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公開番号2025067211
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-04-24
出願番号2023176990
出願日2023-10-12
発明の名称円偏光板の原反ロールの製造方法及び円偏光板の原反ロール
出願人住友化学株式会社
代理人個人,個人,個人
主分類G02B 5/30 20060101AFI20250417BHJP(光学)
要約【課題】活性エネルギー線硬化型接着剤の硬化物の層の偏光積層体と対向する側の表面に最大深さが500nmを超える凹部欠陥のない円偏光板の原反ロール等を提供する。
【解決手段】製造方法は、直線偏光子及び1又は複数の保護フィルムを有する偏光積層体と、活性エネルギー線硬化型接着剤の層と、一又は複数の液晶位相差層を含む位相子と、基材層と、をこの順に有する光学積層体100に活性エネルギー線を照射して活性エネルギー線硬化型接着剤の層を硬化する工程と、照射後に光学積層体100を少なくとも1つの搬送ロールR2の表面に接触させながら搬送する工程と、を備える。活性エネルギー線硬化型接着剤の層の硬化後の25℃における特定条件下の剪断応力αが100Pa以下であり、搬送する工程において、少なくとも1つの搬送ロールが光学積層体100の偏光積層体30と接触し、偏光積層体30と接触する搬送ロールの抱き角が150°以下である。
【選択図】図5
特許請求の範囲【請求項１】
直線偏光子及び１又は複数の保護フィルムを有する偏光積層体と、活性エネルギー線硬化型接着剤の層と、一又は複数の液晶位相差層を含む位相子と、基材層と、をこの順に有する光学積層体を準備する工程と、
前記光学積層体に活性エネルギー線を照射して前記活性エネルギー線硬化型接着剤の層を硬化する工程と、
前記照射後に前記光学積層体を少なくとも１つの搬送ロールの表面に接触させながら搬送する工程と、を備える、円偏光板の製造方法であって、
前記活性エネルギー線硬化型接着剤の硬化物の２５℃における剪断応力αが１００Ｐａ以下であって、
前記剪断応力αとは、直径８ｍｍ厚み５μｍの円板形状の前記活性エネルギー線硬化型接着剤の硬化物を一対のパラレルプレートで挟み、回転角１ｍｒａｄ及び周波数１Ｈｚで円板の中心軸周りに振動させてねじりモーメントを付与した場合の最大応力であり、
前記偏光積層体中の各前記保護フィルムの剛性の値の合計が２５００００Ｎ／ｍ以下であり、
前記搬送する工程において、少なくとも１つの搬送ロールが前記光学積層体の前記偏光積層体と接触し、前記光学積層体の前記偏光積層体と接触する搬送ロールの抱き角が１５０°以下であり、
前記搬送する工程において、少なくとも１つの搬送ロールが前記光学積層体の前記基材層と接触する場合であって、かつ、前記基材層の剛性の値が２５００００Ｎ／ｍ以下である場合には、さらに前記搬送する工程において、前記光学積層体の前記基材層と接触する搬送ロールの抱き角が１５０°以下である、円偏光板の原反ロールの製造方法。
続きを表示（約 610 文字）【請求項２】
前記照射する工程では、前記光学積層体に前記基材層側から前記活性エネルギー線を照射する、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
直線偏光子及び１又は複数の保護フィルムを有する偏光積層体と、活性エネルギー線硬化型接着剤の硬化物の層と、一又は複数の液晶位相差層を含む位相子と、をこの順に含む円偏光板の原反ロールであって、
前記偏光積層体中の各前記保護フィルムの剛性の値の合計が２５００００Ｎ／ｍ以下であり、
前記活性エネルギー線硬化型接着剤の硬化物の２５℃における剪断応力αが１００Ｐａ以下であって、
前記剪断応力αとは、直径８ｍｍ厚み５μｍの円板形状の前記活性エネルギー線硬化型接着剤の硬化物を一対のパラレルプレートで挟み、回転角１ｍｒａｄ及び周波数１Ｈｚで円板の中心軸周りに振動させてねじりモーメントを付与した場合の最大応力であり、
前記活性エネルギー線硬化型接着剤の硬化物の層の前記偏光積層体と対向する側の表面は、前記円偏光板の長さ方向に周期的に形成され最大深さが５００ｎｍを超える凹部を有さない、円偏光板の原反ロール。
【請求項４】
前記活性エネルギー線硬化型接着剤の硬化物の層の前記位相子と対向する側の表面は、前記円偏光板の長さ方向に周期的に形成され最大深さが５００ｎｍを超える凹部を有さない、請求項３に記載の円偏光板の原反ロール。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、円偏光板の原反ロールの製造方法及び円偏光板の原反ロールに関する。
続きを表示（約 2,100 文字）【背景技術】
【０００２】
