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公開番号2025125606
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-08-28
出願番号2024021629
出願日2024-02-16
発明の名称光処理方法、光処理装置及び光処理システム
出願人ウシオ電機株式会社
代理人弁理士法人ユニアス国際特許事務所
主分類B01J 19/12 20060101AFI20250821BHJP(物理的または化学的方法または装置一般)
要約【課題】不活性ガスの使用量を低減する。
【解決手段】光処理方法は、被処理物に真空紫外光を照射することにより、前記被処理物の表面を光処理する光処理方法であって、光源から放射された前記真空紫外光が、主に空気を含み、かつ、前記光源に接触する第一媒質と、酸素ガスを含まず、かつ、前記被処理物に接触する第二媒質と、を通過して前記被処理物に到達するように、前記真空紫外光を照射する。光処理システムは、真空紫外光を放射する光源、前記光源を囲むランプハウス、及び、前記ランプハウス内の空間を、主に空気を含む第一媒質で充填された空間にする、空気供給口、を備え、搬送経路に沿って搬送される被処理物の表面を光処理する光処理装置と、前記被処理物の前記表面を覆うように、酸素ガスを含まない第二媒質を備える隔離部と、を有する。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項１】
被処理物に真空紫外光を照射することにより、前記被処理物の表面を光処理する光処理方法であって、
光源から放射された前記真空紫外光が、主に空気を含み、かつ、前記光源に接触する第一媒質と、酸素ガスを実質的に含まず、かつ、前記被処理物に接触する第二媒質と、を通過して前記被処理物に到達するように、前記真空紫外光を照射することを特徴とする、光処理方法。
続きを表示（約 940 文字）【請求項２】
前記被処理物は搬送経路に沿って搬送され、
前記第二媒質の位置が、搬送される前記被処理物に対して固定されていることを特徴とする、請求項１に記載の光処理方法。
【請求項３】
前記第二媒質は光透過固体であることを特徴とする、請求項２に記載の光処理方法。
【請求項４】
前記被処理物は搬送経路に沿って搬送され、
前記第二媒質の位置が、前記光源に対して固定されていることを特徴とする、請求項１に記載の光処理方法。
【請求項５】
前記第二媒質は不活性ガス又は真空であることを特徴とする、請求項２又は４に記載の光処理方法。
【請求項６】
真空紫外光を放射する光源、前記光源を囲むランプハウス、及び、前記ランプハウス内の空間を、主に空気を含む第一媒質で充填された空間にする、空気供給口、を備え、搬送経路に沿って搬送される被処理物の表面を光処理する光処理装置と、
前記被処理物の前記表面を覆うように、酸素ガスを実質的に含まない第二媒質を備える隔離部と、を有する、
光処理システム。
【請求項７】
前記第二媒質は不活性ガスであり、前記隔離部は、前記不活性ガスを充填するための筐体であることを特徴とする、請求項６に記載の光処理システム。
【請求項８】
前記隔離部は光透過固体であり、当該光透過固体自体が前記第二媒質であることを特徴とする、請求項６に記載の光処理システム。
【請求項９】
搬送経路に沿って搬送される被処理物に真空紫外光を照射することにより、前記被処理物の表面を光処理する光処理装置であって、
前記真空紫外光を放射する光源と、
前記光源を囲むランプハウスと、
前記ランプハウス内の空間を、主に空気を含む第一媒質で充填された空間にする、空気供給口と、
搬送される前記被処理物の光照射領域を囲み、前記ランプハウスに対する位置が固定されている第二筐体と、
前記筐体内の空間を、酸素ガスを実質的に含まない第二媒質で充填された空間にする、不活性ガス供給口と、を備えることを特徴とする、光処理装置。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、光処理方法、光処理装置及び光処理システムに関する。
続きを表示（約 1,700 文字）【背景技術】
【０００２】
建築物内装用材料（壁、天井、及び床等）、住宅設備、及び家具、並びに、車両用内装用材料及び外装用材料等の物品を保護するため、従来から、化粧材及び化粧シートと言われる保護材が使用されている。化粧材及び化粧シートには、耐擦傷性、耐汚染性及び耐候性といった表面特性や、加工特性などの、保護材としての物理的及び機械的特性に加えて、意匠性が要求されている。
【０００３】
化粧材及び化粧シートの質感を高め、意匠性を向上させるため、化粧材及び化粧シートの表面につや消し効果を付与する方法が知られている。例えば、化粧材及び化粧シートの表面に、アクリル系の光硬化樹脂又は熱硬化樹脂を塗布して塗布膜を形成し、紫外光を照射して塗布膜の表面を硬化収縮させて、微細な凹凸を形成することで、つや消し効果を付与する。
【０００４】
紫外光を照射する光照射装置として、例えば、半導体や液晶素子を製造するための光処理装置が知られている。特許文献１には、搬送経路に沿って搬送される被処理物の表面に真空紫外光を照射する真空紫外光源と、当該真空紫外光源を囲むランプハウスとを備えている光処理装置が開示されている。真空紫外光は酸素ガスに吸収されるため、同文献には、ランプハウスの内部に不活性ガスを供給し、不活性ガスを主成分とする雰囲気下で真空紫外光を照射することが記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
特開２０１９－０１８１６４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
化粧材及び化粧シートのような大面積の被処理物に真空紫外光を照射するためには、大型のランプハウスが必要となる。ランプハウスが大型だと、ランプハウス内の酸素濃度を低下させるための不活性ガスの量も多量となる。本発明の課題は、不活性ガスの使用量を低減することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者らは、鋭意研究の結果、酸素ガスを含む雰囲気下で真空紫外光を照射しても、被処理物の表面を十分に光処理できることに気付いた。ただし、詳細は後述するが、被処理物の樹脂層表面で生じる酸素阻害を考慮する必要がある。つまり、本明細書で開示する光処理方法は、被処理物に真空紫外光を照射することにより、前記被処理物の表面を光処理する光処理方法であって、
光源から放射された前記真空紫外光が、主に空気を含み、かつ、前記光源に接触する第一媒質と、酸素ガスを実質的に含まず、かつ、前記被処理物に接触する第二媒質と、を通過して前記被処理物に到達するように、前記真空紫外光を照射する。
【０００８】
被処理物の樹脂層表面では酸素ガスを実質的に含まない第二媒質であるために、酸素阻害が発生せず、樹脂の硬化が妨げられない。一方で、第一媒質では、不活性ガスに代えて空気を主に使用することから、不活性ガスの使用量を低減できる。なお、本明細書において、「媒質」とは、光を伝播させ得る仲介物全般を指す。つまり、特段の限定が付されていない場合の「媒質」には、光が通過し気体分子が充填された空間、若しくは、気体分子がほとんど存在しない真空空間（真空空間は当然に光を通過するため「光エネルギーを伝える仲介物」である）、又は、光を通過させる液体若しくは固体を含むことになる。
【０００９】
前記被処理物は搬送経路に沿って搬送され、
前記第二媒質の位置が、搬送される前記被処理物に対して固定されていても構わない。つまり、被処理物と第二媒質が共に搬送されてもよい。このような搬送方法が、「発明を実施するための形態」における第一実施形態と第二実施形態に例示される。
【００１０】
前記第二媒質は光透過固体であってもよい。前記光透過固体として、例えば、石英ガラス、又は、ポリエチレンなどの樹脂であっても構わない。このような搬送方法が、「発明を実施するための形態」における第二実施形態に例示される。
（【００１１】以降は省略されています）

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