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公開番号2025010669
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-01-23
出願番号2023112771
出願日2023-07-10
発明の名称超音波洗浄装置、基板洗浄方法、およびEUVL用マスクブランクの製造方法
出願人AGC株式会社
代理人弁理士法人志賀国際特許事務所,個人,個人
主分類H01L 21/304 20060101AFI20250116BHJP(基本的電気素子)
要約【課題】洗浄ヘッドと基板の間隔、または基板に作用する音圧の代わりになるパラメータを測定する、技術を提供する。
【解決手段】超音波洗浄装置は、基板を水平に保持する保持部と、前記保持部で保持している前記基板の上面に液膜を形成するノズルと、前記液膜に接触する振動面と前記振動面を振動させる超音波振動子とを含む洗浄ヘッドと、前記超音波振動子に配線を介して電気的に接続される超音波発振器と、前記配線において、前記超音波発振器から前記超音波振動子に向かう入射電力と、前記超音波振動子から前記超音波発振器に戻る反射電力との少なくとも1つを測定する測定部と、有する。
【選択図】図14
特許請求の範囲【請求項１】
基板を水平に保持する保持部と、
前記保持部で保持している前記基板の上面に液膜を形成するノズルと、
前記液膜に接触する振動面と前記振動面を振動させる超音波振動子とを含む洗浄ヘッドと、
前記超音波振動子に配線を介して電気的に接続される超音波発振器と、
前記配線において、前記超音波発振器から前記超音波振動子に向かう入射電力と、前記超音波振動子から前記超音波発振器に戻る反射電力との少なくとも１つを測定する測定部と、
を有する、超音波洗浄装置。
続きを表示（約 1,700 文字）【請求項２】
前記入射電力と前記反射電力との少なくとも１つの測定結果に基づき、前記超音波発振器のインピーダンスと前記超音波振動子のインピーダンスとのずれを表す指標値を算出する算出部を有する、請求項１に記載の超音波洗浄装置。
【請求項３】
前記指標値は、定在波比、反射係数、および反射減衰量の少なくとも１つを含む、請求項２に記載の超音波洗浄装置。
【請求項４】
前記保持部を回転させる回転部と、
前記保持部の回転中心線と直交する水平方向に前記洗浄ヘッドを移動させる第１移動部と、
前記保持部または前記洗浄ヘッドを鉛直方向に移動させることで、前記洗浄ヘッドと前記基板との間隔を調整する第２移動部と、
前記超音波発振器と前記回転部と前記第１移動部と前記第２移動部とを制御する制御部と、
を有し、
前記制御部は、前記入射電力と前記反射電力との少なくとも１つの測定結果に基づき、前記洗浄ヘッドと前記基板との間隔、前記水平方向における前記洗浄ヘッドの移動速度、前記基板の回転速度、前記入射電力の振幅、及び前記入射電力の周波数のうちの少なくとも１つを制御する、請求項１～３のいずれか１項に記載の超音波洗浄装置。
【請求項５】
基板を保持部で水平に保持することと、前記保持部で保持している前記基板の上面に液膜を形成することと、前記液膜に洗浄ヘッドの振動面を接触させることと、前記振動面を超音波振動子によって振動させることと、を有する、基板洗浄方法であって、
前記超音波振動子と超音波発振器とを電気的に接続する配線において、前記超音波発振器から前記超音波振動子に向かう入射電力と、前記超音波振動子から前記超音波発振器に戻る反射電力との少なくとも１つを測定することを有する、基板洗浄方法。
【請求項６】
前記入射電力と前記反射電力との少なくとも１つの測定結果に基づき、前記超音波発振器のインピーダンスと前記超音波振動子のインピーダンスとのずれを表す指標値を算出することを有する、請求項５に記載の基板洗浄方法。
【請求項７】
前記指標値は、定在波比、反射係数、および反射減衰量の少なくとも１つを含む、請求項６に記載の基板洗浄方法。
【請求項８】
前記基板とは別に用意した第２基板を前記保持部で保持した状態で、前記第２基板の上面の複数点のそれぞれで、前記入射電力と前記反射電力との少なくとも１つを測定することと、
前記基板を前記保持部で保持した状態で、前記基板を回転させると共に前記基板の回転中心線と直交する水平方向に前記洗浄ヘッドを移動させる際に、前記入射電力と前記反射電力との少なくとも１つの測定結果に基づき、前記洗浄ヘッドと前記基板との間隔、前記水平方向における前記洗浄ヘッドの移動速度、前記基板の回転速度、前記入射電力の振幅、及び前記入射電力の周波数のうちの少なくとも１つを制御することと、
を有する、請求項５～７のいずれか１項に記載の基板洗浄方法。
