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公開番号2025113774
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-08-04
出願番号2024008099
出願日2024-01-23
発明の名称基板処理装置及び電磁波漏洩防止方法
出願人東京エレクトロン株式会社
代理人個人,個人
主分類H05H 1/46 20060101AFI20250728BHJP(他に分類されない電気技術)
要約【課題】観察窓の透明導電膜と、処理容器の金属製の壁部又は処理容器に配置された金属製の構成部材を安定的に直接接触させる。
【解決手段】基板処理装置は処理容器の内部を観察するための観察窓を備え、観察窓は、片側の表面に透明導電膜が形成された板状の透光窓部材と、環状の蓋部材と、環状の内側シール部材とを有し、観察窓が金属製のユニット設置用アダプタへ取り付けられる際、間に透光窓部材を介在させるように蓋部材がユニット設置用アダプタへ固定され、透光窓部材と蓋部材の間に介在する内側シール部材が圧縮されたときに生ずる反発力によって透光窓部材がユニット設置用アダプタへ押し付けられて透明導電膜がユニット設置用アダプタに直接接触し、内側シール部材が圧縮されて生じる反発力は、処理容器の内外の圧力差に起因して透光窓部材を処理容器の内部へ引き込む吸引力よりも大きい。
【選択図】図3
特許請求の範囲【請求項１】
プラズマを生成するプラズマ生成手段と、減圧環境の内部において基板にプラズマ処理を施す処理容器とを備える基板処理装置であって、
前記処理容器の内部を観察するための観察窓をさらに備え、
前記観察窓は、板状の透光窓部材と、第１の開口を有する蓋部材と、環状の第１の封止部材とを有し、
前記透光窓部材では、片側の表面である第１の表面に透明導電膜が形成され、前記第１の表面とは反対の表面である第２の表面に前記透明導電膜が形成されず、
前記観察窓は、前記処理容器の内側から前記処理容器の金属製の壁部又は前記処理容器の壁部に配置された金属製の構成部材へ取り付けられ、
前記観察窓が前記壁部又は前記構成部材へ取り付けられる際、前記処理容器の内側から前記蓋部材及び前記透光窓部材がこの順で配置され、前記透光窓部材を前記蓋部材と前記壁部又は前記構成部材との間に介在させるように前記蓋部材が前記壁部又は前記構成部材へ固定され、前記透光窓部材の第２の表面が前記第１の開口を介して前記処理容器の内側に露出し、前記透光窓部材の第２の表面と前記蓋部材の間に第１の封止部材が介在し、前記第１の封止部材は前記第１の開口を囲むように配置され、
前記第１の封止部材が圧縮されたときに生ずる反発力によって前記透光窓部材が前記壁部又は前記構成部材へ押し付けられて前記透光窓部材の前記第１の表面の透明導電膜が前記壁部又は前記構成部材に直接接触し、
前記第１の封止部材が生じる反発力は、前記処理容器の内外の圧力差に起因して前記透光窓部材を前記処理容器の内部へ引き込む吸引力よりも大きい、基板処理装置。
続きを表示（約 1,300 文字）【請求項２】
前記第１の封止部材の圧縮量は、前記蓋部材が前記壁部又は前記構成部材へ固定されたときの前記蓋部材と前記壁部又は前記構成部材の間の距離と、前記透光窓部材の厚さとによって規定される、請求項１に記載の基板処理装置。
【請求項３】
前記観察窓が前記構成部材へ取り付けられる場合、前記構成部材は、前記処理容器の壁部に設けられた第２の開口に取り付けられて前記構成部材は前記壁部と導通する、請求項１に記載の基板処理装置。
【請求項４】
前記蓋部材が前記構成部材へ固定される際、前記蓋部材と前記構成部材の間には第２の封止部材が介在し、
前記構成部材が前記第２の開口に取り付けられる際、前記構成部材と前記処理容器の壁部の間には第３の封止部材が介在する、請求項３に記載の基板処理装置。
【請求項５】
前記プラズマ生成手段には、前記処理容器の内部において電磁界を生じさせるための高周波電源を供給する高周波電源が接続されている、請求項１に記載の基板処理装置。
【請求項６】
前記蓋部材は該蓋部材を取り外すための器具を取り付けるための取り付け穴を有し、
前記蓋部材が前記壁部又は前記構成部材へ固定される際、前記取り付け穴は前記処理容器の内側を指向する、請求項１に記載の基板処理装置。
【請求項７】
プラズマを生成するプラズマ生成手段と、減圧環境の内部において基板にプラズマ処理を施す処理容器と、前記処理容器の内部を観察するための観察窓とを備える基板処理装置からの電磁波の漏洩を防止する電磁波漏洩防止方法であって、
前記観察窓は、板状の透光窓部材と、第１の開口を有する蓋部材と、環状の第１の封止部材とを有し、
前記透光窓部材では、片側の表面である第１の表面に透明導電膜が形成され、前記第１の表面とは反対の表面である第２の表面に前記透明導電膜が形成されず、
前記観察窓は、前記処理容器の内側から前記処理容器の金属製の壁部又は前記処理容器の壁部に配置された金属製の構成部材へ取り付けられ、
前記観察窓が前記壁部又は前記構成部材へ取り付けられる際、前記処理容器の内側から前記蓋部材及び前記透光窓部材がこの順で配置され、前記透光窓部材を前記蓋部材と前記壁部又は前記構成部材との間に介在させるように前記蓋部材が前記壁部又は前記構成部材へ固定され、前記透光窓部材の第２の表面が前記第１の開口を介して前記処理容器の内側に露出し、前記透光窓部材の第２の表面と前記蓋部材の間に第１の封止部材が介在し、前記第１の封止部材は前記第１の開口を囲むように配置され、
