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公開番号
2025044485
公報種別
公開特許公報(A)
公開日
2025-04-02
出願番号
2023152074
出願日
2023-09-20
発明の名称
電鋳物の製造方法及び時計の部品
出願人
シチズン時計株式会社
代理人
弁護士法人クレオ国際法律特許事務所
主分類
C25D
1/00 20060101AFI20250326BHJP(電気分解または電気泳動方法;そのための装置)
要約
【課題】電鋳物の製造方法において、めっきを成長させる凹部の底部の角部の鋭利の度合いを緩和し、しかも、角部への処理を手作業によらずに行う。
【解決手段】電鋳物100の製造方法において、導電性の基板10の上に、電鋳物100の形状に対応するフォトレジスト層20を形成し、フォトレジスト層20が形成されていない基板10にスパッタリングを行って、基板20の導電層12から導電性材料を飛散させて、飛散した導電性材料をフォトレジスト層20の側面21aに付着させ、湿式めっきにより、フォトレジスト層20が形成されていない領域である空洞部23における導電層12及び側面21に付着した導電層12aから、金属を析出させて電鋳物100を形成し、フォトレジスト層20を除去して電鋳物100を製造する。
【選択図】図3
特許請求の範囲
【請求項1】
導電性の基板の上に、電鋳物の形状に対応する絶縁体層を形成し、
前記基板上の、前記絶縁体層が形成されていない前記基板が露出した領域に、スパッタリングを行って、前記基板から導電性材料を飛散させて、飛散した前記導電性材料を前記絶縁体層の側面に付着させ、
湿式めっきにより、前記絶縁体層が形成されていない領域における前記基板及び前記側面に付着した前記導電性材料から、金属を析出させて前記電鋳物を形成し、
前記絶縁体層を除去して前記電鋳物を製造する電鋳物の製造方法。
続きを表示(約 970 文字)
【請求項2】
導電性の基板の上に、電鋳物の形状に対応する絶縁体層を形成し、
前記基板上の、前記絶縁体層が形成されていない前記基板が露出した領域に、スパッタリングを行って、前記基板から導電性材料を飛散させて、飛散した前記導電性材料を前記絶縁体層の側面に付着させ、
前記基板が露出した領域に湿式めっきを施して、露出した前記基板の上及び前記絶縁体層の側面に付着した前記導電性材料の上に犠牲層を形成し、
次いで、別の湿式めっきにより、前記犠牲層から金属を析出させて前記電鋳物を形成し、
前記絶縁体層を除去して前記電鋳物を製造する電鋳物の製造方法。
【請求項3】
前記絶縁体層を除去した後、前記犠牲層の周縁部を除去して、前記電鋳物の下部の周縁を、前記犠牲層よりも外側に突出した庇を形成し、
その後、乾式めっき又は湿式めっきを施して、前記電鋳物の側面及び上面に膜を形成し、
その後、前記犠牲層を除去する、請求項2に記載の電鋳物の製造方法。
【請求項4】
前記絶縁体層が、複数の前記電鋳物の形状に対応して形成され、
前記湿式めっきにより、前記絶縁体層が形成されていない領域から前記絶縁体層の上面にあふれ出した複数の前記電鋳物を、前記絶縁体層の上面で連結して一体化した電鋳体を形成する、請求項2に記載の電鋳物の製造方法。
【請求項5】
導電性の基板の上に、電鋳物の形状に対応する絶縁体層を形成し、
前記基板上の、前記絶縁体層が形成されていない前記基板が露出した領域に、湿式めっきを施して、露出した前記基板の上に導電性の犠牲層を形成し、
形成された前記犠牲層にスパッタリングを行って、前記犠牲層から導電性材料を飛散させて、飛散した前記導電性材料を前記絶縁体層の側面に付着させ、
湿式めっきにより、前記絶縁体層が形成されていない領域における前記犠牲層及び前記側面に付着した前記導電性材料から、金属を析出させて前記電鋳物を形成し、
前記絶縁体層を除去して前記電鋳物を製造する電鋳物の製造方法。
【請求項6】
請求項1から4のうちいずれか1項に記載の電鋳物の製造方法によって製造された電鋳物としての時計の部品。
発明の詳細な説明
【技術分野】
【0001】
本発明は、電鋳物の製造方法及び時計の部品に関する。
続きを表示(約 1,400 文字)
【背景技術】
【0002】
例えば、時計の部品等微小な形状の構造物を製造する技術として、電気鋳造(電気めっき法による金属製品の製造・補修又は複製方法;以下、電鋳という。)が知られている。そして、電鋳の製造工程において、LIGA(Lithographie,Galvanoformung,Abformung)工法の適用が広がっている。LIGA工法は、基板にフォトレジスト層を形成し、そのフォトレジスト層に、可溶部と不溶部のパターンを形成することで、めっきの電鋳物を形成する型を製造する。LIGA工法で製造された型(電鋳型)は、微細で高精度な輪郭の型を形成することができる。
【0003】
ここで、電鋳型を用いて、上面や下面の外周縁部に傾斜面を有する形状の電鋳物を製造する場合、電鋳型の底面に加えて、底面に隣接する側面にまで導電性を持たせることがある。
【0004】
例えば、電鋳型は、フォトレジストの可溶部と不溶部を形成する際に、光(紫外線等)を直線的に照射させるため、その後の現像処理で形成された凹状の空間の底部の角部(電鋳物の下面と側面とが接する部分に相当)は鋭利となる。
【0005】
そのため、電鋳型を用いて製造された電鋳物の角部も鋭利となり、電鋳物が他の備品と組み合わされた際に、その他の部品が電鋳物の鋭利な角部によって削られて、所望とする仕様を得られない恐れがある。そこで、LIGA工程の後工程において、電鋳物をバレル研磨等して、電鋳物の下面の角部を傾斜面としたり、角部に丸みを形成したりする等の処理が必要であった。
【0006】
しかし、例えば、角部の鋭利性を低下させるために、後工程でバレル研磨を行う場合は、電鋳物の形状、例えば細長い部分を有する秒停止レバー部品等は、バレル研磨の撹拌によって、部品同士が絡まったり、変形したりする恐れがあり、また、弾性を持たせるために薄く形成された耐振押さえばね部品等は変形する恐れがあった。
【0007】
そこで、LIGA工法の工程中において、電鋳物となるめっきを成長させる凹状の空間(凹部)の底部の角に、マイクロシリンジやピペットを用いた手作業で、導電性の硬化剤を配置する技術が提案されている(例えば、特許文献1参照)。
【0008】
特許文献1によって提案された技術は、凹部の角部に導電性の硬化剤が配置されたことで、電鋳型の底面に加えて、隣接する側面の一部にまで導電性を持たせ、これにより、電鋳物の下面の角部を傾斜面で形成し又は角部を丸めることができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0009】
特許第4530263号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0010】
しかし、上述の提案された技術は、電鋳型における凹部の間口の幅が狭く、かつ凹部の深さが深い高アスペクト比の場合は、手作業で、凹部の底部における角部に、硬化剤を正確に配置することが難しく、また、手作業に代えて装置を用いた自動化も難しい。さらに、めっきの起点となる導電性のシードメタルを形成した場合、凹部における底部の角部の導電性の硬化剤よりも、陽極に近い側壁に形成したシードメタルの方が、めっきの成長が早く進み、電鋳物の内部に不要な空洞(ボイド)が形成される恐れがあった。
(【0011】以降は省略されています)
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