特許ウォッチ

公開番号2023075686
公報種別公開特許公報(A)
公開日2023-05-31
出願番号2021188741
出願日2021-11-19
発明の名称スパッタリングターゲット材およびスパッタリングターゲット
出願人住友化学株式会社
代理人個人,個人
主分類C23C 14/34 20060101AFI20230524BHJP(金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般)
要約【課題】特性に優れたスパッタリングターゲット材を提供する。
【解決手段】カリウム、ナトリウム、ニオブ、及び酸素を含む酸化物の焼結体からなるスパッタリングターゲット材であって、スパッタ面にて観察される複数の結晶粒における、数平均粒子径Nd、および、面積平均粒子径Nvが、(Nv-Nd)/Nd≦2.1の関係式を満たすか、面積平均粒子径Nv、および、面積平均標準偏差Nsが、Ns/Nv≦0.76の関係式を満たす。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項１】
カリウム、ナトリウム、ニオブ、及び酸素を含む酸化物の焼結体からなるスパッタリングターゲット材であって、
スパッタ面にて観察される複数の結晶粒における、数平均粒子径Ｎｄ、および、面積平均粒子径Ｎｖが、（Ｎｖ－Ｎｄ）／Ｎｄ≦２．１の関係式を満たす、
スパッタリングターゲット材。
続きを表示（約 550 文字）【請求項２】
カリウム、ナトリウム、ニオブ、及び酸素を含む酸化物の焼結体からなるスパッタリングターゲット材であって、
スパッタ面にて観察される複数の結晶粒における、面積平均粒子径Ｎｖ、および、面積平均標準偏差Ｎｓが、Ｎｓ／Ｎｖ≦０．７６の関係式を満たす
スパッタリングターゲット材。
【請求項３】
ドーパントとして、Ｌｉ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｂｉ、Ｓｂ、Ｖ、Ｉｎ、Ｔａ、Ｍｏ、Ｗ、Ｃｒ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｓｃ、Ｙ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙｂ、Ｌｕ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ａｇ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｇａからなる群より選択される少なくとも一種の元素を含む
請求項１または２に記載のスパッタリングターゲット材。
【請求項４】
主面が４５００ｍｍ
２
以上の面積を有する
請求項１～３のいずれか１項に記載のスパッタリングターゲット材。
【請求項５】
請求項１～４のいずれか１項に記載のスパッタリングターゲット材と、
前記スパッタリングターゲット材に接合されているバッキングプレートと、
を備えるスパッタリングターゲット。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本開示は、スパッタリングターゲット材およびスパッタリングターゲットに関する。
続きを表示（約 1,000 文字）【背景技術】
【０００２】
圧電薄膜を製膜する際の材料として、カリウム、ナトリウム、ニオブ、及び酸素を含む酸化物の焼結体からなるスパッタリングターゲット材（以下、ＫＮＮターゲット材、あるいは、単にターゲット材ともいう）が用いられる場合がある（例えば特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
特開２０１１－１４６６２３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本開示の目的は、ＫＮＮターゲット材の特性を向上させることにある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本開示の一態様によれば、
カリウム、ナトリウム、ニオブ、及び酸素を含む酸化物の焼結体からなるスパッタリングターゲット材であって、
スパッタ面にて観察される複数の結晶粒における、数平均粒子径Ｎｄ、および、面積平均粒子径Ｎｖが、（Ｎｖ－Ｎｄ）／Ｎｄ≦２．１の関係式を満たす、
スパッタリングターゲット材が提供される。
【０００６】
本開示の他の態様によれば、
カリウム、ナトリウム、ニオブ、及び酸素を含む酸化物の焼結体からなるスパッタリングターゲット材であって、
スパッタ面にて観察される複数の結晶粒における、面積平均粒子径Ｎｖ、および、面積平均標準偏差Ｎｓが、Ｎｓ／Ｎｖ≦０．７６の関係式を満たす、
スパッタリングターゲット材が提供される。
【０００７】
本開示のさらに他の態様によれば、
上述の態様のうちいずれかに記載のスパッタリングターゲット材と、
前記スパッタリングターゲット材に接合されているバッキングプレートと、
を備えるスパッタリングターゲットが提供される。
【発明の効果】
【０００８】
本開示によれば、ＫＮＮターゲット材の特性を向上させることが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
図１は、本開示のターゲット材１０の一態様を示す図である。
図２は、本開示のターゲット材１０の製造フローを例示する図である。
図３は、本開示で用いる焼結装置１００の概略構成図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
＜本開示の一態様＞
以下、本開示の一態様について、主に、図１～図３を参照しつつ説明する。
（【００１１】以降は省略されています）

関連特許