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公開番号
2025010669
公報種別
公開特許公報(A)
公開日
2025-01-23
出願番号
2023112771
出願日
2023-07-10
発明の名称
超音波洗浄装置、基板洗浄方法、およびEUVL用マスクブランクの製造方法
出願人
AGC株式会社
代理人
弁理士法人志賀国際特許事務所
,
個人
,
個人
主分類
H01L
21/304 20060101AFI20250116BHJP(基本的電気素子)
要約
【課題】洗浄ヘッドと基板の間隔、または基板に作用する音圧の代わりになるパラメータを測定する、技術を提供する。
【解決手段】超音波洗浄装置は、基板を水平に保持する保持部と、前記保持部で保持している前記基板の上面に液膜を形成するノズルと、前記液膜に接触する振動面と前記振動面を振動させる超音波振動子とを含む洗浄ヘッドと、前記超音波振動子に配線を介して電気的に接続される超音波発振器と、前記配線において、前記超音波発振器から前記超音波振動子に向かう入射電力と、前記超音波振動子から前記超音波発振器に戻る反射電力との少なくとも1つを測定する測定部と、有する。
【選択図】図14
特許請求の範囲
【請求項1】
基板を水平に保持する保持部と、
前記保持部で保持している前記基板の上面に液膜を形成するノズルと、
前記液膜に接触する振動面と前記振動面を振動させる超音波振動子とを含む洗浄ヘッドと、
前記超音波振動子に配線を介して電気的に接続される超音波発振器と、
前記配線において、前記超音波発振器から前記超音波振動子に向かう入射電力と、前記超音波振動子から前記超音波発振器に戻る反射電力との少なくとも1つを測定する測定部と、
を有する、超音波洗浄装置。
続きを表示(約 1,700 文字)
【請求項2】
前記入射電力と前記反射電力との少なくとも1つの測定結果に基づき、前記超音波発振器のインピーダンスと前記超音波振動子のインピーダンスとのずれを表す指標値を算出する算出部を有する、請求項1に記載の超音波洗浄装置。
【請求項3】
前記指標値は、定在波比、反射係数、および反射減衰量の少なくとも1つを含む、請求項2に記載の超音波洗浄装置。
【請求項4】
前記保持部を回転させる回転部と、
前記保持部の回転中心線と直交する水平方向に前記洗浄ヘッドを移動させる第1移動部と、
前記保持部または前記洗浄ヘッドを鉛直方向に移動させることで、前記洗浄ヘッドと前記基板との間隔を調整する第2移動部と、
前記超音波発振器と前記回転部と前記第1移動部と前記第2移動部とを制御する制御部と、
を有し、
前記制御部は、前記入射電力と前記反射電力との少なくとも1つの測定結果に基づき、前記洗浄ヘッドと前記基板との間隔、前記水平方向における前記洗浄ヘッドの移動速度、前記基板の回転速度、前記入射電力の振幅、及び前記入射電力の周波数のうちの少なくとも1つを制御する、請求項1~3のいずれか1項に記載の超音波洗浄装置。
【請求項5】
基板を保持部で水平に保持することと、前記保持部で保持している前記基板の上面に液膜を形成することと、前記液膜に洗浄ヘッドの振動面を接触させることと、前記振動面を超音波振動子によって振動させることと、を有する、基板洗浄方法であって、
前記超音波振動子と超音波発振器とを電気的に接続する配線において、前記超音波発振器から前記超音波振動子に向かう入射電力と、前記超音波振動子から前記超音波発振器に戻る反射電力との少なくとも1つを測定することを有する、基板洗浄方法。
【請求項6】
前記入射電力と前記反射電力との少なくとも1つの測定結果に基づき、前記超音波発振器のインピーダンスと前記超音波振動子のインピーダンスとのずれを表す指標値を算出することを有する、請求項5に記載の基板洗浄方法。
【請求項7】
前記指標値は、定在波比、反射係数、および反射減衰量の少なくとも1つを含む、請求項6に記載の基板洗浄方法。
【請求項8】
前記基板とは別に用意した第2基板を前記保持部で保持した状態で、前記第2基板の上面の複数点のそれぞれで、前記入射電力と前記反射電力との少なくとも1つを測定することと、
前記基板を前記保持部で保持した状態で、前記基板を回転させると共に前記基板の回転中心線と直交する水平方向に前記洗浄ヘッドを移動させる際に、前記入射電力と前記反射電力との少なくとも1つの測定結果に基づき、前記洗浄ヘッドと前記基板との間隔、前記水平方向における前記洗浄ヘッドの移動速度、前記基板の回転速度、前記入射電力の振幅、及び前記入射電力の周波数のうちの少なくとも1つを制御することと、