従来より、直線偏光板を含む偏光積層体と、液晶位相差層を含む位相子とが、活性エネルギー線硬化型接着剤の硬化物層を介して接着された円偏光板が知られている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
特開２０１４－２８９７６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、従来の技術では、枚葉体である円偏光板の歩留まりに改善の余地がある。
【０００５】
本発明は上記課題に鑑みて成されたものであり、枚葉体である円偏光板の歩留まりを向上できる円偏光板の原反ロールの製造方法及び円偏光板の原反ロールを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
［１］直線偏光子及び１又は複数の保護フィルムを有する偏光積層体と、活性エネルギー線硬化型接着剤の層と、一又は複数の液晶位相差層を含む位相子と、基材層と、をこの順に有する光学積層体を準備する工程と、
前記光学積層体に活性エネルギー線を照射して前記活性エネルギー線硬化型接着剤の層を硬化する工程と、
前記照射後に前記光学積層体を少なくとも１つの搬送ロールの表面に接触させながら搬送する工程と、を備える、円偏光板の製造方法であって、
前記活性エネルギー線硬化型接着剤の硬化物の２５℃における剪断応力αが１００Ｐａ以下であって、
前記剪断応力αとは、直径８ｍｍ厚み５μｍの円板形状の前記活性エネルギー線硬化型接着剤の硬化物を一対のパラレルプレートで挟み、回転角１ｍｒａｄ及び周波数１Ｈｚで円板の中心軸周りに振動させてねじりモーメントを付与した場合の最大応力であり、
前記偏光積層体中の各前記保護フィルムの剛性の値の合計が２５００００Ｎ／ｍ以下であり、
前記搬送する工程において、少なくとも１つの搬送ロールが前記光学積層体の前記偏光積層体と接触し、前記光学積層体の前記偏光積層体と接触する搬送ロールの抱き角が１５０°以下であり、
前記搬送する工程において、少なくとも１つの搬送ロールが前記光学積層体の前記基材層と接触する場合であって、かつ、前記基材層の剛性の値が２５００００Ｎ／ｍ以下である場合には、さらに前記搬送する工程において、前記光学積層体の前記基材層と接触する搬送ロールの抱き角が１５０°以下である、円偏光板の原反ロールの製造方法。
【０００７】
［２］前記照射する工程では、前記光学積層体に前記基材層側から前記活性エネルギー線を照射する、［１］に記載の方法。
【０００８】
［３］直線偏光子及び１又は複数の保護フィルムを有する偏光積層体と、活性エネルギー線硬化型接着剤の硬化物の層と、一又は複数の液晶位相差層を含む位相子と、をこの順に含む円偏光板の原反ロールであって、
前記偏光積層体中の各前記保護フィルムの剛性の値の合計が２５００００Ｎ／ｍ以下であり、
前記活性エネルギー線硬化型接着剤の硬化物の２５℃における剪断応力αが１００Ｐａ以下であって、
前記剪断応力αとは、直径８ｍｍ厚み５μｍの円板形状の前記活性エネルギー線硬化型接着剤の硬化物を一対のパラレルプレートで挟み、回転角１ｍｒａｄ及び周波数１Ｈｚで円板の中心軸周りに振動させてねじりモーメントを付与した場合の最大応力であり、
前記活性エネルギー線硬化型接着剤の硬化物の層の前記偏光積層体と対向する側の表面は、前記円偏光板の長さ方向に周期的に形成される最大深さが５００ｎｍ超の凹部を有さない、円偏光板の原反ロール。
［４］前記活性エネルギー線硬化型接着剤の硬化物の層の前記位相子と対向する側の表面は、前記円偏光板の長さ方向に周期的に形成され最大深さが５００ｎｍを超える凹部を有さない、［３］に記載の円偏光板の原反ロール。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、枚葉体の歩留まりを向上できる円偏光板の原反ロールの製造方法及び円偏光板の原反ロールが提供される。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
製造方法の１態様における積層体の断面模式図である。
（ａ）～（ｄ）は、図１の偏光積層体３０の一例を示す断面模式図である。
（ａ）～（ｄ）は、図１の偏光積層体３０の他の一例を示す断面模式図である。
（ａ）及び（ｂ）は図１の位相子５０及び基材層８０の積層構造の一例をそれぞれ示す断面模式図である。
製造方法における搬送系を示す模式図である。
円偏光板１００’の１態様に係る断面模式図である。
光干渉法により得られる円偏光板１００’の活性エネルギー線硬化型接着剤の硬化物の層４０’の表面の断面曲線の一例である。
【発明を実施するための形態】
（【００１１】以降は省略されています）

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