TOP
|
特許
|
意匠
|
商標
特許ウォッチ
Twitter
他の特許を見る
公開番号
2025061616
公報種別
公開特許公報(A)
公開日
2025-04-10
出願番号
2025009562,2021214674
出願日
2025-01-23,2021-12-28
発明の名称
めっき装置およびめっき方法
出願人
株式会社荏原製作所
代理人
個人
,
個人
,
個人
,
個人
主分類
C25D
21/12 20060101AFI20250403BHJP(電気分解または電気泳動方法;そのための装置)
要約
【課題】めっき装置においてめっき膜厚の均一性を向上させる。
【解決手段】アノードから基板へ電流を流すことによって前記基板をめっきするためのめっき装置が提供される。めっき装置は、前記アノード上の複数の電気接点を介して前記アノードと電気的に接続される複数のアノード側電気配線と、前記基板上の複数の電気接点を介して前記基板と電気的に接続される複数の基板側電気配線と、前記アノード側と前記基板側の少なくとも一方において、前記複数のアノード側電気配線または前記複数の基板側電気配線の途中に配置された複数の可変抵抗と、前記複数の可変抵抗の各抵抗値を調整するように構成された制御部と、を備える。
【選択図】図5
特許請求の範囲
【請求項1】
アノードから基板へ電流を流すことによって前記基板をめっきするためのめっき装置であって、
前記アノード上の複数の電気接点を介して前記アノードと電気的に接続される複数のアノード側電気配線と、
前記基板上の複数の電気接点を介して前記基板と電気的に接続される複数の基板側電気配線と、
前記複数のアノード側電気配線および前記複数の基板側電気配線と接続され、前記アノードと前記基板との間にめっき電流を供給する整流器と、
前記複数のアノード側電気配線の途中に配置された複数の可変抵抗と、
前記複数の可変抵抗の各抵抗値を調整するように構成された制御部と、
を備えるめっき装置。
続きを表示(約 550 文字)
【請求項2】
前記制御部は、前記複数の電気接点の各々における接触抵抗値にかかわらず、前記複数のアノード側電気配線または前記複数の基板側電気配線の各経路上の抵抗値の和が実質的に等しくなるように、前記複数の可変抵抗の各抵抗値を調整する、請求項1に記載のめっき装置。
【請求項3】
前記制御部は、前記複数のアノード側電気配線または前記複数の基板側電気配線の各経路に実質的に等しい電流が流れるように、前記複数の可変抵抗の各抵抗値を調整する、請求項2に記載のめっき装置。
【請求項4】
前記制御部は、前記アノードの中央部近傍の前記電気接点に繋がる前記可変抵抗の抵抗値が相対的に小さく、かつ前記アノードの周縁部近傍の前記電気接点に繋がる前記可変抵抗の抵抗値が相対的に大きくなるように、前記複数の可変抵抗の各抵抗値を調整する、請求項1から3のいずれか1項に記載のめっき装置。
【請求項5】
前記各可変抵抗の抵抗値は、前記電気接点における接触抵抗値よりも大きい、請求項1から4のいずれか1項に記載のめっき装置。
【請求項6】
前記各可変抵抗の抵抗値は、前記電気接点における接触抵抗値よりも10倍以上大きい、請求項5に記載のめっき装置。
発明の詳細な説明
【技術分野】
【0001】
本発明は、めっき装置およびめっき方法に関する。
続きを表示(約 1,800 文字)
【背景技術】
【0002】
めっき液中に浸漬させた基板に電流を流すことによりめっき処理を行うめっき装置において、基板には、基板の周縁部に設けられた複数の電気接点を介して、電流が供給される(例えば特許文献1(特に図9)参照)。このような構成のめっき装置において、基板上に形成されるめっき膜の膜厚を基板面内にわたって均一にするには、基板周縁部の複数の電気接点に実質的に等しい電流が流れるようにすることが重要である。そのような目的のために、基板周縁部の複数の電気接点にそれぞれ可変抵抗を接続し、可変抵抗の抵抗値を調整することで、複数の電気接点に均一な電流を流すことは公知である(例えば特許文献1(特に段落0059)参照)。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
特開2015-200017号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
しかしながら、複数の可変抵抗をそれぞれどのような抵抗値に設定すればよいかを決定するのは容易ではない。例えば、各電気接点における接触抵抗はばらつくことがあり、また基板面内の膜厚分布はめっき装置に固有の分布を示すことがある。
【課題を解決するための手段】
【0005】
[形態1]形態1によれば、アノードから基板へ電流を流すことによって前記基板をめっきするためのめっき装置であって、前記アノード上の複数の電気接点を介して前記アノードと電気的に接続される複数のアノード側電気配線と、前記基板上の複数の電気接点を介して前記基板と電気的に接続される複数の基板側電気配線と、前記アノード側と前記基板側の少なくとも一方において、前記複数のアノード側電気配線または前記複数の基板側電気配線の途中に配置された複数の可変抵抗と、前記複数の可変抵抗の各抵抗値を調整するように構成された制御部と、を備えるめっき装置が提供される。
