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公開番号
2025123082
公報種別
公開特許公報(A)
公開日
2025-08-22
出願番号
2024018947
出願日
2024-02-09
発明の名称
低分子ヒアルロン酸の製造方法
出願人
株式会社ブルー・スターR&D
,
個人
代理人
個人
主分類
C08B
37/08 20060101AFI20250815BHJP(有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物)
要約
【課題】 次亜塩素酸ナトリウムを使用しなくても、出発物質である高分子ヒアルロン酸を低分子化可能な手法を提供する。
【解決手段】 ヒアルロン酸水溶液に対して超音波を照射し、前記ヒアルロン酸水溶液中に含まれるヒアルロン酸を低分子化する工程を含む、低分子ヒアルロン酸の製造方法であって、前記工程において、前記ヒアルロン酸水溶液に印加される圧力が、大気圧よりも高いことを特徴とする製造方法。
【選択図】 なし
特許請求の範囲
【請求項1】
ヒアルロン酸水溶液に対して超音波を照射し、前記ヒアルロン酸水溶液中に含まれるヒアルロン酸を低分子化する工程を含む、低分子ヒアルロン酸の製造方法であって、
前記工程において、前記ヒアルロン酸水溶液に印加される圧力が、大気圧よりも高い
ことを特徴とする製造方法。
続きを表示(約 78 文字)
【請求項2】
前記工程において、前記ヒアルロン酸水溶液の液密状態にて、前記ヒアルロン酸水溶液に前記圧力を印加する、請求項1記載の製造方法。
発明の詳細な説明
【背景技術】
【0001】
ヒアルロン酸は、高分子ヒアルロン酸と低分子ヒアルロン酸とに大別される。高分子ヒアルロン酸は、自然界にもともと存在する、分子量の大きいヒアルロン酸(通常50万以上)である。他方、低分子ヒアルロン酸は、人工的に精製する、分子量の小さいヒアルロン酸である。ここで、低分子ヒアルロン酸は、様々な医薬用途を有する成分である。例えば、低分子ヒアルロン酸は、多糖類の血管新生を増加させる剤、TNFのような特定の抑制因子として炎症性の進行を阻害する剤、骨形成剤、抗ウイルス剤として有用である。
続きを表示(約 1,200 文字)
【0002】
ここで、特許文献1には、低分子ヒアルロン酸を調製する手法として、出発物質である高分子ヒアルロン酸を次亜塩素酸ナトリウムと超音波とで同時に処理する手法が提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
特表2000-502141号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
本発明は、出発物質である高分子ヒアルロン酸を低コストで低分子化可能な手法を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【0005】
本発明は、ヒアルロン酸水溶液に対して超音波を照射し、前記ヒアルロン酸水溶液中に含まれるヒアルロン酸を低分子化する工程を含む、低分子ヒアルロン酸の製造方法であって、前記工程において、前記ヒアルロン酸水溶液に印加される圧力が、大気圧よりも高いことを特徴とする製造方法である。ここで、前記ヒアルロン酸水溶液が、次亜塩素酸ナトリウムを実質的に含まなくてもよい。
【発明の効果】
【0006】
本発明によれば、出発物質である高分子ヒアルロン酸を低コストで低分子化可能な手法を提供することが可能となる。また、本発明によれば、低分子ヒアルロン酸を大量且つ安全に生成できる。更に、本発明によれば、本発明に係る方法により得られた低分子ヒアルロン酸を含む組成物については、不純物が混じる可能性が他の手段に比べて少なく、そのため製品の安全性に優れるとの効果をも有する。
【図面の簡単な説明】
【0007】
本実施形態に係る超音波照射装置のブロック図である。
【発明を実施するための形態】
【0008】
以下、本発明の具体的形態を説明する。但し、本発明は以下の具体的形態に限定されるものではない。また、以下において「A~B」は、A以上B以下を意味する。
【0009】
本形態は、ヒアルロン酸水溶液に対して超音波を照射し、前記ヒアルロン酸水溶液中に含まれるヒアルロン酸を低分子化する工程を含む、低分子ヒアルロン酸の製造方法であって、前記工程において、前記ヒアルロン酸水溶液に印加される圧力が、大気圧よりも高いことを特徴とする製造方法である。以下、原料、プロセス、最終産物の順で説明する。
【0010】
≪原料≫
(ヒアルロン酸)
原料であるヒアルロン酸は、特に限定されず、例えば、ヒアルロン酸、アセチルヒアルロン酸、ヒアルロン酸若しくはアセチルヒアルロン酸の誘導体、又はこれらの塩を挙げることができる。本形態でヒアルロン酸の分子量は、繰り返し単位の数や、種類によって様々であり、特に限定されない(通常は50万以上)。ここで、本明細書にいう「分子量」は、サイズ排除クロマトグラフィーにより決定された重量平均分子量である。
(【0011】以降は省略されています)
この特許をJ-PlatPat(特許庁公式サイト)で参照する
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