特許ウォッチ

公開番号2025007900
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-01-17
出願番号2023109616
出願日2023-07-03
発明の名称露光方法、露光装置、および物品製造方法
出願人キヤノン株式会社
代理人弁理士法人大塚国際特許事務所
主分類G03F 7/20 20060101AFI20250109BHJP(写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ)
要約【課題】結像特性の高精度な補正と高い生産性の両立に有利な技術を提供する。
【解決手段】露光方法は、投影光学系の結像特性の変動を予測式を用いて予測して前記結像特性の補正を行いながら、第1ロットの複数の基板に対する露光動作である第1露光動作を行う工程と、前記予測式に適用される前記第1ロット用のパラメータ値が更新済みであるか否かに応じて異なる前記結像特性の補正方法で前記結像特性の補正を行いながら、第2ロットの複数の基板に対する露光動作である第2露光動作を行う工程とを有する。
【選択図】図5
特許請求の範囲【請求項１】
投影光学系の結像特性の変動を予測式を用いて予測して前記結像特性の補正を行いながら、第１ロットの複数の基板に対する露光動作である第１露光動作を行う工程と、
前記予測式に適用される前記第１ロット用のパラメータ値が更新済みであるか否かに応じて異なる前記結像特性の補正方法で前記結像特性の補正を行いながら、第２ロットの複数の基板に対する露光動作である第２露光動作を行う工程と、
を有することを特徴とする露光方法。
続きを表示（約 1,300 文字）【請求項２】
前記第１ロット用のパラメータ値が更新済みである場合、前記第２露光動作中、予め決定されている前記第２ロット用のパラメータ値を前記予測式に適用して前記結像特性の補正を行い、
前記第１ロット用のパラメータ値が更新済みでない場合、前記第２露光動作中、前記結像特性の計測を実施し、該計測によって得られた計測値に基づいて前記結像特性の補正を行う、
ことを特徴とする請求項１に記載の露光方法。
【請求項３】
前記第２ロット用のパラメータ値が更新済みでない場合にも、前記結像特性の計測を実施し、該計測によって得られた計測値に基づいて前記結像特性の補正を行う、
ことを特徴とする請求項２に記載の露光方法。
【請求項４】
前記第１ロット用のパラメータ値は更新済みであるが、前記更新済みのパラメータ値を前記予測式に適用して前記結像特性の補正を行ったときの補正残差が許容範囲内に収まっていない場合には、前記結像特性の計測を実施し、該計測によって得られた計測値に基づいて前記結像特性の補正を行う、
ことを特徴とする請求項２に記載の露光方法。
【請求項５】
前記第１ロット用のパラメータ値は更新済みであるが、該更新時における前記投影光学系を構成する光学素子の温度が所定温度より高い場合には、前記結像特性の計測を実施し、該計測により得られた計測値に基づいて前記結像特性の補正を行う、
ことを特徴とする請求項２に記載の露光方法。
【請求項６】
前記第１ロット用のパラメータ値は更新済みであるが、該更新時からの経過時間が所定時間を超えている場合には、前記結像特性の計測を実施し、該計測により得られた計測値に基づいて前記結像特性の補正を行う、
ことを特徴とする請求項２に記載の露光方法。
【請求項７】
前記結像特性は、倍率、フォーカス、ディストーション、像面湾曲、非点収差のうちの少なくとも１つを含む、ことを特徴とする請求項１に記載の露光方法。
【請求項８】
原版のパターンを基板に投影する投影光学系と、
前記投影光学系の結像特性を補正する補正部と、
制御部と、
を有し、
前記制御部は、
第１ロットの複数の基板に対する露光動作である第１露光動作中に、前記投影光学系の結像特性の変動を予測式を用いて予測して、該予測の結果に基づいて前記結像特性を補正するように前記補正部を制御し、
第２ロットの複数の基板に対する露光動作である第２露光動作中に、前記予測式に適用される前記第１ロット用のパラメータ値が更新済みであるか否かに応じて異なる前記結像特性の補正方法で前記結像特性を補正するように前記補正部を制御する、
ことを特徴とする露光装置。
【請求項９】
請求項１から７のいずれか１項に記載の露光方法に従い基板を露光する工程と、
前記露光された基板を現像する工程と、
を含み、前記現像された基板から物品を製造する、ことを特徴とする物品製造方法。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、露光方法、露光装置、および物品製造方法に関する。
続きを表示（約 1,400 文字）【背景技術】
【０００２】
半導体製造プロセスにおけるオーバーレイの要求精度は年々高まっている。例えば、１ロット内の露光熱による倍率の変動許容値が０．１００ｐｐｍ以下であることが要求されうる。このような精度を実現するために、ロット内でキャリブレーションを行うクローズド補正を実施することが考えられるが、生産性の低下が問題になる。生産性の観点からは、露光熱による動的な結像特性の変動を露光条件に基づいて予測し、オープン補正する技術が有利である。
【０００３】
特許文献１には、照明条件の変更後に結像特性の予測制御用の演算パラメータの誤差の補正を行うことで、原版や照明条件が変更された場合でも精度を保って結像特性を補正する技術が記載されている。特許文献２には、結像特性の変動の予測に加え、マスク（製品パターン）や照明モードの組み合わせに応じた結像特性の補正を行うことが記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
特開平６－２９１７９号公報
特開２００６－２４９４１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかし、結像特性の変動を正しく予測できるよう予測モデルを最適化したとしても、先行ロットの露光条件における予測モデルの状態によっては、補正精度が低下してしまうことがわかった。
【０００６】
本発明は、結像特性の高精度な補正と高い生産性の両立に有利な技術を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の一側面によれば、投影光学系の結像特性の変動を予測式を用いて予測して前記結像特性の補正を行いながら、第１ロットの複数の基板に対する露光動作である第１露光動作を行う工程と、前記予測式に適用される前記第１ロット用のパラメータ値が更新済みであるか否かに応じて異なる前記結像特性の補正方法で前記結像特性の補正を行いながら、第２ロットの複数の基板に対する露光動作である第２露光動作を行う工程と、を有することを特徴とする露光方法が提供される。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、結像特性の高精度な補正と高い生産性の両立に有利な技術を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
露光装置の構成を示す図。
空中像計測時のシフトと光量の関係を示す図。
倍率変動および従来の手法による補正残差の例を示す図。
倍率変動および従来の手法による補正残差の例を示す図。
実施形態におけるロット処理のフローチャート。
実施形態におけるロット処理のフローチャート。
実施形態におけるロット処理のフローチャート。
倍率変動および実施形態の手法による補正残差の例を示す図。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下、添付図面を参照して実施形態を詳しく説明する。なお、以下の実施形態は特許請求の範囲に係る発明を限定するものではない。実施形態には複数の特徴が記載されているが、これらの複数の特徴の全てが発明に必須のものとは限らず、また、複数の特徴は任意に組み合わせられてもよい。さらに、添付図面においては、同一若しくは同様の構成に同一の参照番号を付し、重複した説明は省略する。
（【００１１】以降は省略されています）

関連特許