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公開番号2024165092
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-11-28
出願番号2023080954
出願日2023-05-16
発明の名称測定装置、測定方法、及びプログラム
出願人横河電機株式会社,横河計測株式会社
代理人個人,個人,個人
主分類G01J 3/18 20060101AFI20241121BHJP(測定;試験)
要約【課題】被測定光の測定スペクトルに対してダイナミックレンジを向上させることが可能な測定装置を提供する。
【解決手段】本開示に係る測定装置1は、制御部80と、被測定光L1を通過させる開口部132aが形成されている光学素子を有する分光器10と、を備え、制御部80は、被測定光L1のビームスポットPが開口部132a内で第1位置x1にあるときの第1スペクトルS1(i)及び第2位置x2にあるときの第2スペクトルS2(i)を少なくとも合成して狭窄化した被測定光L1の合成スペクトルSr(i)を生成する第1処理を実行し、第1位置x1は、ビームスポットPの開口部132a内での基準位置x0から所定方向Dの一方側にずれた位置を含み、第2位置x2は、基準位置x0から他方側にずれた位置を含む。
【選択図】図4
特許請求の範囲【請求項１】
制御部と、
被測定光を通過させる開口部が形成されている光学素子を有する分光器と、
を備え、
前記制御部は、前記被測定光のビームスポットが前記開口部内で第１位置にあるときの第１スペクトル及び第２位置にあるときの第２スペクトルを少なくとも合成して狭窄化した前記被測定光の合成スペクトルを生成する第１処理を実行し、
前記第１位置は、前記ビームスポットの前記開口部内での基準位置から所定方向の一方側にずれた位置を含み、
前記第２位置は、前記基準位置から他方側にずれた位置を含む、
測定装置。
続きを表示（約 1,200 文字）【請求項２】
請求項１に記載の測定装置であって、
前記制御部は、前記第１スペクトル及び前記第２スペクトルのうち各測定点でより低い強度を有するスペクトルを用いて前記合成スペクトルを生成する、
測定装置。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の測定装置であって、
前記制御部は、前記第１位置及び前記第２位置の少なくとも一方を、前記第１処理の実行前に測定により予め決定する前処理を実行する、
測定装置。
【請求項４】
請求項３に記載の測定装置であって、
前記制御部は、前記前処理において、前記ビームスポットの位置を前記基準位置から前記一方側に所定距離ごとにずらして光スペクトルの強度が維持される第１距離範囲を算出し、前記第１距離範囲に基づいて前記第１位置を決定する、
測定装置。
【請求項５】
請求項３に記載の測定装置であって、
前記制御部は、前記前処理において、前記ビームスポットの位置を前記基準位置から前記他方側に所定距離ごとにずらして光スペクトルの強度が維持される第２距離範囲を算出し、前記第２距離範囲に基づいて前記第２位置を決定する、
測定装置。
【請求項６】
請求項１又は２に記載の測定装置であって、
前記制御部は、前記第１処理において、前記第１スペクトル及び前記第２スペクトルを合成したときに前記合成スペクトルにおいて互いに隣接する一対のピークの間に局所ピークが発生しているか否かを判定する、
測定装置。
【請求項７】
請求項６に記載の測定装置であって、
前記制御部は、前記局所ピークが発生していると判定すると、前記第１スペクトル及び前記第２スペクトルに加え、前記ビームスポットが前記基準位置にあるときの第３スペクトルも合成して前記合成スペクトルを生成する、
測定装置。
【請求項８】
請求項７に記載の測定装置であって、
前記制御部は、前記第１スペクトル、前記第２スペクトル、及び前記第３スペクトルのうち各測定点で最低となる強度を有するスペクトルを用いて前記合成スペクトルを生成する、
測定装置。
【請求項９】
請求項６に記載の測定装置であって、
前記制御部は、前記局所ピークが発生していると判定すると、前記局所ピークを他の部分と異なる態様で表示させる、
測定装置。
【請求項１０】
請求項６に記載の測定装置であって、
前記制御部は、前記局所ピークが発生していると判定すると、前記局所ピークの両側のデータに基づいて補間処理を実行し、前記局所ピークでの光スペクトルデータを更新する、
測定装置。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本開示は、測定装置、測定方法、及びプログラムに関する。
続きを表示（約 1,300 文字）【背景技術】
【０００２】
従来、例えば波長領域において高い分解能又はシャープなフィルタ特性を得るために、被測定光を回折格子に複数回入射させると共に複数のスリットを通過させるマルチパス方式の分光器が知られている。
【０００３】
例えば、特許文献１には、マルチパス方式の分光器であって、最終の分光経路より前の分光経路にて生じた散乱光の一部が最終の分光経路での回折光と同一光路をたどる場合に生じる、分光特性上の分解能及びダイナミックレンジの悪化を抑制する分光器が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
特開２００９－１７５０３８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、より広いダイナミックレンジでシャープな測定スペクトルを被測定光に対し得るという観点でさらなる改善の余地があった。
【０００６】
本開示は、被測定光の測定スペクトルに対してダイナミックレンジを向上させることが可能な測定装置、測定方法、及びプログラムを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
幾つかの実施形態に係る測定装置は、制御部と、被測定光を通過させる開口部が形成されている光学素子を有する分光器と、を備え、前記制御部は、前記被測定光のビームスポットが前記開口部内で第１位置にあるときの第１スペクトル及び第２位置にあるときの第２スペクトルを少なくとも合成して狭窄化した前記被測定光の合成スペクトルを生成する第１処理を実行し、前記第１位置は、前記ビームスポットの前記開口部内での基準位置から所定方向の一方側にずれた位置を含み、前記第２位置は、前記基準位置から他方側にずれた位置を含む。
【０００８】
これにより、測定装置は、被測定光の合成スペクトルに対してダイナミックレンジを向上させることが可能である。測定装置は、第１スペクトル及び第２スペクトルを少なくとも合成して合成スペクトルを生成する第１処理を実行する。これにより、測定装置は、スリット幅が理想的なスポットサイズと同一になるような場合と同様に、広いダイナミックレンジでシャープな合成スペクトルのデータを取得することができる。
【０００９】
一実施形態における測定装置では、前記制御部は、前記第１スペクトル及び前記第２スペクトルのうち各測定点でより低い強度を有するスペクトルを用いて前記合成スペクトルを生成してもよい。これにより、測定装置は、第１スペクトル及び第２スペクトルの各々に対して狭窄化された合成スペクトルを生成可能である。
【００１０】
一実施形態における測定装置では、前記制御部は、前記第１位置及び前記第２位置の少なくとも一方を、前記第１処理の実行前に測定により予め決定する前処理を実行してもよい。これにより、測定装置は、第１処理における第１スペクトル及び第２スペクトルの測定を精度良く実行することができる。
（【００１１】以降は省略されています）

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