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公開番号2025120502
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-08-15
出願番号2025102283,2023533103
出願日2025-06-18,2022-07-01
発明の名称露光装置
出願人株式会社ニコン
代理人弁理士法人片山特許事務所
主分類G03F 7/20 20060101AFI20250807BHJP(写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ)
要約【課題】露光装置のスループットを向上する。
【解決手段】露光装置は、基板を走査方向に移動させるステージと、空間光変調器と、前記空間光変調器を照明する照明光学系と、前記ステージが前記基板を前記走査方向に移動させる間に、前記空間光変調器からの光を前記基板に照射する投影光学系と、を含み、前記基板は、前記走査方向に並んだ、第1パターンが形成された第1領域と、第2パターンが形成された第2領域とを、含み、前記第1領域の設計値からの位置ずれ、および、前記第2領域の設計値からの位置ずれに基づいて、または、前記第1領域のマークの位置情報、および、前記第2領域のマークの位置情報に基づいて、前記第1領域の上方の第1露光領域は露光され、かつ、前記第2領域の上方の第2露光領域は露光されない。
【選択図】図8
特許請求の範囲【請求項１】
基板を走査方向に移動させるステージと、
空間光変調器と、
前記空間光変調器を照明する照明光学系と、
前記ステージが前記基板を前記走査方向に移動させる間に、前記空間光変調器からの光を前記基板に照射する投影光学系と、を含み、
前記基板は、前記走査方向に並んだ、第1パターンが形成された第１領域と、第２パターンが形成された第２領域とを、含み、
前記第１領域の設計値からの位置ずれ、および、前記第２領域の設計値からの位置ずれに基づいて、または、前記第１領域のマークの位置情報、および、前記第２領域のマークの位置情報に基づいて、前記第１領域の上方の第１露光領域は露光され、かつ、前記第２領域の上方の第２露光領域は露光されない、
露光装置。
続きを表示（約 1,000 文字）【請求項２】
基板を走査方向に移動させるステージと、
空間光変調器と、
前記空間光変調器を照明する照明光学系と、
前記ステージが前記基板を前記走査方向に移動させる間に、前記空間光変調器からの光を前記基板に照射する投影光学系と、を含み、
前記基板は、前記走査方向に並んだ、第1パターンが形成された第１領域と、第２パターンが形成された第２領域とを、含み、
前記第１領域の上方の第１露光領域と、前記第２領域の上方の第２露光領域との間の距離に基づいて、前記第１露光領域は露光され、かつ、前記第２露光領域は露光されない、
露光装置。
【請求項３】
基板を走査方向に移動させるステージと、
空間光変調器と、
前記空間光変調器を照明する照明光学系と、
前記ステージが前記基板を前記走査方向に移動させる間に、前記空間光変調器からの光を前記基板に照射する投影光学系と、を含み、
前記基板は、前記走査方向に並んだ、第１パターンが形成された第１領域と、第２パターンが形成された第２領域とを、含み、
前記第１領域の上方の第１露光領域と、前記第２領域の上方の第２露光領域との間の距離よりも、前記投影光学系の露光視野の前記走査方向における幅は小さく設定され、
前記第１露光領域は露光され、かつ、前記第２露光領域は露光される、
露光装置。
【請求項４】
前記第１領域の上方の前記第１露光領域と、前記第２領域の上方の前記第２露光領域との間の距離を進む間に前記露光装置の設定が変更される、
請求項３に記載の露光装置。
【請求項５】
前記投影光学系による露光位置は、前記空間光変調器を移動させる移動体の調整、および、前記投影光学系の調整の少なくとも一方を行うことで制御される、
請求項１～４のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項６】
前記移動体の調整には、前記移動体を前記投影光学系の光軸に垂直な方向に移動させること、および、前記移動体を前記光軸の周りに回転させることが含まれ、
前記投影光学系の調整には、前記投影光学系の投影倍率を調整すること、または、前記投影光学系内の光学素子を駆動することが含まれる、
請求項５に記載の露光装置。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
露光装置に関する。
続きを表示（約 2,300 文字）【背景技術】
【０００２】
従来、液晶や有機ＥＬによる表示パネル、半導体素子（集積回路等）等の電子デバイス（マイクロデバイス）を製造するリソグラフィ工程では、ステップ・アンド・リピート方式の投影露光装置（いわゆるステッパ）、あるいはステップ・アンド・スキャン方式の投影露光装置（いわゆるスキャニング・ステッパ（スキャナとも呼ばれる））などが使用されている。この種の露光装置は、ガラス基板、半導体ウェハ、プリント配線基板、樹脂フィルム等の被露光基板（以下、単に基板とも呼ぶ）の表面に塗布された感光層に電子デバイス用のマスクパターンを投影露光している。