を有する、請求項5~7のいずれか1項に記載の基板洗浄方法。
【請求項9】
前記基板を前記保持部で保持した状態で、前記基板の上面の複数点のそれぞれで、前記入射電力と前記反射電力との少なくとも1つを測定することと、
前記基板を前記保持部で保持した状態で、前記基板を回転させると共に前記基板の回転中心線と直交する水平方向に前記洗浄ヘッドを移動させる際に、前記入射電力と前記反射電力との少なくとも1つの測定結果に基づき、前記洗浄ヘッドと前記基板との間隔、前記水平方向における前記洗浄ヘッドの移動速度、前記基板の回転速度、前記入射電力、及び前記入射電力の周波数のうちの少なくとも1つを制御することと、
を有する、請求項5~7のいずれか1項に記載の基板洗浄方法。
【請求項10】
請求項5~7のいずれか1項に記載の基板洗浄方法で、ガラス基板または前記ガラス基板の上に形成された機能膜を洗浄することを有する、EUVL用マスクブランクの製造方法。
発明の詳細な説明
【技術分野】
【0001】
本開示は、超音波洗浄装置、基板洗浄方法、およびEUVL用マスクブランクの製造方法に関する。
続きを表示(約 1,400 文字)
【背景技術】
【0002】
近年、半導体デバイスの微細化に伴い、極端紫外線(Extreme Ultra-Violet:EUV)を用いた露光技術であるEUVリソグラフィー(EUVL)が開発されている。EUVとは、軟X線および真空紫外線を含み、具体的には波長が0.2nm~100nm程度の光のことである。現時点では、13.5nm程度の波長のEUVが主に検討されている。
【0003】
EUVLでは、反射型マスクが用いられる。反射型マスクは、ガラス基板などの基板と、EUVを反射する多層反射膜と、EUVを吸収する吸収膜と、をこの順で有する。吸収膜には、開口パターンが形成される。EUVLでは、吸収膜の開口パターンを半導体基板などの対象基板に転写する。転写することは、縮小して転写することを含む。
【0004】
EUVL用マスクブランクの製造工程の途中で、ガラス基板またはガラス基板の上に形成された機能膜を洗浄することがある。その洗浄方法の一つとして、超音波洗浄が行われることがある。
【0005】
特許文献1に記載の洗浄方法は、回転する基板の上面に対し、予め超音波を印可した洗浄液をノズルから噴射することを有する。特許文献2に記載の洗浄方法は、回転する基板の上面と洗浄ヘッドの下面との間に洗浄液を供給し、この洗浄液に対して洗浄ヘッドの下面から超音波を付与することで、基板の上面を洗浄する。
【0006】
特許文献2の洗浄方法は、基板上面を洗浄する際に、基板を回転させながら基板の回転中心線と直交する方向に洗浄ヘッドを移動させる。洗浄ヘッドは、基板上面の中心の真上の位置と、基板上面の周縁の真上の位置との間で水平方向に移動させられる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0007】
特開2013-158664号公報
特開2001-087725号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0008】
洗浄ヘッドと基板の間隔が変動すると、基板に作用する音圧が変動する。そこで、音圧の変動を抑制すべく、洗浄ヘッドと基板の間隔、または基板に作用する音圧を測定することが考えられる。但し、洗浄ヘッドと基板の間隔、または基板に作用する音圧を測定することが困難な場合がある。例えば、洗浄ヘッドと基板の間に洗浄液が充填されている状態で、洗浄ヘッドと基板の間隔を測定することは困難である。また、基板の中央に作用する音圧を測定することは容易であるが、基板の周縁に作用する音圧を測定することは困難である。
【0009】
本開示の一態様は、洗浄ヘッドと基板の間隔、または基板に作用する音圧の代わりになるパラメータを測定する、技術を提供する。
【課題を解決するための手段】
【0010】
本開示の一態様に係る超音波洗浄装置は、基板を水平に保持する保持部と、前記保持部で保持している前記基板の上面に液膜を形成するノズルと、前記液膜に接触する振動面と前記振動面を振動させる超音波振動子とを含む洗浄ヘッドと、前記超音波振動子に配線を介して電気的に接続される超音波発振器と、前記配線において、前記超音波発振器から前記超音波振動子に向かう入射電力と、前記超音波振動子から前記超音波発振器に戻る反射電力との少なくとも1つを測定する測定部と、有する。
【発明の効果】
(【0011】以降は省略されています)
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