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公開番号2025117882
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-08-13
出願番号2024012850
出願日2024-01-31
発明の名称薄膜デバイス、薄膜デバイスモジュール、電極付き封止材及び薄膜デバイスの製造方法
出願人国立大学法人金沢大学,株式会社麗光
代理人個人,個人,個人,個人,個人
主分類H10K 39/10 20230101AFI20250805BHJP()
要約【課題】低温の熱圧着処理により作製可能な薄膜デバイスを提供することを目的とする。
【解決手段】この薄膜デバイスは、第1電極と、活性層と、第2電極と、接着層と、バリア層と、を備える。前記活性層は、前記第1電極と前記第2電極とに挟まれる。前記接着層は、前記第2電極と前記バリア層との間にあり、前記第2電極と前記バリア層とを接着する。前記接着層は、ガラス転移温度が20℃以下である。
【選択図】図2
特許請求の範囲【請求項１】
第１電極と、活性層と、第２電極と、接着層と、バリア層と、を備え、
前記活性層は、前記第１電極と前記第２電極とに挟まれ、
前記接着層は、前記第２電極と前記バリア層との間にあり、前記第２電極と前記バリア層とを接着し、
前記接着層は、ガラス転移温度が２０℃以下である、薄膜デバイス。
続きを表示（約 740 文字）【請求項２】
前記接着層は、アクリル系接着剤、ニトリルゴム系接着剤又はウレタン系接着剤である、請求項１に記載の薄膜デバイス。
【請求項３】
前記バリア層は、ＳｉＯＣが表面に成膜されたＰＥＴフィルムである、請求項１に記載の薄膜デバイス。
【請求項４】
複数の薄膜デバイスを有し、
前記複数の薄膜デバイスのそれぞれは、請求項１に記載の薄膜デバイスである、薄膜デバイスモジュール。
【請求項５】
前記接着層及び前記バリア層は、前記複数の薄膜デバイスに亘って広がり、
前記複数の薄膜デバイスは、第１薄膜デバイスと、前記第１薄膜デバイスに隣接する第２薄膜デバイスと、を有し、
前記第１薄膜デバイスの第２電極と、前記第２薄膜デバイスの第１電極とは、貫通電極で接続されており、
前記貫通電極の幅は、１００μｍ以下である、請求項４に記載の薄膜デバイスモジュール。
【請求項６】
電極と、接着層と、バリア層と、を備え、
前記電極は、前記接着層を介して前記バリア層に接着され、
前記接着層は、ガラス転移温度が２０℃以下であり、
活性層に熱圧着可能な、電極付き封止材。
【請求項７】
バリア層に接着層が塗布された第１フィルムを得る工程と、
セパレータに第２電極が形成された第２フィルムを得る工程と、
前記第１フィルムと前記第２フィルムとを、前記接着層と前記第２電極とが接するように積層し、第３フィルムを作製する工程と、
前記第３フィルムからセパレータを剥離し、前記第２電極を活性層に熱圧着する工程と、を備える、薄膜デバイスの製造方法。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、薄膜デバイス、薄膜デバイスモジュール、電極付き封止材及び薄膜デバイスの製造方法に関する。
続きを表示（約 1,100 文字）【背景技術】
【０００２】
薄膜太陽電池は、薄膜デバイスの代表的な一例である。薄膜太陽電池は、設置箇所への制限が少なく、素子の大型化が比較的簡単と言われており、注目されている。
【０００３】
薄膜太陽電池は、第１電極と活性層と第２電極とを順に積層して得られる。薄膜太陽電池の各層は、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、化学気相成長法等のドライプロセス、分散液を用いて塗布するウェットプロセス等で形成される。例えば、特許文献１には、第２電極をウェットプロセスで作製する方法が記載されている。
【０００４】
活性層は熱や溶媒によるダメージを受けやすい。例えば、活性層上に電極を蒸着すると、蒸着時の熱によって活性層はダメージを受ける。また例えば、活性層上にウェットプロセスで電極を塗布すると、塗布液に含まれる溶媒によって活性層はダメージを受ける。
【０００５】
活性層のダメージを避けるために、熱圧着による貼り合わせを用いた薄膜太陽電池の製造方法が検討されている。例えば、特許文献２には、活性層が積層された第１積層体と、第２電極が積層された第２積層体とを別々に作製し、これらを熱圧着する方法が提案されている。
【０００６】
また薄膜トランジスタ、薄膜ダイオード等の薄膜デバイスは、薄膜太陽電池と構成が類似しており、薄膜太陽電池と同様の課題を有している。薄膜太陽電池の製造方法は、その他の薄膜デバイスの製造方法への適用も可能であると考えられている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
特開２０１４－２３６０６４号公報
特開２０２３－１７３６０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
特許文献２に記載された薄膜太陽電池の製造方法は、活性層上に直接電極を形成しないため、活性層に与えるダメージは小さい。しかしながら、ペロブスカイト太陽電池のように、ダメージを受けやすい活性層を用いた場合に、薄膜太陽電池が理想とする特性を示さない場合がある。
【０００９】
本発明は上記問題に鑑みてなされたものであり、活性層のダメージを避けるために、低温の熱圧着処理により作製可能な薄膜デバイスを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明は、上記課題を解決するため、以下の手段を提供する。
（【００１１】以降は省略されています）

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