【０００３】
そのマスクパターンを固定的に形成するマスク基板の作製には時間と経費を要する為、マスク基板の代わりに、微少変位するマイクロミラーの多数を規則的に配列したデジタル・ミラー・デバイス（ＤＭＤ）等の空間光変調素子（可変マスクパターン生成器）を使用した露光装置が知られている（例えば、特許文献１参照）。特許文献１に開示された露光装置では、例えば、波長３７５ｎｍのレーザダイオード（ＬＤ）からの光と波長４０５ｎｍのＬＤからの光とをマルチモードのファイバーバンドルで混合した照明光を、デジタル・ミラー・デバイス（ＤＭＤ）に照射し、傾斜制御された多数のマイクロミラーの各々からの反射光を結像光学系、マイクロレンズアレーを介して基板に投影露光している。
【０００４】
露光装置のスループットの向上が望まれている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
特開２０１９－２３７４８号公報
【発明の概要】
【０００６】
開示の態様によれば、露光装置は、描画データに応じた空間光変調器によって生成されるパターン光を物体に対して露光する露光装置であって、前記空間光変調器に照明光を照射する照明光学系と、前記物体に前記パターン光を投影する投影光学系と、前記投影光学系の下方に配置され、前記物体を保持する第１移動体と、前記投影光学系の光軸と直交する所定平面内で互いに直交する第１方向と第２方向とへ前記第１移動体を移動させる第１駆動部と、前記空間光変調器を保持する第２移動体と、前記第２移動体を移動させる第２駆動部と、前記物体の位置情報と、前記第１移動体の位置情報の少なくとも一つを含む計測結果を計測する計測部と、前記計測部で得られた前記計測結果に基づいて前記第２移動体の駆動と、前記投影光学系の調整と、の少なくとも一方を制御し、前記パターン光の露光位置を制御する制御部と、を備える。
【０００７】
なお、後述の実施形態の構成を適宜改良しても良く、また、少なくとも一部を他の構成物に代替させても良い。更に、その配置について特に限定のない構成要件は、実施形態で開示した配置に限らず、その機能を達成できる位置に配置することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
図１は、一実施形態に係る露光装置の外観構成の概要を示す斜視図である。
図２は、複数の露光モジュールの各々の投影ユニットによって基板上に投射されるＤＭＤの投影領域の配置例を示す図である。
図３は、図２において、特定の４つの投影領域の各々による継ぎ露光の状態を説明する図である。
図４は、Ｘ方向（走査露光方向）に並ぶ２つの露光モジュールの具体的な構成をＸＺ面内で見た光学配置図である。
図５（Ａ）は、ＤＭＤを概略的に示す図であり、図５（Ｂ）は、電源がＯＦＦの場合のＤＭＤを示す図であり、図５（Ｃ）は、ＯＮ状態のミラーについて説明するための図であり、図５（Ｄ）は、ＯＦＦ状態のミラーについて説明するための図である。
図６（Ａ）及び図６（Ｂ）は、ＤＭＤと投影ユニットの第１レンズ群との間に設けられる光学素子について説明する図である。
図７は、露光装置の基板ホルダ上の端部に付設された較正用基準部に設けられるアライメント装置の概略構成を示す図である。
図８は、露光制御装置の機能構成を示す機能ブロック図である。
図９は、基板に露光処理をする場合の手順の概要を示すフローチャートである。
図１０は、１枚の基板に４枚の表示パネルのパターンを露光する場合について示す図である。
図１１（Ａ）～図１１（Ｃ）は、表示パネルの１回目の露光処理による露光結果の例を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
一実施形態に係るパターン露光装置（以下、単に露光装置と記載する）について、図面を参照して説明する。
【００１０】
〔露光装置の全体構成〕
図１は、一実施形態に係る露光装置ＥＸの外観構成の概要を示す斜視図である。露光装置ＥＸは、空間光変調素子（ＳＬＭ：Spatial Light Modulator）によって、空間内での強度分布が動的に変調される露光光を被露光基板に結像投影する装置である。空間光変調器の例としては、液晶素子、デジタルマイクロミラーデバイス（ＤＭＤ：Digital Micromirror Device）、磁気光学空間光変調器（ＭＯＳＬＭ：Magneto Optic Spatial Light Modulator）等が挙げられる。本実施形態に係る露光装置ＥＸは、空間光変調器としてＤＭＤ１０を備えるが、他の空間光変調器を備えていてもよい。
（【００１１】以降は省略されています）

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