【請求項９】
前記基板を前記保持部で保持した状態で、前記基板の上面の複数点のそれぞれで、前記入射電力と前記反射電力との少なくとも１つを測定することと、
前記基板を前記保持部で保持した状態で、前記基板を回転させると共に前記基板の回転中心線と直交する水平方向に前記洗浄ヘッドを移動させる際に、前記入射電力と前記反射電力との少なくとも１つの測定結果に基づき、前記洗浄ヘッドと前記基板との間隔、前記水平方向における前記洗浄ヘッドの移動速度、前記基板の回転速度、前記入射電力、及び前記入射電力の周波数のうちの少なくとも１つを制御することと、
を有する、請求項５～７のいずれか１項に記載の基板洗浄方法。
【請求項１０】
請求項５～７のいずれか１項に記載の基板洗浄方法で、ガラス基板または前記ガラス基板の上に形成された機能膜を洗浄することを有する、ＥＵＶＬ用マスクブランクの製造方法。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本開示は、超音波洗浄装置、基板洗浄方法、およびＥＵＶＬ用マスクブランクの製造方法に関する。
続きを表示（約 1,400 文字）【背景技術】
【０００２】
近年、半導体デバイスの微細化に伴い、極端紫外線（ＥｘｔｒｅｍｅＵｌｔｒａ－Ｖｉｏｌｅｔ：ＥＵＶ）を用いた露光技術であるＥＵＶリソグラフィー（ＥＵＶＬ）が開発されている。ＥＵＶとは、軟Ｘ線および真空紫外線を含み、具体的には波長が０．２ｎｍ～１００ｎｍ程度の光のことである。現時点では、１３．５ｎｍ程度の波長のＥＵＶが主に検討されている。
【０００３】
ＥＵＶＬでは、反射型マスクが用いられる。反射型マスクは、ガラス基板などの基板と、ＥＵＶを反射する多層反射膜と、ＥＵＶを吸収する吸収膜と、をこの順で有する。吸収膜には、開口パターンが形成される。ＥＵＶＬでは、吸収膜の開口パターンを半導体基板などの対象基板に転写する。転写することは、縮小して転写することを含む。
【０００４】
ＥＵＶＬ用マスクブランクの製造工程の途中で、ガラス基板またはガラス基板の上に形成された機能膜を洗浄することがある。その洗浄方法の一つとして、超音波洗浄が行われることがある。
【０００５】
特許文献１に記載の洗浄方法は、回転する基板の上面に対し、予め超音波を印可した洗浄液をノズルから噴射することを有する。特許文献２に記載の洗浄方法は、回転する基板の上面と洗浄ヘッドの下面との間に洗浄液を供給し、この洗浄液に対して洗浄ヘッドの下面から超音波を付与することで、基板の上面を洗浄する。
【０００６】
特許文献２の洗浄方法は、基板上面を洗浄する際に、基板を回転させながら基板の回転中心線と直交する方向に洗浄ヘッドを移動させる。洗浄ヘッドは、基板上面の中心の真上の位置と、基板上面の周縁の真上の位置との間で水平方向に移動させられる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
特開２０１３－１５８６６４号公報
特開２００１－０８７７２５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
洗浄ヘッドと基板の間隔が変動すると、基板に作用する音圧が変動する。そこで、音圧の変動を抑制すべく、洗浄ヘッドと基板の間隔、または基板に作用する音圧を測定することが考えられる。但し、洗浄ヘッドと基板の間隔、または基板に作用する音圧を測定することが困難な場合がある。例えば、洗浄ヘッドと基板の間に洗浄液が充填されている状態で、洗浄ヘッドと基板の間隔を測定することは困難である。また、基板の中央に作用する音圧を測定することは容易であるが、基板の周縁に作用する音圧を測定することは困難である。
【０００９】
本開示の一態様は、洗浄ヘッドと基板の間隔、または基板に作用する音圧の代わりになるパラメータを測定する、技術を提供する。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本開示の一態様に係る超音波洗浄装置は、基板を水平に保持する保持部と、前記保持部で保持している前記基板の上面に液膜を形成するノズルと、前記液膜に接触する振動面と前記振動面を振動させる超音波振動子とを含む洗浄ヘッドと、前記超音波振動子に配線を介して電気的に接続される超音波発振器と、前記配線において、前記超音波発振器から前記超音波振動子に向かう入射電力と、前記超音波振動子から前記超音波発振器に戻る反射電力との少なくとも１つを測定する測定部と、有する。
【発明の効果】
（【００１１】以降は省略されています）

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