特許ウォッチ

公開番号2024125911
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-09-19
出願番号2023034042
出願日2023-03-06
発明の名称外観検査装置、及び外観検査方法
出願人オムロン株式会社
代理人弁理士法人秀和特許事務所
主分類G01N 21/956 20060101AFI20240911BHJP(測定;試験)
要約【課題】基板の外観検査を実行する領域を割付する際に、基板の表面において外観検査を除外する領域であって適切な広さを有する非検査領域を容易に設定することを可能とする外観検査装置、及び外観検査方法を提供する。
【解決手段】基板の外観検査を実行する領域を割付する際に、基板の表面において外観検査を除外する非検査領域を設定可能な外観検査装置は、所定の領域が含まれるように、複数の基板の各々の外観を撮像する撮像部と、複数の撮像画像の一部または全てを重ね合わせた積層画像を生成する生成部と、積層画像において、所定の領域が含まれる領域を非検査領域として設定するまたは設定を補助する非検査領域設定部と、撮像画像、積層画像、及び非検査領域の少なくとも何れかを表示する表示部と、を備える。また、外観検査装置を用いて外観検査方法を実施することが可能である。
【選択図】図3
特許請求の範囲【請求項１】
基板の外観検査を実行する領域を割付する際に、当該基板の表面において当該外観検査を除外する非検査領域を設定可能な外観検査装置であって、
複数の前記基板の各々の前記表面における所定の領域が含まれるように、複数の前記基板の各々の前記外観を撮像する撮像部と、
前記撮像部から取得した複数の撮像画像の一部または全てを重ね合わせた積層画像を生成する生成部と、
前記生成部が生成した前記積層画像において、前記所定の領域が含まれる領域を前記非検査領域として設定するまたは設定を補助する非検査領域設定部と、
前記撮像部から取得した前記撮像画像、前記生成部が生成した前記積層画像、及び前記非検査領域設定部が設定したまたは設定を補助した前記非検査領域の少なくとも何れかを表示する表示部と、を備えることを特徴とする、外観検査装置。
続きを表示（約 1,900 文字）【請求項２】
前記基板の前記外観における前記所定の領域の、基準位置に対する位置ずれの方向及び量の少なくとも一方の傾向を示す位置ずれ傾向を、複数の前記基板以外の他の基板に基づいて算出する算出部と、
前記算出部が算出した前記位置ずれ傾向に基づき、前記非検査領域設定部が設定したまたは設定を補助した前記非検査領域を調整する調整部と、をさらに備えることを特徴とする、請求項１に記載の外観検査装置。
【請求項３】
前記基板の前記外観における前記所定の領域の、基準位置に対する位置ずれの方向及び量の少なくとも一方の傾向を示す位置ずれ傾向を、複数の前記基板以外の他の基板に基づいて算出する算出部と、
過去の所定期間内に前記算出部が算出した前記位置ずれ傾向に基づき、将来の前記位置ずれ傾向を予測する予測部と、
前記予測部が予測した前記位置ずれ傾向に基づき、前記非検査領域設定部が設定したまたは設定を補助した前記非検査領域を調整する調整部と、をさらに備えることを特徴とする、請求項１に記載の外観検査装置。
【請求項４】
前記非検査領域設定部は、自動的に前記非検査領域を設定することを特徴とする、請求項１に記載の外観検査装置。
【請求項５】
前記撮像部が撮像した前記撮像画像を二値化して二値化画像とする撮像画像処理部をさらに備え、
前記生成部は、前記二値化画像に基づいて前記積層画像を生成し、
前記表示部は、二色で前記積層画像を表示することを可能とすることを特徴とする、請求項１に記載の外観検査装置。
【請求項６】
前記基板の前記外観検査を実行する際に、任意の基板の表面における前記所定の領域が、前記非検査領域設定部が予め設定した前記非検査領域から外れた箇所がある場合に当該箇所を検出する検出部と、
前記検出部が検出した、前記任意の基板の表面において前記所定の領域が前記非検査領域から外れた箇所が前記非検査領域に含まれるように、前記非検査領域を修正する修正部と、をさらに備えることを特徴とする、請求項１に記載の外観検査装置。
【請求項７】
前記所定の領域は、前記基板の前記外観に印刷されたシルク印刷を含む領域であることを特徴とする、請求項１に記載の外観検査装置。
【請求項８】
基板の外観検査を実行する領域を割付する際に、当該基板の表面において当該外観検査
を除外する非検査領域を設定可能な外観検査方法であって、
複数の前記基板の各々の前記外観における所定の領域が含まれるように、複数の前記基板の各々の前記外観を撮像する撮像工程と、
前記撮像工程において取得した複数の撮像画像の一部または全てを重ね合わせた積層画像を生成する生成工程と、
前記生成工程において生成した前記積層画像において、前記所定の領域が含まれる領域を前記非検査領域として設定するまたは設定を補助する非検査領域設定工程と、
前記撮像工程において取得した前記撮像画像、前記生成工程において生成した前記積層画像、及び前記非検査領域設定工程において設定したまたは設定を補助した前記非検査領域の少なくとも何れかを表示する表示工程と、を有することを特徴とする、外観検査方法。
【請求項９】
前記基板の前記外観における前記所定の領域の、基準位置に対する位置ずれの方向及び量の少なくとも一方の傾向を示す位置ずれ傾向を、複数の前記基板以外の他の基板に基づいて算出する算出工程と、
前記算出工程において算出した前記位置ずれ傾向に基づき、前記非検査領域設定工程において設定したまたは設定を補助した前記非検査領域を調整する調整工程と、をさらに有することを特徴とする、請求項８に記載の外観検査方法。
【請求項１０】
前記基板の前記外観における前記所定の領域の、基準位置に対する位置ずれの方向及び量の少なくとも一方の傾向を示す位置ずれ傾向を、複数の前記基板以外の他の基板に基づいて算出する算出工程と、
過去の所定期間内に前記算出工程において算出した前記位置ずれ傾向に基づき、将来の前記位置ずれ傾向を予測する予測工程と、
