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公開番号2025085541
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-06-05
出願番号2023199493
出願日2023-11-24
発明の名称基板処理装置、基板処理方法、及び物品の製造方法
出願人キヤノン株式会社
代理人弁理士法人近島国際特許事務所
主分類H01L 21/02 20060101AFI20250529BHJP(基本的電気素子)
要約【課題】基板処理装置のメンテナンス性を向上させるのに有利な技術を提供する。
【解決手段】基板処理装置は、気密容器と、前記気密容器の内部を減圧する減圧機構と、前記気密容器の内部に配置され、基板を保持する保持部と、前記保持部に保持された前記基板の側面を囲うように前記気密容器の内部に配置された側壁部材と、前記気密容器の内部に配置され、前記保持部に保持された前記基板の主面に対向するように前記側壁部材の上に配置されたカバーと、を備える。前記カバーは、第1部材と、前記第1部材と別体である第2部材と、を有する。前記第1部材の鉛直方向と交差する第1方向の先端側の第1端部と、前記第2部材の前記第1方向とは反対側の第2方向の先端側の第2端部とが、前記鉛直方向に重なり合う。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項１】
気密容器と、
前記気密容器の内部を減圧する減圧機構と、
前記気密容器の内部に配置され、基板を保持する保持部と、
前記保持部に保持された前記基板の側面を囲うように前記気密容器の内部に配置された側壁部材と、
前記気密容器の内部に配置され、前記保持部に保持された前記基板の主面に対向するように前記側壁部材の上に配置されたカバーと、を備え、
前記カバーは、
第１部材と、
前記第１部材と別体である第２部材と、を有し、
前記第１部材の鉛直方向と交差する第１方向の先端側の第１端部と、前記第２部材の前記第１方向とは反対側の第２方向の先端側の第２端部とが、前記鉛直方向に重なり合う、
ことを特徴とする基板処理装置。
続きを表示（約 1,000 文字）【請求項２】
前記第１部材は、前記第２部材に支持される、
ことを特徴とする請求項１に記載の基板処理装置。
【請求項３】
前記第１端部に含まれる少なくとも一部の領域と前記第２端部に含まれる少なくとも一部の領域とは、前記鉛直方向において、直接又は部材を介して接触する、
ことを特徴とする請求項１に記載の基板処理装置。
【請求項４】
前記第１端部には、第１貫通孔が形成され、
前記第２端部には、前記第１貫通孔と連通する第２貫通孔が形成されている、
ことを特徴とする請求項１に記載の基板処理装置。
【請求項５】
前記第１貫通孔及び前記第２貫通孔は互いに大きさが異なる、
ことを特徴とする請求項４に記載の基板処理装置。
【請求項６】
前記第１部材及び前記第２部材は、平板状の部材である、
ことを特徴とする請求項１に記載の基板処理装置。
【請求項７】
前記第１部材は、第１基部と、前記鉛直方向において前記第１基部より薄く、前記第１基部から前記第１方向に突出する第１突出部と、を有し、
前記第２部材は、第２基部と、前記鉛直方向において前記第２基部より薄く、前記第２基部から前記第２方向に突出する第２突出部と、を有し、
前記第１突出部の少なくとも一部が前記第１端部に含まれ、
前記第２突出部の少なくとも一部が前記第２端部に含まれる、
ことを特徴とする請求項１に記載の基板処理装置。
【請求項８】
前記第１基部において前記保持部の側を向いた面と、前記第２基部において前記保持部の側を向いた面とが面一である、
ことを特徴とする請求項７に記載の基板処理装置。
【請求項９】
前記第１方向及び前記第２方向において前記第１突出部と前記第２基部との間に隙間があり、
前記第１方向及び前記第２方向において前記第２突出部と前記第１基部との間に隙間がある、
ことを特徴とする請求項７に記載の基板処理装置。
【請求項１０】
前記第１突出部及び前記第２突出部は、水平面に対して傾斜する傾斜面を有する先細り形状である、
