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公開番号2025017994
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-02-06
出願番号2023121353
出願日2023-07-26
発明の名称被覆基材、及び被覆基材の製造方法
出願人日本特殊陶業株式会社
代理人弁理士法人グランダム特許事務所
主分類C25D 9/10 20060101AFI20250130BHJP(電気分解または電気泳動方法;そのための装置)
要約【課題】種々の分野に適用可能で、高機能を期待可能な新規な被覆基材を提供する。
【解決手段】皮膜3によって基材5が被覆されてなる被覆基材1である。皮膜3の厚みは、60nm以上10μm以下であり、皮膜3を測定した際に、C(炭素)の元素百分率が0.1atm%以上10atm%未満であり、金属元素及びO(酸素)の合計の元素百分率が80atm%以上であり、皮膜3は相対密度が90%以上であり、皮膜3にγ-Al₂O₃を含む。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項１】
皮膜によって基材が被覆されてなる被覆基材であって、
前記皮膜の厚みは、６０ｎｍ以上１０μｍ以下であり、
前記皮膜を測定した際に、Ｃ（炭素）の元素百分率が０．１ａｔｍ％以上１０ａｔｍ％未満であり、
金属元素及びＯ（酸素）の合計の元素百分率が８０ａｔｍ％以上であり、
前記皮膜は相対密度が９０％以上であり、
前記皮膜にγ－Ａｌ
２
Ｏ
３
を含む、被覆基材。
続きを表示（約 540 文字）【請求項２】
前記皮膜は断面形態として積層構造を有する、請求項１に記載の被覆基材。
【請求項３】
前記基材で前記皮膜が形成されている部位は、導電性を有する、請求項１又は請求項２に記載の被覆基材。
【請求項４】
前記積層構造における、各層の厚みが３０ｎｍ以上５００ｎｍ以下である、請求項２に記載の被覆基材。
【請求項５】
前記皮膜と前記基材との間に前記基材の酸化に由来する酸化被膜が存在しない、又は
前記皮膜と前記基材との間に前記基材の酸化に由来する前記酸化被膜の厚みが１００ｎｍ未満である、請求項１又は請求項２に記載の被覆基材。
【請求項６】
有機溶剤を溶媒とした浴液を用いた被覆基材の製造方法であって、
前記浴液は、水分含有率が５質量％未満であり、少なくとも１種類以上の金属元素を含有し、かつ少なくとも１種類以上のハロゲン元素を含有し、
基材を前記浴液中に浸漬した状態で、電圧印加することで負極側の前記基材上に前記金属元素を含む皮膜を形成し、
その後、非酸化雰囲気下での熱処理によりγ－Ａｌ
２
Ｏ
３
を形成する、被覆基材の製造方法。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本開示は、被覆基材、及び被覆基材の製造方法に関する。
続きを表示（約 2,400 文字）【背景技術】
【０００２】
特許文献１－４には、金属酸化物皮膜を備えた被覆基材が開示されている。特許文献１－４では、湿式成膜法が採用されている。他方、複雑な基材形状に合わせた厚みの制御をするために乾式成膜法（ドライプロセス）が採用される場合もあった。
種々の分野へ適用した場合の性能を考慮すると、従来の被覆基材は必ずしも十分でなく、新規な被覆基材の開発が切望されていた。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
特開２０１１－３２５２１号公報
特開２００９－１４７１９２号公報
特開２０１５－９３８２１号公報
特開平９－２０２６０６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本開示は、上記実情に鑑みてなされたものであり、種々の分野に適用可能で、高機能を期待可能な新規な被覆基材を提供することを目的とする。本開示は、以下の形態として実現することが可能である。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
［１］
