特許ウォッチ

公開番号2025075106
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-05-15
出願番号2023181977
出願日2023-10-23
発明の名称超純水製造装置及びその運用方法
出願人オルガノ株式会社
代理人個人,個人
主分類C02F 1/44 20230101AFI20250508BHJP(水,廃水,下水または汚泥の処理)
要約【課題】RO膜装置やEDIの濃縮水を有効利用することができる超純水製造装置を提供する。
【解決手段】超純水製造装置1は、一次純水を製造する一次純水系1aを備え、一次純水から超純水を製造する。一次純水系1aは、逆浸透膜装置6と電気再生式脱イオン装置8との少なくとも一方の装置と、少なくとも一方の装置から排出された濃縮水の少なくとも一部を含む設備用水を、超純水製造装置1の外部の設備に供給する配管20と、を有する。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項１】
一次純水を製造する一次純水系を備え、前記一次純水から超純水を製造する超純水製造装置であって、
前記一次純水系は、
逆浸透膜装置と電気再生式脱イオン装置との少なくとも一方の装置と、
前記少なくとも一方の装置から排出された濃縮水の少なくとも一部を含む設備用水を、当該超純水製造装置の外部の設備に供給する配管と、を有する、超純水製造装置。
続きを表示（約 1,900 文字）【請求項２】
前記一次純水系は、前記逆浸透膜装置を有し、
前記設備用水のｐＨが中性に近づくように、または、前記設備用水の導電率が所定の値未満になるように、前記逆浸透膜装置への供給水のｐＨを調整するｐＨ調整装置を有する、請求項１に記載の超純水製造装置。
【請求項３】
前記逆浸透膜装置は、第１の逆浸透膜装置と、該第１の逆浸透膜装置の透過水が供給される第２の逆浸透膜装置と、を有し、
前記ｐＨ調整装置は、前記設備用水のｐＨが中性に近づくように、または、前記設備用水の導電率が所定の値未満になるように、前記第１の逆浸透膜装置または前記第２の逆浸透膜装置への供給水のｐＨを調整する、請求項２に記載の超純水製造装置。
【請求項４】
前記ｐＨ調整装置は、
前記第１の逆浸透膜装置への供給水にアルカリ剤を添加するアルカリ添加手段と、
前記第２の逆浸透膜装置への供給水に酸剤を添加する酸添加手段と、を有し、
前記第２の逆浸透膜装置への供給水のｐＨが６以上８．５以下になるように前記アルカリ剤または前記酸剤の添加量を調整する、請求項３に記載の超純水製造装置。
【請求項５】
前記ｐＨ調整装置は、
前記第１の逆浸透膜装置への供給水に酸剤を添加する酸添加手段と、
前記第２の逆浸透膜装置への供給水にアルカリ剤を添加するアルカリ添加手段と、を有し、
前記第２の逆浸透膜装置への供給水のｐＨが６以上８．５以下になるように、前記酸剤または前記アルカリ剤の添加量を調整する、請求項３に記載の超純水製造装置。
【請求項６】
前記一次純水系は、前記電気再生式脱イオン装置を有し、
前記逆浸透膜装置は、第１の逆浸透膜装置を含む一段構造、または、第１の逆浸透膜装置と、該第１の逆浸透膜装置の透過水が供給される第２の逆浸透膜装置と、を含む二段構造を有し、
前記一段構造の前記第１の逆浸透膜装置の透過水または前記二段構造の前記第２の逆浸透膜装置の透過水が前記電気再生式脱イオン装置に供給され、
前記設備用水は、前記電気再生式脱イオン装置の濃縮水、または、前記電気再生式脱イオン装置の濃縮水および前記一段構造の前記第１の逆浸透膜装置もしくは前記二段構造の前記第２の逆浸透膜装置の濃縮水を含む、請求項２に記載の超純水製造装置。
【請求項７】
前記ｐＨ調整装置は、前記電気再生式脱イオン装置の処理水または前記一段構造の前記第１の逆浸透膜装置もしくは前記二段構造の前記第２の逆浸透膜装置の透過水の水質が要求水質を満たし、かつ、前記設備用水のｐＨが中性に近づくように、または、前記設備用水の導電率が所定の値未満になるように、前記一段構造の前記第１の逆浸透膜装置もしくは前記二段構造の前記第２の逆浸透膜装置への供給水のｐＨを調整する、請求項６に記載の超純水製造装置。
【請求項８】
前記一次純水系は、前記電気再生式脱イオン装置を有し、前記電気再生式脱イオン装置は、供給水に対する処理水の比を示す回収率の調整が可能であり、
前記設備用水のｐＨが中性に近づくように、または、前記設備用水の導電率が所定の値未満になるように、前記電気再生式脱イオン装置の前記回収率を調整する回収率調整装置を有する、請求項１に記載の超純水製造装置。
【請求項９】
一次純水を製造する一次純水系を備え、前記一次純水から超純水を製造する超純水製造装置の運転方法であって、
前記一次純水系は、逆浸透膜装置と電気再生式脱イオン装置との少なくとも一方の装置を有しており、
前記少なくとも一方の装置から排出された濃縮水の少なくとも一部を含む設備用水を、前記超純水製造装置の外部の設備に供給する工程と、
前記設備用水のｐＨが中性に近づくように、または、前記設備用水の導電率が所定の値未満になるように、前記一次純水系を運転する工程と、を含む、超純水製造装置の運転方法。
【請求項１０】