ことを特徴とする請求項７に記載の基板処理装置。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本開示は、基板処理装置、基板処理方法、及び物品の製造方法に関する。
続きを表示（約 1,600 文字）【背景技術】
【０００２】
有機ＥＬ（ＥｌｅｃｔｒｏＬｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）素子であるＯＬＥＤ（ＯｒｇａｎｉｃＬｉｇｈｔＥｍｉｔｔｉｎｇＤｉｏｄｅ）を有するパネル（有機ＥＬパネル）などの物品を製造する際に、基板の上の所望の箇所にインクジェット装置を用いて溶液膜を塗布する方法が知られている。溶液膜は、溶質と溶媒とを含む溶液で構成される膜である。基板の上に塗布された溶液膜を乾燥させることで、基板の上に膜（層）が形成される。溶液膜の乾燥には、基板処理装置である減圧乾燥装置が用いられる。
【０００３】
特許文献１には、基板に塗布された溶液膜に対向する位置に整流板（カバー）を配置し、溶媒の蒸発速度を揃えることでより、膜形状の均一化を図る手法が開示されている。
【０００４】
一方、市場では、大型ディスプレイの普及と表示画面の大型化が進んでおり、大型パネルを製造可能な装置が望まれている。パネルサイズの大型化に伴い、カバーもパネルと同等の大型化が必要である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
特開２０１４－１９９８０６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、カバーが大型化すると、カバーの重量が重くなるので、基板処理装置のメンテナンスに時間を要するなど、基板処理装置のメンテナンス性が低いものであった。
【０００７】
そこで、本開示は、基板処理装置のメンテナンス性を向上させるのに有利な技術を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本開示の一態様は、気密容器と、前記気密容器の内部を減圧する減圧機構と、前記気密容器の内部に配置され、基板を保持する保持部と、前記保持部に保持された前記基板の側面を囲うように前記気密容器の内部に配置された側壁部材と、前記気密容器の内部に配置され、前記保持部に保持された前記基板の主面に対向するように前記側壁部材の上に配置されたカバーと、を備え、前記カバーは、第１部材と、前記第１部材と別体である第２部材と、を有し、前記第１部材の鉛直方向と交差する第１方向の先端側の第１端部と、前記第２部材の前記第１方向とは反対側の第２方向の先端側の第２端部とが、前記鉛直方向に重なり合う、ことを特徴とする基板処理装置である。
【発明の効果】
【０００９】
本開示によれば、基板処理装置のメンテナンス性を向上させるのに有利な技術が提供される。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
第１実施形態に係る基板処理装置の一例である減圧乾燥装置の構成を示す模式的な断面図である。
（ａ）及び（ｂ）は第１実施形態に係る減圧乾燥装置の一部の構成の断面図である。
第１実施形態に係る乾燥処理における圧力制御の例を示すグラフである。
（ａ）は第１実施形態に係る減圧乾燥装置の一部の構成の断面図である。（ｂ）は第１実施形態に係るカバーの説明図である。
（ａ）は第２実施形態に係る減圧乾燥装置の一部の構成の断面図である。（ｂ）は第２実施形態に係るカバーの説明図である。
（ａ）は第３実施形態に係る減圧乾燥装置の一部の構成の断面図である。（ｂ）は第３実施形態に係るカバーの説明図である。
（ａ）は第４実施形態に係る減圧乾燥装置の一部の構成の断面図である。（ｂ）は第４実施形態に係るカバーの説明図である。
（ａ）は第５実施形態に係るカバーの説明図である。（ｂ）は第６実施形態に係るカバーの説明図である。（ｃ）は第７実施形態に係るカバーの説明図である。
比較例に係る減圧乾燥装置の一部の構成の断面図である。
実施例の実験結果を示す図である。
【発明を実施するための形態】
（【００１１】以降は省略されています）

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