特許ウォッチ

公開番号2025042229
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-03-27
出願番号2023149109
出願日2023-09-14
発明の名称めっき装置およびめっき方法
出願人株式会社SCREENホールディングス
代理人個人,個人
主分類C25D 17/00 20060101AFI20250319BHJP(電気分解または電気泳動方法;そのための装置)
要約【課題】フェースアップ状態で支持された基板の上面にめっき処理を施す技術において、特殊な陽極材料を用いなくても、陽極スライムによるめっき皮膜の品質低下を防止する。
【解決手段】本発明は、矩形の基板の少なくとも一方主面をめっきするめっき装置であって、基板の上方に配置されるアノード電極は、隔離槽により処理槽内のめっき液とは隔離される。隔離槽の底部は電解隔膜で構成されており、その内部の液体にアノード電極を浸漬する。アノード電極から発生する陽極スライムは電解隔膜で遮蔽され、基板に付着しない。隔離槽を傾斜させる機構を設けることにより、隔離槽内の液体を効率よく排出することが可能であり、電解隔膜に陽極スライムが堆積することが防止される。
【選択図】図8

特許請求の範囲【請求項１】
平板状の基板の少なくとも一方主面をめっきするめっき装置であって、
めっき液を貯留する処理槽と、
前記処理槽内で、前記一方主面を上向きにした水平姿勢で前記基板を保持する保持部と、
前記保持部に保持される前記基板の前記一方主面の一部に接触するカソード電極と、
前記保持部に保持される前記基板の上方に配置され前記一方主面に対向するアノード電極と、
前記アノード電極と前記カソード電極とに接続される電源部と、
前記アノード電極の側方および下方を取り囲んで前記処理槽内で前記めっき液から前記アノード電極を隔離する隔離部と
を備え、
前記隔離部は、少なくとも底部が電解隔膜で構成され内部空間に前記アノード電極を収容する箱型の隔離槽と、
前記隔離槽の姿勢を、前記底部が水平な水平姿勢と前記底部が水平面に対し傾斜する傾斜姿勢との間で切り替える傾斜機構と、
前記内部空間へ液体を供給して前記アノード電極を前記液体に浸漬させる供給部と、
前記傾斜姿勢の前記隔離槽から前記液体を排出する排出部と
を有する、めっき装置。
続きを表示（約 920 文字）【請求項２】
前記電解隔膜は、多孔質膜またはイオン交換樹脂膜である、請求項１に記載のめっき装置。
【請求項３】
前記隔離槽の側壁のうち、前記傾斜姿勢において上下方向の位置が最も低くなる位置に排出口となる貫通孔が設けられ、
前記排出部は、前記排出口から前記液体を排出する、請求項１または２に記載のめっき装置。
【請求項４】
前記隔離槽は、前記内部空間を側方から取り囲む４つの前記側壁により平面視において矩形形状に形成され、前記排出口は、４つの前記側壁のうち前記傾斜姿勢において上下方向の位置が最も低くなる１つの前記側壁に設けられる、請求項３に記載のめっき装置。
【請求項５】
前記供給部へ前記めっき液を送出する供給源を備え、
前記供給源と前記供給部とを接続する配管の少なくとも一部が可撓性配管である、請求項１に記載のめっき装置。
【請求項６】
前記排出口から排出される前記液体を回収する回収部を備え、
前記排出口と前記回収部とを接続する配管の少なくとも一部が可撓性配管である、請求項３に記載のめっき装置。
【請求項７】
平板状の基板の少なくとも一方主面をめっきするめっき方法であって、
めっき液を貯留する処理槽内で、前記一方主面を上向きにした水平姿勢で前記基板を保持する工程と、
前記保持部に保持される前記基板の前記一方主面の一部にカソード電極を接触させる一方、前記基板の上方に前記一方主面に対向してアノード電極を配置する工程と、
前記アノード電極と前記カソード電極との間に電圧を印加する工程と
を備え、
前記アノード電極は、少なくとも底部が電解隔膜で構成された隔離槽により側方および下方が取り囲まれて前記めっき液から隔離されるとともに、前記隔離槽に貯留された液体に浸漬された状態で前記電圧が印加され、
