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公開番号
2025163305
公報種別
公開特許公報(A)
公開日
2025-10-28
出願番号
2025138361,2024550730
出願日
2025-08-21,2023-03-24
発明の名称
メモリデバイスおよびそのプログラム動作
出願人
長江存儲科技有限責任公司
,
Yangtze Memory Technologies Co.,Ltd.
代理人
個人
,
個人
,
個人
主分類
G11C
16/34 20060101AFI20251021BHJP(情報記憶)
要約
【課題】本開示は、メモリデバイスおよびその動作方法に関する。
【解決手段】いくつかの態様では、メモリデバイスは、メモリセルのアレイと、メモリセルのアレイに結合された周辺回路とを含む。メモリセルのうちの少なくとも1つは、Nビットデータの要素に対応する2
N
個のレベルのうちの1つに設定され、ただし、Nは1よりも大きい整数である。周辺回路は、メモリセルの選択行に第1のプログラム電圧を印加し、第1のプログラム電圧を印加した後、2
N
個のレベルのうちの最終レベルにおいてメモリセルの選択行の第1の検証を実行し、第1の検証の結果および第1のベリファイ失敗カウント(VFC)基準に基づいて第1のVFCを実行し、第1のVFCを実行した後、メモリセルの選択行に第1のプログラム電圧よりも高い第2のプログラム電圧を印加し、第2のプログラム電圧を印加している期間内に第1の検証の結果および第1のVFC基準とは異なる第2のVFC基準に基づいて第2のVFCを実行するように構成される。
【選択図】図8B
特許請求の範囲
【請求項1】
メモリデバイスであって、
メモリセルのアレイであって、前記メモリセルのうちの少なくとも1つが、Nビットデータの要素に対応する2
N
個のレベルのうちの1つに設定され、ただし、Nが1よりも大きい整数である、メモリセルのアレイと、
前記メモリセルのアレイに結合された周辺回路とを備え、前記周辺回路が、
前記メモリセルの選択行に第1のプログラム電圧を印加し、
前記第1のプログラム電圧を印加した後、前記2
N
個のレベルのうちの最終レベルにおいて前記メモリセルの前記選択行の第1の検証を実行し、
前記第1の検証の結果および第1のベリファイ失敗カウント(VFC)基準に基づいて第1のVFCを実行し、
前記第1のVFCを実行した後、前記メモリセルの前記選択行に前記第1のプログラム電圧よりも高い第2のプログラム電圧を印加し、
前記第2のプログラム電圧を印加している期間内に前記第1の検証の前記結果および前記第1のVFC基準とは異なる第2のVFC基準に基づいて第2のVFCを実行するように構成される、
メモリデバイス。
続きを表示(約 1,700 文字)
【請求項2】
前記周辺回路が、前記第1の検証の前記結果が前記第1のVFC基準を満たさないという結果に応答して前記第2のプログラム電圧を印加するように構成される、請求項1に記載のメモリデバイス。
【請求項3】
前記周辺回路が、
前記第1の検証の前記結果が前記第2のVFC基準を満たさないことに応答して前記最終レベルにおいて前記メモリセルの前記選択行の第2の検証を実行し、
前記第2の検証の結果および第3のVFC基準に基づいて第3のVFCを実行するようにさらに構成される、
請求項2に記載のメモリデバイス。
【請求項4】
前記周辺回路が、
前記第1の検証の前記結果が前記第2のVFC基準を満たすことに応答して前記第2の検証および前記第3のVFCをスキップするようにさらに構成される、
請求項3に記載のメモリデバイス。
【請求項5】
前記第3のVFC基準が前記第1のVFC基準と同じである、請求項3または4に記載のメモリデバイス。
【請求項6】
それぞれ、前記メモリセルの行に結合されたワードラインをさらに備え、
前記第1の検証を実行するために、前記周辺回路が、前記メモリセルの前記選択行に結合されている前記ワードラインの選択ワードラインにベリファイ電圧を印加するように構成されたワードラインドライバを備え、前記ベリファイ電圧が、前記2
N
個のレベルのうちの前記最終レベルに対応する、
請求項1から5のいずれか一項に記載のメモリデバイス。
【請求項7】
前記第1のVFCを実行するために、前記周辺回路が、
前記第1の検証に合格しない、前記メモリセルの前記選択行の失敗したメモリセルの個数を取得するように構成された、ページバッファと、
前記失敗したメモリセルの前記個数を前記第1のVFC基準に対して比較するように構成された、制御ロジックとを備える、
請求項1から6のいずれか一項に記載のメモリデバイス。
【請求項8】
前記第2のVFC基準が前記第1のVFC基準よりも厳しくない、請求項1から7のいずれか一項に記載のメモリデバイス。
【請求項9】
データを記憶するように構成されたメモリデバイスであって、
行をなすメモリセルのアレイであって、前記メモリセルのうちの少なくとも1つが、Nビットデータの要素に対応する2
N
個のレベルのうちの1つに設定され、ただし、Nが1よりも大きい整数である、メモリセルのアレイと、
前記メモリセルのアレイに結合された周辺回路であって、