前記一次純水系は、前記逆浸透膜装置を有し、前記逆浸透膜装置は、第１の逆浸透膜装置と、該第１の逆浸透膜装置の透過水が供給される第２の逆浸透膜装置と、を有し、
前記一次純水系を運転する工程は、
前記第１の逆浸透膜装置への供給水にアルカリ剤を添加して、該供給水のｐＨを１０以上にする工程と、
前記第２の逆浸透膜装置への供給水に酸剤を添加して、該供給水のｐＨを６以上８．５以下にする工程と、
を含む、請求項９に記載の超純水製造装置の運転方法。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、超純水製造装置及びその運用方法に関する。
続きを表示（約 2,000 文字）【背景技術】
【０００２】
超純水製造装置は、一般的に、一次純水を製造する一次純水系と、一次純水をさらに処理して超純水を製造するサブシステム（二次純水系）とを有する。一次純水系は、原水の水質や一次純水としての要求水質等により、逆浸透（ＲＯ）膜装置や、電気再生式脱イオン装置（ＥＤＩ）、紫外線酸化装置、イオン交換樹脂充填装置、膜脱気装置などを備える。一次純水系として、例えば、被処理水をＲＯ膜装置に供給し、ＲＯ膜装置の透過水をＥＤＩで処理するＲＯ－ＥＤＩシステムが広く知られている。
【０００３】
特許文献１には、被処理水を軟化装置、第１のＲＯ膜装置、及び第２のＲＯ膜装置に順に通水して純化する水処理装置が記載されている。第１のＲＯ膜装置への供給水にアルカリが添加され、第２のＲＯ膜装置への供給水に酸が添加される。これにより、第２のＲＯ膜装置から高い水質の処理水を得ることができる。
特許文献２には、純水の製造に用いたＥＤＩの濃縮水を被処理水に戻す技術が記載されている。
特許文献３には、ＲＯ処理水中のイオンを除去する脱イオン部と、ＲＯ処理水中の溶存気体を脱気する膜式脱気部と、を有し、脱イオン部の濃縮水を膜式脱気部に付設した水封式真空ポンプの封水として用いる純水製造装置が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
特開２００２－１９２１５２号公報
特開平１１－２４４８５４号公報
特開２００４－１６０３８０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
半導体や電子部品などを製造する工場では、半導体や電子部品を洗浄するために、高純度の洗浄水が必要とされる。また、このような工場では、工場内の製造設備の洗浄用水や補給水、スクラバ用水といった設備用水も必要とされている。
上述した超純水製造装置において、製造された超純水は、上記の高純度の洗浄水として用いることができる。しかし、ＲＯ膜装置やＥＤＩの濃縮水は、廃棄または超純水製造装置内で再処理されるだけで、超純水製造装置の外部の設備への濃縮水の有効利用は行われていなかった。
【０００６】
本発明の目的は、上記問題を解決し、ＲＯ膜装置やＥＤＩの濃縮水を有効利用することができる超純水製造装置及びその運転方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記目的を達成するため、本発明の一態様によれば、一次純水を製造する一次純水系を備え、前記一次純水から超純水を製造する超純水製造装置であって、前記一次純水系は、逆浸透膜装置と電気再生式脱イオン装置との少なくとも一方の装置と、前記少なくとも一方の装置から排出された濃縮水の少なくとも一部を含む設備用水を、当該超純水製造装置の外部の設備に供給する配管と、を有する、超純水製造装置が提供される。
【０００８】
本発明の別の態様によれば、一次純水を製造する一次純水系を備え、前記一次純水から超純水を製造する超純水製造装置の運転方法であって、前記一次純水系は、逆浸透膜装置と電気再生式脱イオン装置との少なくとも一方の装置を有しており、前記少なくとも一方の装置から排出された濃縮水の少なくとも一部を含む設備用水を、前記超純水製造装置の外部の設備に供給する工程と、前記設備用水のｐＨが中性に近づくように、または、前記設備用水の導電率が所定の値未満になるように、前記一次純水系を運転する工程と、を含む、超純水製造装置の運転方法が提供される。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、ＲＯ膜装置やＥＤＩの濃縮水を超純水製造装置の外部の設備で有効利用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
本発明の第１の実施形態による超純水製造装置の構成を示すブロック図である。
比較例である超純水製造装置の構成示すブロック図である。
本発明の第２の実施形態による超純水製造装置の構成を示すブロック図である。
本発明の第３の実施形態による超純水製造装置の構成を示すブロック図である。
本発明の第４の実施形態による超純水製造装置の構成を示すブロック図である。
本発明の第５の実施形態による超純水製造装置の構成を示すブロック図である。
本発明の第６の実施形態による超純水製造装置の構成を示すブロック図である。
本発明の第７の実施形態による超純水製造装置の構成を示すブロック図である。
本発明の第８の実施形態による超純水製造装置の構成を示すブロック図である。
【発明を実施するための形態】
（【００１１】以降は省略されています）

関連特許