方法を単純化する。
【解決手段】単結晶製造方法は、炭化珪素単結晶を成長させるための種結晶基板を取り付けた台座、及び原料収容空間を有する黒鉛坩堝を準備する、坩堝準備工程と、前記原料収容空間に、加熱合成前の炭素原料と珪素原料を投入する、原料投入工程と、前記原料収容空間と前記種結晶基板の配置される空間とを仕切るように黒鉛シートを配置した状態で前記黒鉛坩堝の蓋を閉じて、前記黒鉛坩堝の加熱準備を行う、加熱準備工程と、前記黒鉛坩堝を加熱して、前記黒鉛坩堝内で、前記炭素原料と前記珪素原料から炭化珪素前駆体を加熱合成し、加熱合成した前記炭化珪素前駆体を昇華させて前記炭化珪素単結晶を成長させる、加熱工程と、を含み、前記黒鉛シートの厚みは、前記加熱工程の途中で前記黒鉛シートが開口する程度の厚みである。
【選択図】図2A
特許請求の範囲
【請求項1】
炭化珪素単結晶を成長させるための種結晶基板を取り付けた台座、及び原料収容空間を有する黒鉛坩堝を準備する、坩堝準備工程と、
前記原料収容空間に、加熱合成前の炭素原料と珪素原料を投入する、原料投入工程と、
前記原料収容空間と前記種結晶基板の配置される空間とを仕切るように黒鉛シートを配置した状態で前記黒鉛坩堝の蓋を閉じて、前記黒鉛坩堝の加熱準備を行う、加熱準備工程と、
前記黒鉛坩堝を加熱して、前記炭素原料と前記珪素原料から炭化珪素前駆体を加熱合成し、その後、加熱合成した前記炭化珪素前駆体を昇華させて前記種結晶基板上に前記炭化珪素単結晶を成長させる、加熱工程と、を含み、
前記黒鉛シートの厚みは、前記加熱工程の途中で前記黒鉛シートが開口する程度の厚みであることを特徴とする、単結晶製造方法。
続きを表示(約 730 文字)
【請求項2】
前記加熱工程は、
前記黒鉛坩堝が配置される加熱炉内を真空にする段階と、
前記真空にする段階より前に、前記加熱炉内を前記真空より高い圧力にする段階と、
を含むことを特徴とする、請求項1に記載の単結晶製造方法。
【請求項3】
前記真空にする段階は10kPa以下であり、前記真空より高い圧力にする段階は50kPa以上であることを特徴とする、請求項2に記載の単結晶製造方法。
【請求項4】
前記黒鉛シートは、可撓性黒鉛シートであることを特徴とする、請求項1~3のいずれか一項に記載の単結晶製造方法。
【請求項5】
前記黒鉛シートの厚みは、前記加熱工程の終了時に前記黒鉛シートの90wt%以上が消滅する程度の厚みであることを特徴とする、請求項1~3のいずれか一項に記載の単結晶製造方法。
【請求項6】
原料収容空間を有する容器と、
内部に種結晶基板を取り付ける種結晶取付け部を有する蓋と、
前記原料収容空間と前記種結晶取付け部のある空間とを仕切るように配置された、黒鉛シートと、を備え、
炭素原料と珪素原料から炭化珪素前駆体を生成する加熱合成と、前記炭化珪素前駆体を昇華させて前記種結晶基板上での単結晶成長の両方を行うことを特徴とする、黒鉛坩堝。
【請求項7】
前記容器と前記蓋で前記黒鉛シートを挟み込むようにして、前記黒鉛シートが固定されることを特徴とする、請求項6に記載の黒鉛坩堝。
【請求項8】
前記蓋を前記容器にねじ込むように前記容器が前記蓋で閉じられることを特徴とする、請求項7に記載の黒鉛坩堝。
発明の詳細な説明
【技術分野】
【0001】
本発明は、加熱合成前の炭素原料と珪素原料から、炭化珪素の単結晶を製造するための単結晶製造方法と、当該製造方法に使用する黒鉛坩堝に関する。
続きを表示(約 1,900 文字)
【背景技術】
【0002】