皮膜によって基材が被覆されてなる被覆基材であって、
前記皮膜の厚みは、６０ｎｍ以上１０μｍ以下であり、
前記皮膜を測定した際に、Ｃ（炭素）の元素百分率が０．１ａｔｍ％以上１０ａｔｍ％未満であり、
金属元素及びＯ（酸素）の合計の元素百分率が８０ａｔｍ％以上であり、
前記皮膜は相対密度が９０％以上であり、
前記皮膜にγ－Ａｌ
２
Ｏ
３
を含む、被覆基材。
［２］
前記皮膜は断面形態として積層構造を有する、［１］に記載の被覆基材。
［３］
前記基材で前記皮膜が形成されている部位は、導電性を有する、［１］又は［２］に記載の被覆基材。
［４］
前記積層構造における、各層の厚みが３０ｎｍ以上５００ｎｍ以下である、［２］に記載の被覆基材。
［５］
前記皮膜と前記基材との間に前記基材の酸化に由来する酸化被膜が存在しない、又は
前記皮膜と前記基材との間に前記基材の酸化に由来する前記酸化被膜の厚みが１００ｎｍ未満である、［１］又は［２］に記載の被覆基材。
［６］
有機溶剤を溶媒とした浴液を用いた被覆基材の製造方法であって、
前記浴液は、水分含有率が５質量％未満であり、少なくとも１種類以上の金属元素を含有し、かつ少なくとも１種類以上のハロゲン元素を含有し、
基材を前記浴液中に浸漬した状態で、電圧印加することで負極側の前記基材上に前記金属元素を含む皮膜を形成し、
その後、非酸化雰囲気下での熱処理によりγ－Ａｌ
２
Ｏ
３
を形成する、被覆基材の製造方法。
【発明の効果】
【０００６】
本開示によれば、種々の分野に適用可能で、量産可能な新規な被覆基材が提供される。
また、本開示の被覆基材は、基材の変形に対する皮膜の追従性が高い。
また、本開示の被覆基材では、皮膜と基材の密着性が高い。
【図面の簡単な説明】
【０００７】
被覆基材の断面の模式図である。
成膜装置の模式図である。
実験例１のＸＲＤ測定結果（Ｘ線回折ピーク）を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【０００８】
以下、本開示を詳しく説明する。尚、本明細書において、数値範囲について「－」を用いた記載では、特に断りがない限り、下限値及び上限値を含むものとする。例えば、「１０－２０」という記載では、下限値である「１０」、上限値である「２０」のいずれも含むものとする。すなわち、「１０－２０」は、「１０以上２０以下」と同じ意味である。また、本明細書において、各数値範囲の上限値及び下限値は、任意に組み合わせることができる。
【０００９】
１．被覆基材１
被覆基材１は、皮膜３によって基材５が被覆されてなる。皮膜３の厚みは、６０ｎｍ以上１０μｍ以下である。
皮膜３を測定した際に、Ｃ（炭素）の元素百分率が０．１ａｔｍ％以上１０ａｔｍ％未満であり、金属元素及びＯ（酸素）の合計の元素百分率が８０ａｔｍ％以上である。皮膜３は相対密度が９０％以上である。皮膜３には、γ－Ａｌ
２
Ｏ
３
を含む。
【００１０】
（１）基材５
基材５は、特に限定されない。皮膜３の基材５への密着性を高めるために、基材５の少なくとも皮膜３によって被覆される部位（領域）は、導電性を有して負極７（陰極）となり得る材質で構成されることが好ましい。基材５の皮膜３によって被覆される部位が導電性を有して負極７（陰極）となることで、電圧印加にて、この部位に、皮膜３を容易に形成できる。
基材５の表面部が、導電性を有して負極７となり得る材質で構成されてもよい。基材５全体が負極７となり得る材質から構成されてもよい。負極７となり得る材質として、例えば、鉄系合金、カーボンが好適に用いられる。鉄系合金は、例えば、Ｆｅ－Ｎｉ－Ｃｒ系合金（オーステナイト系ステンレス）、Ｆｅ－Ｃｒ系合金（フェライト系ステンレス）、Ｆｅ－Ｎｉ系合金（パーマロイ）、Ｆｅ－Ｓｉ系合金（ケイ素鉄）、Ｆｅ－Ｓｉ－Ａｌ系合金（センダスト）、Ｆｅ－Ｎｉ－Ｍｏ（スーパーマロイ）、Ｆｅ－Ｃｏ系合金（パーメンジュール）、Ｆｅ－Ｎｉ－Ｃｏ系合金（コバール）、及びＦｅ－Ｃ－Ｂ系合金（アモルファス）から選択される１種又は２種以上が好適に例示される。
（【００１１】以降は省略されています）

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