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公開番号2024164298
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-11-26
出願番号2024152958,2021067563
出願日2024-09-05,2021-04-13
発明の名称ペリクル
出願人信越化学工業株式会社
代理人個人
主分類G03F 1/62 20120101AFI20241119BHJP(写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ)
要約【課題】少なくとも一つの辺の辺長が1000mmを超えるペリクルであって、フォトマスクに装着されたペリクルが高速で移動した際に、ペリクル膜の揺れ量が小さいペリクルを提供する。
【解決手段】少なくとも1つの辺長が1000mmを超えるペリクルフレームと、その一方の枠状面に接着されたペリクル膜とを含んで構成されるペリクルであって、互いに平行且つ線対称である一対のペリクルフレーム辺に平行な方向に1%以上2.5%以下の引張歪みをペリクル膜に付与していることを特徴とするペリクル。
【選択図】図6

特許請求の範囲【請求項１】
少なくとも１つの辺長が１０００ｍｍを超えるペリクルフレームと、その一方の枠状面に接着されたペリクル膜とを含んで構成されるペリクルであって、互いに平行且つ線対称である一対のペリクルフレーム辺に平行な方向に１％以上２．５％以下の引張歪みをペリクル膜に付与していることを特徴とするペリクル。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体デバイス、プリント基板あるいはフラットパネル等を製造する際のゴミよけとして使用されるペリクル、特には液晶などのＦＰＤデバイス製造用途で使用される、少なくとも一つの辺長が１０００ｍｍを超える大きさのペリクルに関するものである。
続きを表示（約 1,900 文字）【背景技術】
【０００２】
ＬＳＩ、超ＬＳＩ等の半導体あるいは液晶ディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ等に使用されるフラットパネルディスプレイ用パネルの製造においては、フォトレジストを塗布した半導体ウエハあるいは液晶用ガラス板に紫外光を照射してパターンを作製するが、この時に用いるフォトマスクにゴミが付着していると、このゴミが紫外光を遮り、又は反射するために、転写したパターンの変形、短絡などが発生し、品質が損なわれるという問題があった。
【０００３】
このため、これらの作業は通常クリーンルームで行われているが、それでもフォトマスクを常に清浄に保つことが難しい。そこで、フォトマスク表面にゴミよけとしてペリクルを貼り付けした後に露光を行っている。この場合、異物はフォトマスクの表面には直接付着せず、ペリクル上に付着するため、リソグラフィー時に焦点をフォトマスクのパターン上に合わせておけば、ペリクル上の異物は転写に無関係となる。
【０００４】
一般的なペリクルでは、紫外光を良く透過させるニトロセルロース、プロピオン酸セルロースあるいはフッ素系樹脂などからなる透明なペリクル膜が、アルミニウム合金、ステンレス鋼、エンジニアリングプラスチックなどからなるペリクルフレームの枠状面に接着されている。さらに、ペリクル膜の反対側の枠状面には、フォトマスクに装着するためのポリブデン樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、アクリル樹脂、シリコーン樹脂等からなる粘着層が設けられ、必要に応じて粘着層の保護を目的とした離型層（セパレータ）が取り付けられている。
【０００５】
上記のように、一般的にペリクル膜は薄い樹脂で構成されるので、シワが寄ったりすることが無いよう、これに適切な大きさの張力を掛けてペリクルフレームに張設している。しかし、ペリクル膜にも自重があり、ごくわずかではあるが、どのようなペリクルであっても、ペリクル膜は下方向への垂れ下がりが生じている。
【０００６】
図９にフォトマスクにペリクルが貼り付けられた状態の断面図を示す。通常、露光機内ではフォトマスク９１は露光パターン９２が描画されている面が下向きとなるように設置されている。そして、ペリクル９９はその露光パターン９２を覆うように、フォトマスク９１の下面にマスク粘着層９６を介して取り付けられている。
【０００７】
ペリクル膜９８の自重垂れ下がり量ｘが大きい場合、ペリクル膜９８の頂点ｙ（通常はペリクルの中央）はフォトマスク９１の下方向に突出することになり、露光機や異物検査機（図示しない）内で装置部品に干渉する危険がある。一般的な露光機の場合、ペリクル自体や各部品の取り付け公差を勘案すると、許容されるペリクル膜の突出量は、少なくとも０．８ｍｍ以下、より好ましくは０．６ｍｍ以下である。この許容値は、同じ光学系を採用した露光機、異物検査機であれば、ペリクルが大きくなってもほぼ同じ数値が要求される。
【０００８】
しかし、近年は露光機内でフォトマスクの移動速度がより高速になってきたため、移動時にペリクル膜が受ける風圧や移動開始時、停止時における慣性によるペリクル内の空気の偏りが大きくなってきた。これにより、自重による垂れ下がり量ｘに加えて、動作に伴うペリクル膜の揺れが大きくなり、ペリクル膜が装置へ接触する危険性は格段に高まっている。その結果、膜の自重垂れ下がり量ｘはより少ない値が求められるようになってきており、近年では一般的には０．３５ｍｍ、場合によっては０．２ｍｍ以下が要求されてきている。また、膜揺れ量の要求値としては、適用する装置や運転条件においても要求が異なるため一概には言えないが、例を挙げるとすれば、いかなる条件においても、辺長が１ｍを超えるペリクルでは少なくとも４ｍｍ以下、辺長が１．５ｍを超えるペリクルでは少なくとも５ｍｍ以下であることが好ましい。
【０００９】
かつて本発明者は、この課題に対して、ペリクルフレームの平行な２辺間にペリクル膜とは異なる材質からなる太さ１００μｍ以下の細線状補強体を張設すると共に、該細線状補強体はペリクル膜の外側に接触していることを特徴とするペリクルの発明を提案した（特許文献１）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１０】
特許第５６１８８８８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
（【００１１】以降は省略されています）

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