TOP
|
特許
|
意匠
|
商標
特許ウォッチ
Twitter
他の特許を見る
公開番号
2025026187
公報種別
公開特許公報(A)
公開日
2025-02-21
出願番号
2023131614
出願日
2023-08-10
発明の名称
水処理装置
出願人
WOTA株式会社
代理人
弁理士法人太陽国際特許事務所
主分類
C02F
1/00 20230101AFI20250214BHJP(水,廃水,下水または汚泥の処理)
要約
【課題】同種の機能を有する半導体チップが異なる基板に実装されている場合と比して、開発過程において、設計変更する基板の数を減らすことである。
【解決手段】水処理装置は、被処理水を処理する水槽と、複数の水槽の水状態を夫々検出するセンサと、一の水槽から他の水槽へ水を移送するポンプと、ポンプの稼働、非稼働を切り換えるリレーと、センサの検出信号を受ける半導体チップが実装された信号基板と、信号基板の半導体チップが受けた検出信号に基づいてリレーを駆動させる半導体チップが実装されたリレー基板と、ポンプを駆動させる半導体チップが実装されたポンプ基板と、を備える。
【選択図】図6
特許請求の範囲
【請求項1】
被処理水を処理する水槽と、
複数の前記水槽の水状態を夫々検出するセンサと、
一の前記水槽から他の前記水槽へ水を移送するポンプと、
前記ポンプの稼働、非稼働を切り換えるリレーと、
前記センサの検出信号を受ける半導体チップが実装された信号基板と、
前記信号基板の半導体チップが受けた検出信号に基づいて前記リレーを駆動させる半導体チップが実装されたリレー基板と、
前記ポンプを駆動させる半導体チップが実装されたポンプ基板と、
を備える水処理装置。
続きを表示(約 410 文字)
【請求項2】
前記信号基板、前記リレー基板、及び前記ポンプ基板を有し、装置本体に対して着脱可能とされる制御ユニットを備える、
請求項1に記載の水処理装置。
【請求項3】
複数の前記水槽の一を構成すると共に被処理水を生物処理する生物処理槽を備え、
前記制御ユニットは、前記生物処理槽に近接している、
請求項2に記載の水処理装置。
【請求項4】
周囲の空気を吸い込み、吸い込んだ空気を前記生物処理槽内に送り込んで前記生物処理槽の被処理水を撹拌、又は前記生物処理槽の被処理水を循環させるエアーポンプが設けられ、
前記制御ユニットは、前記エアーポンプの下方に配置されている、
請求項3に記載の水処理装置。
【請求項5】
前記エアーポンプが配置されている電気機器領域を囲む囲み部材を備える、
請求項4に記載の水処理装置。
発明の詳細な説明
【技術分野】
【0001】
本発明は、水処理装置に関する。
続きを表示(約 1,500 文字)
【背景技術】
【0002】
特許文献1に記載には、温水を突出させて洗浄するポンプ及びヒータ、便座を暖房するヒータ、温風によって局部を乾燥させるファンモータ及びヒータ等のアクチエータと、これらアクチエータを制御する回路を設けた制御基板と、この制御基板及びアクチエータを収納する上下に分割されたケースとを有する温水洗浄便座において、比較的大電力を扱う制御基板を実装面が下向きになるよう基板ケース内面に取付けるとともに、基板ケース上面に比較的低出力の部品を実装した操作基板を実装面が上向きになるよう取付け、基板ケースを上ケース内に固定したことが記載されている。
実開平06-30285号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0003】
従来、水処理装置には、電気機器として、複数のポンプ、複数のセンサ、及び複数のリレーが設けられている。さらに、水処理装置には、夫々の電気機器を制御するための基板が複数設けられている。
【0004】
例えば、水処理装置の開発過程において、複数のポンプの中で一のポンプを制御するために用いる半導体チップと、他のポンプを制御するために用いる半導体チップとが異なる基板に実装される場合がある。このような場合に、ポンプに対する制御を変更するには、複数の基板の設計変更をしなければならない。
【0005】
本開示の課題は、同種の機能を有する半導体チップが異なる基板に実装されている場合と比して、設計変更する基板の数を減らすことである。
【課題を解決するための手段】