前記第１の封止部材が圧縮されたときに生ずる反発力によって前記透光窓部材を前記壁部又は前記構成部材へ押し付けて前記透光窓部材の前記第１の表面の透明導電膜を前記壁部又は前記構成部材に直接接触させ、
前記第１の封止部材が生じる反発力が、前記処理容器の内外の圧力差に起因して前記透光窓部材を前記処理容器の内部へ引き込む吸引力よりも大きくなるように、前記第１の封止部材の圧縮量を調整する、電磁波漏洩防止方法。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本開示は、基板処理装置及び電磁波漏洩防止方法に関する。
続きを表示（約 1,900 文字）【背景技術】
【０００２】
基板にプラズマ処理を施す基板処理装置は処理容器を備え、該処理容器の内部に基板を収容した後、処理容器の内部においてプラズマを生成して基板に成膜処理やエッチング処理等のプラズマ処理を施す。このような基板処理装置では、プラズマ処理中の異常発生を検知するために、処理容器の内部のプラズマの様子や基板の様子が観察されるが、この観察のために処理容器の壁部には処理容器の内部を観察可能な観察窓が設けられる。
【０００３】
ところで、観察窓には多くの場合透明な石英ガラス製の透光窓部材が設けられるが、石英ガラスは、プラズマの発光スペクトルを透過させる一方で、処理容器の内部で生じた電磁界からの電磁波を漏洩させてしまう。
【０００４】
そこで、基板処理装置において、透光窓部材に、例えば、金属のメッシュや多孔板からなる電磁波シールドを取り付けることが知られている。この基板処理装置では、電磁波シールドを金属製の処理容器の壁部に導通させることにより、電磁波を電磁波シールドから処理容器の壁部を介して接地へ導き、電磁波の漏洩を防止する（例えば、特許文献１参照）。
【０００５】
また、基板処理装置において、透光窓部材に、例えば、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）からなる透明導電膜をコーティングすることも知られている。この基板処理装置では、透明導電膜を金属製の処理容器の壁部に導通させることにより、電磁波を透明導電膜から処理容器の壁部を介して接地へ導き、電磁波の漏洩を防止する（例えば、特許文献２参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
特開平６－２１００３号公報
特開平４－１９１３７０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本開示に係る技術は、観察窓の透明導電膜と、処理容器の金属製の壁部又は処理容器に配置された金属製の構成部材を安定的に直接接触させる。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本開示に係る技術の一態様は、プラズマを生成するプラズマ生成手段と、減圧環境の内部において基板にプラズマ処理を施す処理容器とを備える基板処理装置であって、前記処理容器の内部を観察するための観察窓をさらに備え、前記観察窓は、板状の透光窓部材と、第１の開口を有する蓋部材と、環状の第１の封止部材とを有し、前記透光窓部材では、片側の表面である第１の表面に透明導電膜が形成され、前記第１の表面とは反対の表面である第２の表面に前記透明導電膜が形成されず、前記観察窓は、前記処理容器の内側から前記処理容器の金属製の壁部又は前記処理容器の壁部に配置された金属製の構成部材へ取り付けられ、前記観察窓が前記壁部又は前記構成部材へ取り付けられる際、前記処理容器の内側から前記蓋部材及び前記透光窓部材がこの順で配置され、前記透光窓部材を前記蓋部材と前記壁部又は前記構成部材との間に介在させるように前記蓋部材が前記壁部又は前記構成部材へ固定され、前記透光窓部材の第２の表面が前記第１の開口を介して前記処理容器の内側に露出し、前記透光窓部材の第２の表面と前記蓋部材の間に第１の封止部材が介在し、前記第１の封止部材は前記第１の開口を囲むように配置され、前記第１の封止部材が圧縮されたときに生ずる反発力によって前記透光窓部材が前記壁部又は前記構成部材へ押し付けられて前記透光窓部材の前記第１の表面の透明導電膜が前記壁部又は前記構成部材に直接接触し、前記第１の封止部材が生じる反発力は、前記処理容器の内外の圧力差に起因して前記透光窓部材を前記処理容器の内部へ引き込む吸引力よりも大きい。
【発明の効果】
【０００９】
本開示に係る技術によれば、観察窓の透明導電膜と、処理容器の金属製の壁部又は処理容器に配置された金属製の構成部材を安定的に直接接触させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
本開示に係る技術の一実施の形態としての基板処理装置の構成を概略的に示す断面図である。
図１における線Ａ－Ａに関する断面図である。
図２における線Ｂ－Ｂに関する斜視断面図である。
観察窓を処理室の外部側から眺めたときの斜視図である。
観察窓とユニット設置用アダプタの先端の周辺の構成を示す拡大縦断面図である。
【発明を実施するための形態】
（【００１１】以降は省略されています）

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