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公開番号2025103287
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-07-09
出願番号2023220582
出願日2023-12-27
発明の名称露光装置、物品の製造方法、及び露光方法
出願人キヤノン株式会社
代理人個人,個人,個人,個人
主分類G03F 9/02 20060101AFI20250702BHJP(写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ)
要約【課題】原版と基板との間の位置合わせに必要な精度に応じてスループットを向上させることができる露光装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る露光装置は、原版のパターンの像を基板に投影し、基板を露光する露光装置であって、基板に形成されている基板マークの第1の画像を取得する撮像部と、撮像部によって取得された第1の画像に基づいて基板の位置を制御する制御部とを備え、基板における複数の層のうちの少なくとも二つの層それぞれを露光するために撮像部が第1の画像を取得する際の第1の解像度は、互いに異なることを特徴とする。
【選択図】図5
特許請求の範囲【請求項１】
原版のパターンの像を基板に投影し、前記基板を露光する露光装置であって、
前記基板に形成されている基板マークの第１の画像を取得する撮像部と、
前記撮像部によって取得された前記第１の画像に基づいて前記基板の位置を制御する制御部と、
を備え、
前記基板における複数の層のうちの少なくとも二つの層それぞれを露光するために前記撮像部が前記第１の画像を取得する際の第１の解像度は、互いに異なることを特徴とする露光装置。
続きを表示（約 1,600 文字）【請求項２】
前記第１の解像度は、前記基板の前記位置の位置合わせの第１の精度に基づいて決定されることを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
前記撮像部は、ビニングを行うことで前記第１の解像度を変更することを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項４】
前記制御部は、
前記複数の層のうちの所定の層を露光する際の前記基板の前記位置の位置合わせの第１の精度を取得する第１の取得工程と、
該第１の取得工程によって取得された前記第１の精度に応じて前記第１の解像度を決定する第１の決定工程と、
該第１の決定工程によって決定された前記第１の解像度が設定された前記撮像部によって前記第１の画像を取得させる第１の撮像工程と、
を行うことを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項５】
前記原版を通過した露光光を前記基板に導光することで、前記像を前記基板に投影する投影光学系を備え、
前記第１の決定工程は、前記投影光学系の光軸に垂直な第１の平面内の第１の方向における第１のビニングサイズと前記第１の精度との間の第１の関係から前記第１の取得工程によって取得された前記第１の精度に対応する前記第１のビニングサイズを決定する工程を含むことを特徴とする請求項４に記載の露光装置。
【請求項６】
前記第１の決定工程は、前記第１の平面内において前記第１の方向に垂直な第２の方向における第２のビニングサイズと前記第１の精度との間の第２の関係から前記第１の取得工程によって取得された前記第１の精度に対応する前記第２のビニングサイズを決定する工程を含むことを特徴とする請求項５に記載の露光装置。
【請求項７】
前記撮像部は、前記基板マークに向けて計測光を射出する光源を備え、
前記第１の撮像工程は、前記第１のビニングサイズ及び前記第２のビニングサイズと、前記第１の画像を取得する際の前記撮像部の撮像素子における蓄積時間及び前記光源から射出される前記計測光の光量との間の第３の関係から前記決定された第１のビニングサイズ及び第２のビニングサイズに対応する前記蓄積時間及び前記光量を決定する工程を含むことを特徴とする請求項６に記載の露光装置。
【請求項８】
前記第１の撮像工程は、
前記決定された第１のビニングサイズ、第２のビニングサイズ、蓄積時間及び光量において前記第１の画像を取得する工程と、
該取得された第１の画像における輝度の最大値が所定の範囲内にあるか判断する工程と、
を含むことを特徴とする請求項７に記載の露光装置。
【請求項９】
前記第１の撮像工程は、前記最大値が前記所定の範囲内に無い場合に前記蓄積時間及び前記光量の少なくとも一方を変更する工程を含むことを特徴とする請求項８に記載の露光装置。
【請求項１０】
前記原版を保持しながら移動可能な原版ステージと、
前記原版を通過した露光光を前記基板に導光することで、前記像を前記基板に投影する投影光学系と、