従来から、原料を投入した坩堝を加熱して、昇華再結晶法により炭化珪素単結晶を製造する方法が広く知られている。炭化珪素単結晶を製造するための原料として、多結晶状態の炭化珪素を必要とする。多結晶状態の炭化珪素は炭化珪素単結晶の前駆体ともいえるから、本明細書では、炭化珪素単結晶を製造するための原料を「炭化珪素前駆体」ということがある。
【0003】
炭化珪素前駆体を製造するためには、炭化珪素単結晶を製造する坩堝とは別の坩堝を準備し、準備した別の坩堝に原料珪素単体と炭素単体を投入して加熱合成することが必要になる。
【0004】
特許文献1には、原料として、珪素単体と炭素単体を収容した、炭化珪素前駆体製造用の坩堝を加熱し、昇華再結晶法により炭化珪素多結晶インゴット(炭化珪素前駆体)を形成する方法、および、炭化珪素多結晶インゴットのある坩堝の蓋部のみを、単結晶製造用坩堝の一部として使用し、昇華再結晶法により炭化珪素単結晶を製造する方法が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0005】
特開2012-136391号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0006】
従来から広く知られている炭化珪素単結晶の製造方法では、炭化珪素前駆体製造用の坩堝と、炭化珪素単結晶製造用の坩堝という、二つの坩堝を必要とする。そして、炭化珪素前駆体を炭化珪素前駆体製造用の坩堝から取り出し単結晶製造用坩堝に投入する、移し替え作業が必要となる。よって、この製造方法では、二つの坩堝の準備費用、原料の移し替え作業と2回の加熱を行うための時間と費用が発生する。
【0007】
特許文献1に記載の方法では、坩堝の部品の一部を共通化することにより、原料を移し替える作業が省略できると考えられる。しかしながら、特許文献1に記載の方法であっても、加熱炉内を一旦常温に戻して、坩堝を組み換える必要がある。よって、特許文献1に記載の方法は、依然として、炭化珪素前駆体を製造するための加熱工程と、単結晶成長させるための加熱工程という、2回の加熱を行うための時間と費用が発生する。他にも、特許文献1に記載の方法では、坩堝の共通化されない部品の準備費用と、坩堝の組み替え作業を行うための時間と費用が発生する。
【0008】
本発明が解決しようとする課題は、単結晶製造方法を単純化すること、及び単純化した単結晶製造方法を実現するための黒鉛坩堝を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【0009】
本発明は、単結晶製造方法の発明であって、
炭化珪素単結晶を成長させるための種結晶基板を取り付けた台座、及び原料収容空間を有する黒鉛坩堝を準備する、坩堝準備工程と、
前記原料収容空間に、加熱合成前の炭素原料と珪素原料を投入する、原料投入工程と、
前記原料収容空間と前記種結晶基板の配置される空間とを仕切るように黒鉛シートを配置した状態で前記黒鉛坩堝の蓋を閉じて、前記黒鉛坩堝の加熱準備を行う、加熱準備工程と、
前記黒鉛坩堝を加熱して、前記炭素原料と前記珪素原料から炭化珪素前駆体を加熱合成し、その後、加熱合成した前記炭化珪素前駆体を昇華させて前記種結晶基板上に前記炭化珪素単結晶を成長させる、加熱工程と、を含み、
前記黒鉛シートの厚みは、前記加熱工程の途中で前記黒鉛シートが開口する程度の厚みである。
【0010】
