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公開番号2025096778
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-06-30
出願番号2023212683
出願日2023-12-18
発明の名称清掃装置および清掃方法
出願人株式会社ディスコ
代理人弁理士法人愛宕綜合特許事務所
主分類H01L 21/304 20060101AFI20250623BHJP(基本的電気素子)
要約【課題】処理装置内の埃を強制的に落下させ、処理装置内の清掃を容易にする清掃装置を提供する。
【解決手段】清掃装置2は、高圧エアー源4と、処理装置の内壁、天井、梁などに付着した埃をエアーの噴射でハタキ落とすハタキ手段6と、高圧エアー源4とハタキ手段6とを連通する連通路8と、いずれも連通路8に配設された圧力調整手段10および電磁弁12と、を含む。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項１】
清掃装置であって、
高圧エアー源と、
処理装置の内壁、天井、梁などに付着した埃をエアーの噴射でハタキ落とすハタキ手段と、
該高圧エアー源と該ハタキ手段とを連通する連通路と、
いずれも該連通路に配設された圧力調整手段および電磁弁と、
を含む清掃装置。
続きを表示（約 460 文字）【請求項２】
該ハタキ手段は、スプリンクラーで構成される請求項１記載の清掃装置。
【請求項３】
該電磁弁は制御手段によって制御され、
該制御手段は、適正なタイミングで該電磁弁を開閉する請求項１記載の清掃装置。
【請求項４】
被加工物を保持するチャックテーブルと、該チャックテーブルに保持された被加工物に処理を施す処理手段と、該チャックテーブルに被加工物を搬入する搬入領域と被加工物に処理を施す処理領域とに該チャックテーブルを位置づける位置づけ手段と、を含む処理装置の清掃方法であって、
請求項１記載の清掃装置の該ハタキ手段を該搬入領域に対応する天井に配設するハタキ手段配設工程と、
該チャックテーブルに被加工物を搬入する前に該清掃装置を作動して、該処理装置の内壁、天井、梁などに付着した埃を該ハタキ手段が噴射するエアーによってハタキ落とすハタキ工程と、
埃が沈降する時間が経過した後、チャックテーブルの上面を清掃する清掃工程と、
を含む清掃方法。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、清掃装置および清掃方法に関する。
続きを表示（約 1,900 文字）【背景技術】
【０００２】
ＩＣ、ＬＳＩなどの複数のデバイスが分割予定ラインによって区画され表面に形成されたウエーハは、研削装置によって裏面が研削されて所望の厚みに形成された後、ダイシング装置、レーザー加工装置によって個々のデバイスチップに分割され、分割された各デバイスチップは携帯電話、パソコンなどの電気機器に利用される（たとえば、特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
特開２０００－１５６２６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
研削装置、ダイシング装置、レーザー加工装置などを含む処理装置は、通常、埃が存在しないクリーンルームに配設されている。しかし、処理装置の内壁、天井、梁などには埃が付着している場合がある。この場合には、時間経過に伴って無秩序に埃が落下し、処理装置のチャックテーブルの上面に埃が付着するときがある。そうすると、チャックテーブルの上面にウエーハを載置した際に、チャックテーブルとウエーハとの間に埃が挟み込まれた状態となるため、高精度な処理ができないという問題がある。
【０００５】
本発明の課題は、処理装置内の埃を強制的に落下させ、処理装置内の清掃を容易にする清掃装置および清掃方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明によれば、上記課題を解決する以下の清掃装置が提供される。すなわち、
「清掃装置であって、
高圧エアー源と、
処理装置の内壁、天井、梁などに付着した埃をエアーの噴射でハタキ落とすハタキ手段と、
該高圧エアー源と該ハタキ手段とを連通する連通路と、
いずれも該連通路に配設された圧力調整手段および電磁弁と、
を含む清掃装置」が提供される。
【０００７】
好ましくは、該ハタキ手段は、スプリンクラーで構成される。該電磁弁は制御手段によって制御され、該制御手段は、適正なタイミングで該電磁弁を開閉するのが好適である。
【０００８】
また、本発明によれば、上記課題を解決する以下の清掃方法が提供される。すなわち、
「被加工物を保持するチャックテーブルと、該チャックテーブルに保持された被加工物に処理を施す処理手段と、該チャックテーブルに被加工物を搬入する搬入領域と被加工物に処理を施す処理領域とに該チャックテーブルを位置づける位置づけ手段と、を含む処理装置の清掃方法であって、
上記のとおりの清掃装置の該ハタキ手段を該搬入領域に対応する天井に配設するハタキ手段配設工程と、
該チャックテーブルに被加工物を搬入する前に該清掃装置を作動して、該処理装置の内壁、天井、梁などに付着した埃を該ハタキ手段が噴射するエアーによってハタキ落とすハタキ工程と、
埃が沈降する時間が経過した後、チャックテーブルの上面を清掃する清掃工程と、
を含む清掃方法」が提供される。
【発明の効果】
【０００９】
本発明の清掃装置は、
高圧エアー源と、
処理装置の内壁、天井、梁などに付着した埃をエアーの噴射でハタキ落とすハタキ手段と、
該高圧エアー源と該ハタキ手段とを連通する連通路と、
いずれも該連通路に配設された圧力調整手段および電磁弁と、
を含むので、処理装置内の埃を強制的に落下させ、処理装置内の清掃を容易にすることができる。
【００１０】
本発明の清掃方法は、
被加工物を保持するチャックテーブルと、該チャックテーブルに保持された被加工物に処理を施す処理手段と、該チャックテーブルに被加工物を搬入する搬入領域と被加工物に処理を施す処理領域とに該チャックテーブルを位置づける位置づけ手段と、を含む処理装置の清掃方法であって、
上記のとおりの清掃装置の該ハタキ手段を該搬入領域に対応する天井に配設するハタキ手段配設工程と、
該チャックテーブルに被加工物を搬入する前に該清掃装置を作動して、該処理装置の内壁、天井、梁などに付着した埃を該ハタキ手段が噴射するエアーによってハタキ落とすハタキ工程と、
埃が沈降する時間が経過した後、チャックテーブルの上面を清掃する清掃工程と、
を含むので、処理装置内の埃を強制的に落下させ、処理装置内の清掃を容易にすることができる。
【図面の簡単な説明】
（【００１１】以降は省略されています）

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