前記予測工程において予測した前記位置ずれ傾向に基づき、前記非検査領域設定工程において設定したまたは設定を補助した前記非検査領域を調整する調整工程と、をさらに有することを特徴とする、請求項８に記載の外観検査方法。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板の表面において外観検査を除外する非検査領域を設定可能な外観検査装置、及び外観検査方法に関する。
続きを表示（約 2,400 文字）【背景技術】
【０００２】
従来、基板の表面において、基板の外観検査を実行する領域である検査領域と、基板の外観検査から除外される領域である非検査領域を設定する基板外観検査装置が公知である（例えば、特許文献１参照）。外観検査を実行する場合には、基板上に印刷されたマーク部分等が、異物や欠陥として誤検出されることを防止するため、非検査領域を設定し、非検査領域に関しては、外観検査から除外することとなっている。（以下、外観検査から除外する対象部分を除外対象ともいう。）
【０００３】
基板外観検査装置を用いて非検査領域を設定する際には、その広さが問題となる。例えば、非検査領域を狭く設定しすぎた場合は、本来であれば外観検査を実行する必要のない領域まで実行することとなる。その結果、外観検査にかかる工数が増大する。また、反対に、非検査領域を広く設定しすぎた場合は、異物や傷といった基板の外観不良も非検査領域に含まれやすくなる。その結果、基板の外観検査の際にそのような外観不良を見逃す虞がある。すなわち、基板の表面において非検査領域を設定する際には、除外対象を包含できる範囲で出来る限り狭く設定することが望まれる。
【０００４】
また、非検査領域の設定においては、除外対象の位置のバラツキも問題となる。除外対象を余裕なく囲うような非検査領域を設定した場合には、基板によって除外対象の位置がバラついた場合に、非検査領域からはみ出し、異物や欠陥として誤検出されてしまう虞があった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
特開２００８－２９８６８０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本件開示の技術は、上記の問題を解決するためになされたものであり、その目的は、基板の外観検査を実行する領域を割付する際に、適切な広さを有する非検査領域を容易に設定することを可能とする外観検査装置、及び外観検査方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記の課題を解決するための本開示は、撮像部と、生成部と、非検査領域設定部と、表示部と、を備える外観検査装置を含む。本開示においては、検査対象である複数の基板の各々の表面において、外観不良に該当しないとする所定の領域（上記の除外対象に相当）を決定している。当該所定の領域の一例としては、シルク印刷が形成された領域が挙げられる。このシルク印刷は、外観検査時に異物等の外観不良として検出される虞がある。生成部は、撮像部から取得した撮像画像のうちの、複数の撮像画像を重ね合わせた積層画像を生成する。このとき、積層画像の生成に用いる撮像画像は、撮像部から取得した撮像画像の一部であってもよく、全てであってもよい。非検査領域設定部は、積層画像において、所定の領域が含まれる領域を非検査領域として設定するか、あるいは設定を補助する。ここで、設定を補助するとは、例えば、非検査領域が設定された後にその範囲を手動でシフトすることや、拡大または縮小することを示す。表示部は、撮像画像、積層画像、及び
非検査領域の少なくとも何れかを、外観検査装置のユーザが認識可能に表示する。
【０００８】
より詳細には、
基板の外観検査を実行する領域を割付する際に、当該基板の表面において当該外観検査を除外する非検査領域を設定可能な外観検査装置であって、
複数の前記基板の各々の前記外観における所定の領域が含まれるように、複数の前記基板の各々の前記外観を撮像する撮像部と、
前記撮像部から取得した複数の撮像画像の一部または全てを重ね合わせた積層画像を生成する生成部と、
前記生成部が生成した前記積層画像において、前記所定の領域が含まれる領域を前記非検査領域として設定するまたは設定を補助する非検査領域設定部と、
前記撮像部から取得した前記撮像画像、前記生成部が生成した前記積層画像、及び前記非検査領域設定部が設定したまたは設定を補助した前記非検査領域の少なくとも何れかを表示する表示部と、を備えることを特徴とする、外観検査装置を含む。
【０００９】
設定した非検査領域が狭すぎると、外観不良が生じていない、あるいは生じ得ない領域において外観不良を検出したという虚報を外観検査装置が発生する虞がある。その結果、外観検査にかかる工数が増大する虞がある。反対に、設定した非検査領域が広すぎると、外観不良が生じている箇所が非検査領域に含まれる虞がある。その結果、当該箇所を見逃す虞がある。非検査領域設定部は、適切な広さを有する非検査領域を設定し、または設定を補助することによって、係る問題を解消することが可能である。また、表示部によって、外観検査装置のユーザが、撮像画像や積層画像の外観を容易に把握することも可能である。
【００１０】
また、本開示においては、前記基板の前記表面における前記所定の領域の、基準位置に対する位置ずれの方向及び量の少なくとも一方の傾向を示す位置ずれ傾向を、複数の前記基板以外の他の基板に基づいて算出する算出部と、前記算出部が算出した前記位置ずれ傾向に基づき、前記非検査領域設定部が設定したまたは設定を補助した前記非検査領域を調整する調整部と、をさらに備えることとしてもよい。これによれば、位置ずれ傾向に基づき、非検査領域を微調整することが可能である。ここで、調整とは、算出部が算出した位置ずれ傾向に基づき、調整部が、例えば非検査領域の範囲をシフトすることや、拡大または縮小することを示す。
（【００１１】以降は省略されています）

関連特許