前記単結晶製造方法では、加熱合成前の炭素原料と珪素原料から、炭化珪素の単結晶の製造までを、一貫して行う黒鉛坩堝を使用する。前記加熱工程では、一つの黒鉛坩堝の中で、前記炭素原料と前記珪素原料を加熱合成して炭化珪素前駆体を得ること、及び、昇華再結晶法により、前記炭化珪素前駆体から前記炭化珪素単結晶を得ること、の両方を行う。前記加熱工程において、黒鉛シートが開口するまでは加熱合成が行われ、黒鉛シートが開口した後は、結晶成長が行われる。黒鉛シートの厚みは、加熱工程の途中で、黒鉛坩堝の外から前記黒鉛シートに機械的な力を与えなくても、前記黒鉛シートが熱により自然と開口するような厚みに設定されている。「加熱工程の途中で前記黒鉛シートが開口する程度の厚み」であるか否かは、例えば、黒鉛シートを配置した黒鉛坩堝を所定時間、実際の加熱温度で加熱することで確認できる。
(【0011】以降は省略されています)
この特許をJ-PlatPatで参照する
関連特許
SECカーボン株式会社
坩堝
1か月前
SECカーボン株式会社
結晶成長装置
15日前
株式会社プロテリアル
SiCエピタキシャル基板
3か月前
学校法人 東洋大学
マルチカラー結晶の結晶成長方法
1日前
株式会社東芝
ウエーハ及びその製造方法
1か月前
信越半導体株式会社
シリコン単結晶製造装置
4か月前
株式会社レゾナック
SiCエピタキシャルウェハ
5日前
住友金属鉱山株式会社
圧電性酸化物単結晶基板の製造方法
2日前
株式会社信光社
光学部品および光学部品の製造方法
4か月前
信越半導体株式会社
3C-SiC膜の結晶性評価方法
1か月前
旭化成株式会社
結晶の製造方法、六方晶系半導体結晶及び素子
4日前
住友化学株式会社
窒化物結晶基板の製造方法および剥離中間体
2か月前
国立大学法人豊橋技術科学大学
ダイヤモンド構造体の集積方法
4か月前
パナソニックホールディングス株式会社
III族窒化物半導体基板
5か月前
株式会社豊田中央研究所
種結晶基板および種結晶基板付黒鉛サセプタ
1か月前
株式会社SUMCO
シリコンウェーハ及びその製造方法
4か月前
株式会社プロテリアル
炭化珪素単結晶の製造方法
1か月前
信越半導体株式会社
エピタキシャルウェーハ及びその製造方法
2か月前
住友化学株式会社
窒化物結晶基板の製造方法、および窒化物結晶基板
15日前
株式会社レゾナック
SiC基板及びSiCエピタキシャルウェハ
2か月前
TDK株式会社
橙色蛍光体の製造方法および蛍光体
2か月前
SECカーボン株式会社
SiC単結晶製造装置
3か月前
SECカーボン株式会社
結晶成長装置の設計方法
3か月前
SECカーボン株式会社
炭化珪素原料の製造方法及び炭化珪素単結晶の製造方法
2か月前
株式会社プロテリアル
半導体基板およびその製造方法
1か月前
株式会社ディスコ
ダイヤモンド基板の製造方法
2か月前
株式会社ディスコ
ダイヤモンド基板の製造方法
2か月前
株式会社レゾナック
SiCインゴット及びSiCインゴットの製造方法
8日前
シアメン タングステン カンパニー リミテッド
結晶成長方法および結晶成長装置
3か月前
SECカーボン株式会社
単結晶製造方法及び黒鉛坩堝
1日前
信越半導体株式会社
ダイヤモンド基板及びダイヤモンド基板の製造方法
2か月前
株式会社クリスタルシステム
相平衡状態図の作成方法
4か月前
Patentix株式会社
積層構造体、半導体装置、電子機器及びシステム
1か月前
Patentix株式会社
積層構造体、半導体装置、電子機器及びシステム
1か月前
Patentix株式会社
積層構造体、半導体装置、電子機器及びシステム
1か月前
Patentix株式会社
積層構造体、半導体装置、電子機器及びシステム
1か月前
続きを見る
他の特許を見る