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公開番号2025107392
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-07-17
出願番号2025078640,2023063261
出願日2025-05-09,2019-06-25
発明の名称偏光膜および偏光板
出願人日東電工株式会社
代理人個人
主分類G02B 5/30 20060101AFI20250710BHJP(光学)
要約【課題】高温高湿環境下における耐久性に優れた偏光膜を提供すること。
【解決手段】本発明の偏光膜は、ヨウ素を含むポリビニルアルコール系樹脂フィルムで構成され、温度60℃および相対湿度95%で240時間の耐久試験後の波長470nmにおける吸光度Abs240が、該耐久試験前の吸光度Abs0に対して以下の関係を満足する、偏光膜:
Abs240/Abs0>0.90
1つの実施形態においては、偏光膜の単体透過率は43.0%以上である。
【選択図】図1

特許請求の範囲【請求項1】
ヨウ素を含むポリビニルアルコール系樹脂フィルムで構成され、
温度60℃および相対湿度95%で240時間の耐久試験後の波長470nmにおける吸光度Abs
240
が、該耐久試験前の吸光度Abs

に対して以下の関係を満足する、偏光膜:
Abs
240
/Abs

>0.90

発明の詳細な説明【技術分野】
【0001】
本発明は、偏光膜および偏光板に関する。
続きを表示(約 2,900 文字)【背景技術】
【0002】
代表的な画像表示装置である液晶表示装置には、その画像形成方式に起因して、液晶セルの両側に偏光膜が配置されている。偏光膜の製造方法としては、例えば、樹脂基材とポリビニルアルコール(PVA)系樹脂層とを有する積層体を延伸し、次に染色処理を施して、樹脂基材上に偏光膜を得る方法が提案されている(例えば、特許文献1)。このような方法によれば、厚みの薄い偏光膜が得られるため、近年の画像表示装置の薄型化に寄与し得るとして注目されている。しかし、薄型偏光膜においては、高温高湿環境下における耐久性のさらなる向上が求められている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
特開2001-343521号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
本発明は上記従来の課題を解決するためになされたものであり、その主たる目的は、高温高湿環境下における耐久性に優れた偏光膜、偏光板、およびそのような偏光膜の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【0005】
本発明の偏光膜は、ヨウ素を含むポリビニルアルコール系樹脂フィルムで構成され、温度60℃および相対湿度95%で240時間の耐久試験後の波長470nmにおける吸光度Abs
240
が、該耐久試験前の吸光度Abs

に対して以下の関係を満足する、偏光膜:
Abs
240
/Abs

>0.90
1つの実施形態においては、上記偏光膜は、単体透過率が43.0%以上である。
1つの実施形態においては、上記偏光膜は、厚みが8μm以下である。
本発明の別の局面によれば、偏光板が提供される。この偏光板は、上記の偏光膜と、該偏光膜の少なくとも一方の側に配置された保護層とを有する。
【発明の効果】
【0006】
本発明によれば、偏光膜をpHが3.0以下の処理液に接触させることにより、高温高湿環境下における耐久性に優れた偏光膜を得ることができる。具体的には、本発明の実施形態による偏光膜は、温度60℃および相対湿度95%で240時間の耐久試験後の波長470nmにおける吸光度Abs
240
が、該耐久試験前の吸光度Abs

に対して以下の関係を満足する:
Abs
240
/Abs

>0.90
すなわち、本発明の実施形態による偏光膜は、波長470nmにおける吸光度が加熱加湿耐久試験によってもそれほど低下しない。これは、本発明の実施形態による偏光膜は、高温高湿環境下における偏光性能の低下が実用上許容可能な程度まで抑制されていることを意味している。偏光膜(特に、薄型偏光膜)の偏光性能は通常高温高湿環境下で大幅に低下する場合が多いところ、本発明の実施形態によれば、このような課題を解決し、高温高湿環境下における耐久性に優れた偏光膜(特に、薄型偏光膜)を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【0007】
本発明の1つの実施形態による偏光板の概略断面図である。
加熱ロールを用いた乾燥収縮処理の一例を示す概略図である。
【発明を実施するための形態】
【0008】
以下、本発明の実施形態について説明するが、本発明はこれらの実施形態には限定されない。
【0009】
A.偏光膜
本発明の実施形態による偏光膜は、ヨウ素を含むポリビニルアルコール(PVA)系樹脂フィルムで構成され、温度60℃および相対湿度95%で240時間の耐久試験後の波長470nmにおける吸光度Abs
240
が、該耐久試験前の吸光度Abs

に対して以下の関係を満足する。
Abs
240
/Abs

>0.90
これは、本発明の実施形態による偏光膜においては470nm付近に吸収を有するPVA-I


錯体の加熱加湿耐久試験による破壊が抑制されていることを示している。理論的には明らかではないが、このような優れた耐久性は、偏光膜をpHが3.0以下の処理液に接触させることにより実現され得る。Abs
240
/Abs

は、好ましくは0.92以上であり、より好ましくは0.93以上であり、さらに好ましくは0.95以上である。Abs
240
/Abs

の上限は、例えば1.50であり得る。なお、吸光度は、代表的には直交吸光度である。直交吸光度は、後述する偏光度を求める際に測定される直交透過率Tcに基づいて、下記式により求められる。
直交吸光度=log10(100/Tc)
なお、耐久試験前の吸光度Abs

は偏光膜の通常の状態での吸光度であり、波長470nmにおける偏光膜のAbs

は例えば5.0未満であり、好ましくは3.0以下であり、より好ましくは2.2以下である。Abs

の下限は、例えば1.0であり得る。
【0010】
1つの実施形態においては、偏光膜は、温度60℃および相対湿度95%で240時間の耐久試験後の波長600nmにおける吸光度Abs
240
が、該耐久試験前の吸光度Abs

に対して以下の関係を満足する。
Abs
240
/Abs

>1.00
これは、本発明の実施形態による偏光膜においては600nm付近に吸収を有するPVA-I


錯体が加熱加湿耐久試験においても破壊されず、むしろ増大し得ることを示している。PVA-I


錯体は高温高湿環境下において破壊され、偏光膜の偏光性能は通常高温高湿環境下で低下すると予想されるところ、本発明の実施形態による偏光膜のこのような優れた耐久性は、予期せぬ優れたものである。Abs
240
/Abs

は、好ましくは1.05以上であり、より好ましくは1.10以上であり、さらに好ましくは1.15以上であり、特に好ましくは1.20以上であり、とりわけ好ましくは1.25以上である。Abs
240
/Abs

の上限は、例えば2.00であり得る。なお、波長600nmにおける偏光膜のAbs

は例えば5.0未満であり、好ましくは4.3以下であり、より好ましくは4.0以下である。Abs

の下限は、例えば2.0であり得る。
(【0011】以降は省略されています)

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