前記メモリセルの選択行に第1のプログラム電圧を印加し、
前記第1のプログラム電圧を印加した後、前記2
N
個のレベルのうちの最終レベルにおいて前記メモリセルの前記選択行の第1の検証を実行し、
前記第1の検証の結果および第1のベリファイ失敗カウント(VFC)基準に基づいて第1のVFCを実行し、
前記第1の検証の前記結果が前記第1のVFC基準を満たさないことに応答して、前記第1のVFCを実行した後、前記メモリセルの前記選択行に前記第1のプログラム電圧よりも高い第2のプログラム電圧を印加し、
前記第2のプログラム電圧を印加している期間内に前記第1の検証の前記結果および前記第1のVFC基準とは異なる第2のVFC基準に基づいて第2のVFCを実行するように構成された周辺回路とを備えるメモリデバイス、ならびに
前記メモリデバイスに結合され前記メモリデバイスを制御するように構成されたメモリコントローラ
を備えるシステム。
【請求項10】
前記周辺回路が、
前記第1の検証の前記結果が前記第2のVFC基準を満たさないことに応答して前記最終レベルにおいて前記メモリセルの前記選択行の第2の検証を実行し、
前記第2の検証の結果および第3のVFC基準に基づいて第3のVFCを実行するようにさらに構成される、
請求項9に記載のシステム。
(【請求項11】以降は省略されています)
発明の詳細な説明
【技術分野】
【0001】
関連出願の相互参照
本出願は、その全体が参照により本明細書に組み込まれる、2022年12月30日に出願された米国仮出願第63/436,441号の優先権の利益を主張する。
続きを表示(約 1,500 文字)
【0002】
本開示は、メモリデバイスおよびその動作方法に関する。
【背景技術】
【0003】
フラッシュメモリは、電気的に消去および再プログラムされ得る、低コスト、高密度、不揮発性のソリッドステート記憶媒体である。フラッシュメモリは、NORフラッシュメモリおよびNANDフラッシュメモリを含む。読取り、プログラム(書込み)、および消去などの様々な動作が、フラッシュメモリによって実行され得る。NANDフラッシュメモリの場合、消去動作は、ブロックレベルで実行され得、プログラム動作または読取り動作は、ページレベルで実行され得る。
【発明の概要】
【課題を解決するための手段】
【0004】
一態様では、メモリデバイスは、メモリセルのアレイと、メモリセルのアレイに結合された周辺回路とを含む。メモリセルのうちの少なくとも1つは、Nビットデータの要素に対応する2
N
個のレベルのうちの1つに設定され、ただし、Nは1よりも大きい整数である。周辺回路は、メモリセルの選択行に第1のプログラム電圧を印加し、第1のプログラム電圧を印加した後、2
N
個のレベルのうちの最終レベルにおいてメモリセルの選択行の第1の検証を実行するように構成される。周辺回路はまた、第1の検証の結果および第1のベリファイ失敗カウント(VFC:verify fail count)基準に基づいて第1のVFCを実行するように構成される。周辺回路は、第1のVFCを実行した後、メモリセルの選択行に第1のプログラム電圧よりも高い第2のプログラム電圧を印加し、第2のプログラム電圧を印加している期間内に第1の検証の結果および第1のVFC基準とは異なる第2のVFC基準に基づいて第2のVFCを実行するようにさらに構成される。
【0005】
いくつかの実装形態では、周辺回路は、第1の検証の結果が第1のVFC基準を満たさないことに応答して第2のプログラム電圧を印加するように構成される。
【0006】
いくつかの実装形態では、周辺回路は、第1の検証の結果が第2のVFC基準を満たさないことに応答して最終レベルにおいてメモリセルの選択行の第2の検証を実行し、第2の検証の結果および第3のVFC基準に基づいて第3のVFCを実行するようにさらに構成される。
【0007】
いくつかの実装形態では、周辺回路は、第1の検証の結果が第2のVFC基準を満たすことに応答して第2の検証および第3のVFCをスキップするようにさらに構成される。
【0008】
いくつかの実装形態では、第3のVFC基準は第1のVFC基準と同じである。
【0009】
いくつかの実装形態では、メモリデバイスは、それぞれ、メモリセルの行に結合されたワードラインをさらに含む。いくつかの実装形態では、第1の検証を実行するために、周辺回路は、メモリセルの選択行に結合されているワードラインの選択ワードラインにベリファイ電圧を印加するように構成されたワードラインドライバを含み、ベリファイ電圧は、2
N
個のレベルのうちの最終レベルに対応する。
【0010】
いくつかの実装形態では、第1のVFCを実行するために、周辺回路は、第1の検証に合格しない、メモリセルの選択行の失敗したメモリセルの個数を取得するように構成された、ページバッファと、失敗したメモリセルの個数を第1のVFC基準に対して比較するように構成された、制御ロジックとを含む。
(【0011】以降は省略されています)
この特許をJ-PlatPat(特許庁公式サイト)で参照する
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