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公開番号2025109575
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-07-25
出願番号2024003554
出願日2024-01-12
発明の名称被加工物の加工方法
出願人株式会社ディスコ
代理人弁理士法人酒井国際特許事務所
主分類H01L 21/3065 20060101AFI20250717BHJP(基本的電気素子)
要約【課題】加工速度の高速度化を図ることができる被加工物の加工方法を提供すること。
【解決手段】被加工物の加工方法は、大気から内部を仕切る真空チャンバーを用いて、内部に収容した板状の被加工物をプラズマ化したガスで加工する被加工物の加工方法であって、真空チャンバー内の保持テーブルで被加工物を保持する保持ステップ101と、保持テーブルに保持された被加工物を加熱機構によって150℃以上でかつ660℃以下の温度で加熱する加熱ステップ102と、保持テーブルに保持された被加工物が収容された真空チャンバー内を100Pa以下に減圧する減圧ステップ103と、加熱された被加工物にプラズマ化されたガスを供給し、被加工物をドライエッチングする加工ステップ104と、を含む。
【選択図】図2
特許請求の範囲【請求項１】
大気から内部を仕切る真空チャンバーを用いて、内部に収容した板状の被加工物をプラズマ化したガスで加工する被加工物の加工方法であって、
該真空チャンバー内の保持テーブルで該被加工物を保持する保持ステップと、
該保持テーブルに保持された該被加工物を加熱機構によって１５０℃以上でかつ６６０℃以下の温度で加熱する加熱ステップと、
該保持テーブルに保持された該被加工物が収容された該真空チャンバー内を１００Ｐａ以下に減圧する減圧ステップと、
加熱された該被加工物にプラズマ化されたガスを供給し、該被加工物をドライエッチングする加工ステップと、
を含むことを特徴とする被加工物の加工方法。
続きを表示（約 410 文字）【請求項２】
該被加工物の素材は、ダイヤモンドであることを特徴とする請求項１に記載の被加工物の加工方法。
【請求項３】
該ガスは、酸素または酸素原子を含む化合物ガスであることを特徴とする請求項１に記載の被加工物の加工方法。
【請求項４】
該加工ステップは、グロー放電により該ガスをプラズマ化することを特徴とする請求項１乃至請求項３のうちいずれか一項に記載の被加工物の加工方法。
【請求項５】
該加工ステップは、誘電コイルに高周波電力を印加し、該誘電コイルに形成された磁場との相互作用により該ガスをプラズマ化することを特徴とする請求項１乃至請求項３のうちいずれか一項に記載の被加工物の加工方法。
【請求項６】
該加工ステップは、マイクロウェーブにより該ガスをプラズマ化することを特徴とする請求項１乃至請求項３のうちいずれか一項に記載の被加工物の加工方法。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、被加工物の加工方法に関する。
続きを表示（約 990 文字）【背景技術】
【０００２】
表面にデバイスが形成された半導体デバイスウェーハ等の板状被加工物を、プラズマ状態のガスを利用してエッチングするドライエッチング技術が知られている（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
このドライエッチング技術では、真空チャンバーを用いて、内部の不要なガスを除去し、エッチングを含む各種処理に用いるガスだけで内部が満たされた状態にして、プラズマを発生できる１０００Ｐａ以下の気圧にしてから、被加工物をプラズマで加工する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
特許第７２９２１６３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、特許文献１等に記載された従来の加工方法では加工速度は十分ではなく、より高い加工速度の実現が求められていた。
【０００６】
本発明の目的は、加工速度の高速度化を図ることができる被加工物の加工方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上述した課題を解決し、目的を達成するために、本発明の被加工物の加工方法は、大気から内部を仕切る真空チャンバーを用いて、内部に収容した板状の被加工物をプラズマ化したガスで加工する被加工物の加工方法であって、該真空チャンバー内の保持テーブルで該被加工物を保持する保持ステップと、該保持テーブルに保持された該被加工物を加熱機構によって１５０℃以上でかつ６６０℃以下の温度で加熱する加熱ステップと、該保持テーブルに保持された該被加工物が収容された該真空チャンバー内を１００Ｐａ以下に減圧する減圧ステップと、加熱された該被加工物にプラズマ化されたガスを供給し、該被加工物をドライエッチングする加工ステップと、を含むことを特徴とする。
【０００８】
前記加工方法において、該被加工物の素材は、ダイヤモンドでも良い。
【０００９】
前記加工方法において、該ガスは、酸素または酸素原子を含む化合物ガスでも良い。
【００１０】
前記加工方法において、該加工ステップは、グロー放電により該ガスをプラズマ化しても良い。
（【００１１】以降は省略されています）

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