【0006】
[形態2]形態2によれば、形態1のめっき装置において、前記制御部は、前記基板上の各点におけるめっき膜厚を入力とし、前記各可変抵抗の抵抗値を出力とする機械学習モデルを用いて、前記複数の可変抵抗の各抵抗値を決定し、前記決定した各抵抗値を前記複数の可変抵抗の各々に設定して、前記めっき装置においてめっき処理を実行させる、ように構成される。
【0007】
[形態3]形態3によれば、形態2のめっき装置において、前記機械学習モデルは、前記入力としてさらに、前記アノードと前記基板の間に供給される電流値、前記アノードと前記基板の間に印加される電圧値、前記アノードと前記基板の間に電流を流す通電時間、前記基板の形状に関する情報、および前記基板のめっきに用いられるめっき液の特性に関する情報、のうちのいずれか1つまたは複数を含む。
【0008】
[形態4]形態4によれば、形態3のめっき装置において、前記基板の形状に関する情報は、前記基板の開口面積、前記基板の開口率、および前記基板の表面に形成されたシード層の厚さ、のうちのいずれか1つまたは複数を含む。
【0009】
[形態5]形態5によれば、形態2から形態4のいずれか1つのめっき装置において、前記機械学習モデルは、前記出力としてさらに、前記アノードと前記基板の間の電界を調節するために前記アノードと前記基板の間に配置されるマスクのサイズ値を含む。
【0010】
[形態6]形態6によれば、形態2から形態4のいずれか1つのめっき装置において、前記制御部は、前記機械学習モデルを用いて、前記基板上の各点におけるめっき膜厚の目標値に少なくとも基づいて前記各可変抵抗の抵抗値を算出し、前記算出された各抵抗値を前記複数の可変抵抗の各々に設定し、前記各抵抗値が前記複数の可変抵抗の各々に設定された前記めっき装置においてめっき処理を実行させ、前記めっき処理後の、前記基板上の各点におけるめっき膜厚の測定値を取得し、前記機械学習モデルを用いて、前記取得された前記基板上の各点におけるめっき膜厚の測定値に少なくとも基づいて前記各可変抵抗の抵抗値を算出し、前者の算出過程において得られた前記各可変抵抗の抵抗値と後者の算出過程において得られた前記各可変抵抗の抵抗値との差に基づいて、前記機械学習モデルを更新する、ように構成される。
(【0011】以降は省略されています)
この特許をJ-PlatPatで参照する
関連特許
株式会社荏原製作所
燃焼装置、吸収冷温水機及び燃焼量制御方法
2日前
株式会社荏原製作所
吸収冷温水機及び吸収冷温水機の運転制御方法
2日前
株式会社荏原製作所
キャンドモータとそれにより駆動するポンプ、及びそれを用いたロケットエンジンシステムと液体燃料ロケット
17日前
東レ株式会社
水電解用隔膜
1か月前
個人
水素を作る方式 水の電気分解
2日前
東ソー株式会社
酸素還元型食塩電解の運転方法
1か月前
大和ハウス工業株式会社
水素システム
1か月前
株式会社クオルテック
水素製造装置および水素製造方法
1か月前
京セラ株式会社
エネルギーシステム
24日前
株式会社東芝
電解装置
1か月前
株式会社SCREENホールディングス
電極構造体
1か月前
株式会社栗本鐵工所
金属材料
1か月前
株式会社SCREENホールディングス
電極構造体
1か月前
株式会社SCREENホールディングス
電極構造体
1か月前
個人
貴金属あるいはレアメタルの電解式回収装置
1か月前
オリオン機械株式会社
処理装置および燃料供給システム
3日前
三菱マテリアル株式会社
接着構造体
1か月前
株式会社ワールドテック
水素飲料生成装置
1か月前
トヨタ自動車株式会社
成膜装置
1か月前
株式会社SCREENホールディングス
めっき装置
1か月前
日本特殊陶業株式会社
固体酸化物形電解セルの製造方法
1か月前
日本特殊陶業株式会社
固体酸化物形電解セルの製造方法
1か月前
三菱重工業株式会社
水素製造設備及び水素製造方法
17日前
本田技研工業株式会社
触媒、カソードおよび電解装置
1か月前
三菱重工業株式会社
水素生成システム及びその制御方法
10日前
トヨタ自動車株式会社
金属皮膜の成膜装置
1か月前
株式会社アイシン
水素製造システム
19日前
東邦チタニウム株式会社
金属マグネシウムの製造方法
25日前
株式会社アイシン
水電解装置および方法
1か月前
株式会社SCREENホールディングス
めっき装置およびめっき方法
1か月前
株式会社SCREENホールディングス
めっき装置およびめっき方法
1か月前
株式会社SCREENホールディングス
めっき装置およびめっき方法
1か月前
ミカドテクノス株式会社
表面処理装置及び被覆部材
26日前
株式会社日立製作所
水電解システム及び水電解制御方法
6日前
日立GEニュークリア・エナジー株式会社
電解還元装置及び電解還元方法
26日前
国立大学法人群馬大学
めっき成形体及びめっき成形体の製造方法
10日前
続きを見る
他の特許を見る