前記電圧の印加終了後に、前記隔離槽の姿勢を水平姿勢から傾斜姿勢に変化させ、前記隔離槽の側壁のうち前記傾斜姿勢において上下方向の位置が最も低くなる位置から前記液体を排出する、めっき方法。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
この発明は、例えばプリント配線基板やガラス基板等の矩形基板の少なくとも一方主面をめっきするめっき装置およびめっき方法に関するものである。
続きを表示（約 1,700 文字）【背景技術】
【０００２】
半導体基板、プリント配線基板、ガラス基板等の各種基板の表面に対し、めっきにより金属薄膜を形成する技術が広く用いられている。例えば特許文献１に記載のめっき装置では、被めっき物である基板がフェースアップ状態で水平姿勢に保持され、めっき液中に浸漬された基板の上方にアノード電極が配置される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
特開２００３－１２９２８６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
例えば電解銅めっきの場合のようにアノード電極として金属材料を用いる場合、処理の進行に伴って、金属材料がめっき液中に溶け出してゆく。このとき、液中に電気化学的に溶解せずアノード電極から遊離する残渣（陽極スライムとも呼ばれる）が生じることが知られている。特許文献１に記載の従来技術では、アノード電極から遊離した残渣はめっき液中で沈降し、下方にフェースアップ状態で支持された基板の上面に付着することになる。このことがめっき皮膜の品質を低下させる原因となり得る。
【０００５】
この問題に関して、アノード電極材料である金属素材に陽極スライムの生成を抑制する化学物質を添加する技術や、不溶解性陽極を用い、めっき皮膜の材料となる金属イオンを外部から塩として供給する技術も実用化されている。
【０００６】
しかしながら、これらの技術においては、陽極として特別な材料を使用したり、金属イオン源となる化学物質を別途用意したりする必要があり、また本来の電気化学反応に必要のない物質がめっき皮膜に混入しその品質を低下させることもあり得る。これらのことから、特殊な陽極材料や金属塩を用いなくても、陽極スライムの影響によるめっき皮膜の品質低下を防止することのできる技術が求められる。
【０００７】
この発明は上記課題に鑑みなされたものであり、フェースアップ状態で支持された基板の上面にめっき処理を施す技術において、特殊な陽極材料を用いなくても、陽極スライムによるめっき皮膜の品質低下を防止することのできる技術を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の一の態様は、平板状の基板の少なくとも一方主面をめっきするめっき装置である。このめっき装置は、めっき液を貯留する処理槽と、前記処理槽内で、前記一方主面を上向きにした水平姿勢で前記基板を保持する保持部と、前記保持部に保持される前記基板の前記一方主面の一部に接触するカソード電極と、前記保持部に保持される前記基板の上方に配置され前記一方主面に対向するアノード電極と、前記アノード電極と前記カソード電極とに接続される電源部と、前記アノード電極の側方および下方を取り囲んで前記処理槽内で前記めっき液から前記アノード電極を隔離する隔離部とを備える。
【０００９】
ここで、前記隔離部は、少なくとも底部が電解隔膜で構成され内部空間に前記アノード電極を収容する箱型の隔離槽と、前記隔離槽の姿勢を、前記底部が水平な水平姿勢と前記底部が水平面に対し傾斜する傾斜姿勢との間で切り替える傾斜機構と、前記内部空間へ液体を供給して前記アノード電極を前記液体に浸漬させる供給部と、前記傾斜姿勢の前記隔離槽から前記液体を排出する排出部とを有している。
【００１０】
また、本発明の一の態様は、平板状の基板の少なくとも一方主面をめっきするめっき方法である。このめっき方法は、めっき液を貯留する処理槽内で、前記一方主面を上向きにした水平姿勢で前記基板を保持する工程と、前記保持部に保持される前記基板の前記一方主面の一部にカソード電極を接触させる一方、前記基板の上方に前記一方主面に対向してアノード電極を配置する工程と、前記アノード電極と前記カソード電極との間に電圧を印加する工程とを備えている。
（【００１１】以降は省略されています）

関連特許