【0006】
本開示の第1態様の水処理装置は、被処理水を処理する水槽と、複数の前記水槽の水状態を夫々検出するセンサと、一の前記水槽から他の前記水槽へ水を移送するポンプと、前記ポンプの稼働、非稼働を切り換えるリレーと、前記センサの検出信号を受ける半導体チップが実装された信号基板と、前記信号基板の半導体チップが受けた検出信号に基づいて前記リレーを駆動させる半導体チップが実装されたリレー基板と、前記ポンプを駆動させる半導体チップが実装されたポンプ基板と、を備えることを特徴とする。
【0007】
以上の態様によると、信号基板には、センサの検出信号を受ける半導体チップが実装されている。さらに、リレー基板には、信号基板が受けた検出信号に基づいてポンプの稼働、非稼働を切り換えるリレーを駆動させる半導体チップが実装されている。また、ポンプ基板には、ポンプを駆動させる半導体チップが実装されている。このように、同種の機能を有する半導体チップが同一の基板に実装されている。このため、同種の機能を有する半導体チップが異なる基板に実装されている場合と比して、設計変更する基板の数を減らすことができる。
【0008】
本開示の第2態様の水処理装置は、第1態様の水処理装置において、前記信号基板、前記リレー基板、及び前記ポンプ基板を有し、装置本体に対して着脱可能とされる制御ユニットを備えることを特徴とする。
【0009】
以上の態様によると、制御ユニットは、装置本体に対して着脱可能とされる、このため、基板を個別に交換する場合と比して、全ての基板を一度に交換することができる。
【0010】
本開示の第3態様の水処理装置は、第2態様の水処理装置において、複数の前記水槽の一を構成すると共に被処理水を生物処理する生物処理槽を備え、前記制御ユニットは、前記生物処理槽に近接していることを特徴とする。
(【0011】以降は省略されています)
この特許をJ-PlatPatで参照する
関連特許
WOTA株式会社
水処理装置
1日前
WOTA株式会社
水処理装置
1日前
WOTA株式会社
水処理装置
1日前
WOTA株式会社
流体処理装置
1日前
WOTA株式会社
仕切部材、及び流体槽
1日前
WOTA株式会社
蓋部材、流体槽、及び流体処理装置
1日前
WOTA株式会社
バルブ、水処理モジュール、及び水処理装置
16日前
鹿島建設株式会社
嫌気性バイオリアクタ
2日前
東ソー株式会社
ニッケル含有水溶液の浄化方法
9日前
ニシム電子工業株式会社
浄化処理システム
5日前
東芝ライテック株式会社
液体処理装置
8日前
日本国土開発株式会社
スラリー処理方法
8日前
株式会社クボタ
担体流動槽及び浄化槽
9日前
WOTA株式会社
水処理装置
1日前
WOTA株式会社
水処理装置
1日前
WOTA株式会社
水処理装置
1日前
栗田工業株式会社
水処理システム及び水処理方法
1日前
日鉄環境株式会社
集塵水の処理方法
1日前
WOTA株式会社
流体処理装置
1日前
ニシム電子工業株式会社
浄化処理システム及び浄化処理方法
5日前
WOTA株式会社
仕切部材、及び流体槽
1日前
株式会社テックコーポレーション
電解水生成装置
15日前
栗田工業株式会社
有機物含有水の処理方法および有機物含有水処理装置
15日前
大成建設株式会社
嫌気性汚泥の造粒化促進方法
16日前
前澤工業株式会社
検出装置、検出方法及びプログラム
8日前
高砂熱学工業株式会社
シリカ除去装置及び吸着剤の再生方法
8日前
野村マイクロ・サイエンス株式会社
純水用水の製造方法及び製造装置、純水製造方法及び純水製造システム
1日前
野村マイクロ・サイエンス株式会社
純水用水の製造方法及び製造装置、純水製造方法及び純水製造システム
1日前
野村マイクロ・サイエンス株式会社
純水用水の製造方法及び製造装置、純水製造方法及び純水製造システム
1日前
株式会社東芝
汚泥処理システム、汚泥処理制御装置及び汚泥処理方法
1日前
住友重機械工業株式会社
処理システム、発電装置、脱硫処理装置、発電方法及び脱硫方法
3日前
株式会社クボタ
情報処理装置、制御内容決定方法、制御システム、および制御内容決定プログラム
1日前
株式会社ノベルジェン
二酸化炭素固定化システム、二酸化炭素固定方法及び二酸化炭素固定プログラム
3日前
他の特許を見る