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公開番号2024112631
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-08-21
出願番号2023017818
出願日2023-02-08
発明の名称プラズマ処理装置
出願人日新電機株式会社
代理人弁理士法人 HARAKENZO WORLD PATENT & TRADEMARK
主分類H05H 1/46 20060101AFI20240814BHJP(他に分類されない電気技術)
要約【課題】設置面積に対して多くの被処理物を効率よくプラズマ処理することが求められている。
【解決手段】プラズマ処理装置(1)は、真空容器(10)と、一つの平面内において互いのアンテナに対し平行に配置され、高周波電流が流されてプラズマを発生させる複数本のアンテナ(23)と、真空容器内に、平面を挟んだ2面に被処理物(31)を固定する複数のホルダー(30)と、を備える。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項１】
真空容器と、
互いに平行に配置され、高周波電流が流されてプラズマを発生させる複数のアンテナと、
前記真空容器内に前記複数のアンテナを挟むように配置され、複数の被処理物を固定する複数のホルダーと、を備えた、プラズマ処理装置。
続きを表示（約 770 文字）【請求項２】
前記複数のアンテナのそれぞれは、第１方向に延伸し、
前記複数のアンテナは、前記第１方向に垂直な第２方向に並んでいる、請求項１に記載のプラズマ処理装置。
【請求項３】
前記第１方向は、水平方向であり、前記第２方向は鉛直方向である、請求項２に記載のプラズマ処理装置。
【請求項４】
前記複数のホルダーの少なくとも１つには、前記複数のホルダーに挟まれた空間にガスを導入する噴出口が形成されている、請求項１に記載のプラズマ処理装置。
【請求項５】
前記複数のホルダーは、前記第２方向において、前記アンテナ同士の中央に前記複数の被処理物が位置するように、前記複数の被処理物を固定する、請求項２に記載のプラズマ処理装置。
【請求項６】
前記複数のアンテナが位置する平面と前記被処理物の先端との間隔は、前記アンテナ同士の間隔以下となるように、前記複数のホルダーは、前記複数の被処理物を固定する、請求項１に記載のプラズマ処理装置。
【請求項７】
前記被処理物同士の間隔Ｄは、前記アンテナ同士の間隔をＬとした場合において、Ｌ／１０≦Ｄ≦Ｌ／２の条件を満たす、請求項１に記載のプラズマ処理装置。
【請求項８】
前記複数のホルダーは、棒状の前記被処理物を、前記複数のアンテナが位置する平面に対して垂直になるように固定する、請求項１に記載のプラズマ処理装置。
【請求項９】
前記高周波電流の周波数は、１３．５６［ＭＨｚ］またはその倍数である、請求項１から８のいずれか１項に記載のプラズマ処理装置。
【請求項１０】
前記被処理物に対し、ダイアモンドを成膜する、請求項１から８のいずれか１項に記載のプラズマ処理装置。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラズマを用いて被処理物を処理するプラズマ処理装置に関する。
続きを表示（約 1,200 文字）【背景技術】
【０００２】
従来、プラズマを用いて被処理物を処理する技術が知られている。特許文献１には、２．４５ＧＨｚのマイクロ波を用いたプラズマによって、ダイアモンドを成膜するＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition：化学気相堆積法）装置が開示されている。
【０００３】
一般に広く開放されている周波数帯として、マイクロ波以外に１３．５６ＭＨｚのＲＦ帯もある。マイクロ波は、プラズマ密度がＲＦ帯よりも高く、プラズマに対して高い電力を供給することができる。そのため、ダイアモンドの成膜において、マイクロ波のプラズマが広く用いられてきた。
【０００４】
ここで、特許文献２には、ＲＦ帯のプラズマを用いて、原料ガスをＣＶＤするプラズマ処理装置が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
特開２０２１－０９１５７６号公報
特許第６３４１３２９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、上述のような従来技術はＲＦ帯を用いて、ダイアモンドをＣＶＤすることが困難であった。また、特許文献２のようなプラズマ処理装置では、設置面積に対して一度に処理できる被処理物が限られており、スペ－ス効率が悪かった。
【０００７】
本発明の一態様は、設置面積に対して多くの被処理物を効率よくプラズマ処理することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記の課題を解決するために、本発明の一態様に係るプラズマ処理装置は、真空容器と、アンテナであって、一つの平面内において互いの前記アンテナに対し平行に配置され、高周波電流が流されてプラズマを発生させる複数本のアンテナと、前記真空容器内に、前記平面を挟んだ２面に被処理物を固定する複数のホルダーと、を備える。
【発明の効果】
【０００９】
本発明の一態様によれば、設置面積に対して多くの被処理物を効率よくプラズマ処理することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
プラズマ処理装置の概要を示すモデル図である。
プラズマ処理装置の斜視図である。
プラズマ処理装置の側面図である。
プラズマ処理装置の平面図である。
プラズマ処理装置の前面図である。
図３においてアンテナを表示しなかった場合の側面図である。
噴出口の配置を変更した変形例であるプラズマ処理装置を示す側面図である。
被処理物の配置を変更した変形例であるプラズマ処理装置を示す平面図である。
アンテナの延伸方向を変更した変形例であるプラズマ処理装置の斜視図である。
【発明を実施するための形態】
（【００１１】以降は省略されています）

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