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公開番号2024086045
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-06-27
出願番号2022200909
出願日2022-12-16
発明の名称膜付きガラス基板及びその製造方法
出願人日本電気硝子株式会社
代理人弁理士法人大阪フロント特許事務所
主分類C03C 17/36 20060101AFI20240620BHJP(ガラス;鉱物またはスラグウール)
要約【課題】外部からの基板加熱機構を有さないインラインスパッタリング装置を用いた場合においても、所望の特性を有する機能膜を成膜することができる、膜付きガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】インラインスパッタリング装置を用いて、物理的堆積法によりガラス基板2上に複数の膜を成膜する、膜付きガラス基板1の製造方法であって、複数の膜が、基板加熱促進膜3と、機能膜4とを含み、ガラス基板2上に基板加熱促進膜3を形成して、ガラス基板2の温度を上昇させる工程と、ガラス基板2の温度を上昇させた後、ガラス基板2の温度が実質的に低下する前に、基板加熱促進膜3上に機能膜4を形成する工程とを備える、膜付きガラス基板1の製造方法。
【選択図】図2
特許請求の範囲【請求項１】
インラインスパッタリング装置を用いて、物理的堆積法によりガラス基板上に複数の膜を成膜する、膜付きガラス基板の製造方法であって、
前記複数の膜が、基板加熱促進膜と、機能膜とを含み、
前記ガラス基板上に前記基板加熱促進膜を形成して、前記ガラス基板の温度を上昇させる工程と、
前記ガラス基板の温度を上昇させた後、前記ガラス基板の温度が実質的に低下する前に、前記基板加熱促進膜上に前記機能膜を形成する工程と、
を備える、膜付きガラス基板の製造方法。
続きを表示（約 1,100 文字）【請求項２】
前記インラインスパッタリング装置が、バイポーラパルス電源に接続されるカソードユニットを有し、
前記ガラス基板の搬送方向において、
上流側に設けられる基板加熱促進膜形成用ターゲットを用いて、前記基板加熱促進膜を形成し、
下流側に設けられる機能膜形成用ターゲットを用いて、前記機能膜を形成する、請求項１に記載の膜付きガラス基板の製造方法。
【請求項３】
前記基板加熱促進膜形成用ターゲットと前記機能膜形成用ターゲットとの間の距離が、４０ｃｍ以下である、請求項１又は２に記載の膜付きガラス基板の製造方法。
【請求項４】
前記機能膜を形成する直前の前記ガラス基板の温度が、１００℃以上である、請求項１又は２に記載の膜付きガラス基板の製造方法。
【請求項５】
前記基板加熱促進膜を形成した直後の前記ガラス基板の温度と、前記機能膜を形成する直前の前記ガラス基板の温度との差が、５０℃以下である、請求項１又は２に記載の膜付きガラス基板の製造方法。
【請求項６】
前記基板加熱促進膜が、酸化ケイ素及び酸化ニオブのうち少なくとも一方を含む、請求項１又は２に記載の膜付きガラス基板の製造方法。
【請求項７】
前記機能膜が、光吸収膜、導電膜、及び深紫外線透過膜からなる群から選択される少なくとも１種を含む、請求項１又は２に記載の膜付きガラス基板の製造方法。
【請求項８】
前記光吸収膜が、バンドギャップが、２．０ｅＶ以上、２．７ｅＶ以下の材料により構成される誘電体相と、金属相とを含む、請求項１又は２に記載の膜付きガラス基板の製造方法。
【請求項９】
ガラス基板と、
前記ガラス基板の一方側の主面上に設けられている、複数の膜と、
を備え、
前記複数の膜が、基板加熱促進膜と、機能膜とを含み、
前記複数の膜が、積層方向において隣接する膜に向かって、前記膜を構成する成分が漸移する漸移層を含む、膜付きガラス基板。
【請求項１０】
ガラス基板と、
前記ガラス基板の一方側の主面上に設けられている、複数の膜と、
を備え、
前記複数の膜が、基板加熱促進膜と、機能膜とを含み、
前記基板加熱促進膜が、酸化ケイ素を含み、
前記機能膜が、バンドギャップが、２．０ｅＶ以上、２．７ｅＶ以下の材料により構成される誘電体相と、金属相とを含む、光吸収膜である、膜付きガラス基板。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、膜付きガラス基板の製造方法及び膜付きガラス基板に関する。
続きを表示（約 1,300 文字）【背景技術】
【０００２】
従来、ガラス基板上に、光吸収膜や、導電膜、あるいは深紫外線透過膜などの機能膜が形成された膜付きガラス基板が広く用いられている。例えば、調理器用トッププレートや、表示用ディスプレイのカバーガラスとしては、光吸収膜を有する膜付きガラス基板が用いられている。
【０００３】
下記の特許文献１には、ガラス基板と、ガラス基板の一方側主面上に設けられている、光吸収膜とを備える、膜付きガラス基板が開示されている。特許文献１では、上記光吸収膜は、バンドギャップが２．０ｅＶ以上、２．７ｅＶ以下の材料から構成された誘電体相と、金属相とを含むことが記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
国際公開第２０２１／００２３０４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、特許文献１の光吸収膜のような機能膜は、ガラス基板の温度が高い状態で成膜しないと所望の特性が得られない場合がある。従って、外部からの基板加熱機構を有さないインラインスパッタリング装置を用いて、ガラス基板上に機能膜を成膜した場合、所望の特性を得られないという問題がある。
【０００６】
本発明の目的は、外部からの基板加熱機構を有さないインラインスパッタリング装置を用いた場合においても、所望の特性を有する機能膜を成膜することができる、膜付きガラス基板の製造方法及び膜付きガラス基板を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決する膜付きガラス基板の製造方法及び膜付きガラス基板の各態様について説明する。
【０００８】
本発明の態様１に係る膜付きガラス基板の製造方法は、インラインスパッタリング装置を用いて、物理的堆積法によりガラス基板上に複数の膜を成膜する、膜付きガラス基板の製造方法であって、前記複数の膜が、基板加熱促進膜と、機能膜とを含み、前記ガラス基板上に前記基板加熱促進膜を形成して、前記ガラス基板の温度を上昇させる工程と、前記ガラス基板の温度を上昇させた後、前記ガラス基板の温度が実質的に低下する前に、前記基板加熱促進膜上に前記機能膜を形成する工程とを備えることを特徴としている。
【０００９】
態様２に係る膜付きガラス基板の製造方法は、態様１において、前記インラインスパッタリング装置が、バイポーラパルス電源に接続されるカソードユニットを有し、前記ガラス基板の搬送方向において、上流側に設けられる基板加熱促進膜形成用ターゲットを用いて、前記基板加熱促進膜を形成し、下流側に設けられる機能膜形成用ターゲットを用いて、前記機能膜を形成することが好ましい。
【００１０】
態様３に係る膜付きガラス基板の製造方法は、態様１又は２において、前記基板加熱促進膜形成用ターゲットと前記機能膜形成用ターゲットとの間の距離が、４０ｃｍ以下であることが好ましい。
（【００１１】以降は省略されています）

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