前記基板を保持しながら移動可能な基板ステージと、
を備え、
前記制御部は、
前記第１の撮像工程によって取得された前記第１の画像から、前記投影光学系の光軸に垂直な第１の平面内における前記原版に形成されている原版マークに対する前記基板マークの第１の位置ズレ量を算出する第１の算出工程と、
該第１の算出工程によって算出された前記第１の位置ズレ量に基づいて前記原版ステージ、前記投影光学系及び前記基板ステージの少なくとも一つを移動させる第１の駆動工程と、
前記像を前記所定の層に投影し、前記所定の層を露光する露光工程と、
を行うことを特徴とする請求項４に記載の露光装置。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、露光装置、物品の製造方法、及び露光方法に関する。
続きを表示（約 1,800 文字）【背景技術】
【０００２】
従来、露光装置においては原版と基板との間の位置合わせの精度の向上が求められており、そのため例えば当該基板に形成されている基板マークの位置計測の精度の向上が行われている。
その際、当該基板マークを撮像する撮像素子の解像度を増大させることで当該位置計測の精度を向上させることができる。
【０００３】
一方、そのような高解像度を有する撮像素子を用いると当該撮像によって取得された画像のデータ量が大きくなるため、当該データを取得する際の蓄積時間や、当該取得されたデータの転送時間及び処理時間が増大してしまい、スループットが低下してしまう。
特許文献１は、原版と基板との間の位置合わせを行う際に基板マークのみを撮像するように撮像範囲を狭めることによって取得される当該基板マークの画像のデータ量を低減させることで、スループットの低下を抑制する露光装置を開示している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
特開２０１１－２２７３６４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
一方、基板上において互いに重ね合わされる複数の層それぞれを露光する露光装置では、所定の層を露光する際に原板と当該基板との間の位置合わせにおいて高い精度が求められない場合が有る。
すなわち、その場合には当該基板に形成されている基板マークを高解像度で撮像する必要が無くなる。
換言すると、そのような場合に当該基板マークを不必要に高解像度で撮像すると、その際の当該基板マークの画像のデータを取得する際の蓄積時間、及び取得された当該データの転送時間及び処理時間が増大してしまい、スループットの低下を引き起こしてしまう。
【０００６】
そこで本発明は、原版と基板との間の位置合わせに必要な精度に応じてスループットを向上させることができる露光装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明に係る露光装置は、原版のパターンの像を基板に投影し、基板を露光する露光装置であって、基板に形成されている基板マークの第１の画像を取得する撮像部と、撮像部によって取得された第１の画像に基づいて基板の位置を制御する制御部とを備え、基板における複数の層のうちの少なくとも二つの層それぞれを露光するために撮像部が第１の画像を取得する際の第１の解像度は、互いに異なることを特徴とする。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、原版と基板との間の位置合わせに必要な精度に応じてスループットを向上させることができる露光装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
本実施形態に係る露光装置の模式的断面図。
本実施形態に係る露光装置において取得される所定の基板マーク及び所定の原版マークの像の上面図。
本実施形態に係る露光装置に設けられているオフアクシス計測部の模式的断面図。
本実施形態に係る露光装置において取得される所定の基板マーク及び所定の原版マークの像の拡大上面図。
本実施形態に係る露光装置における位置合わせ精度とビニングサイズとの間の関係を示すテーブル。
本実施形態に係る露光装置における各基板マーク及び各原版マークの位置を計測する処理を示すフローチャート。
本実施形態に係る露光装置における図５に示されるテーブルを作成する処理を示すフローチャート。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下に、本実施形態に係る露光装置を添付の図面に基づいて詳細に説明する。なお以下に示す図面は、本実施形態を容易に理解できるようにするために実際とは異なる縮尺で描かれている場合がある。
また以下では、基板ステージ６ｂ上において基板６ａが載置される基板載置面に垂直な方向（投影光学系５の光軸に平行な方向）をＺ方向と定義する。
また当該Ｚ方向に垂直な平面において、基板６ａが走査移動する方向をＹ方向（第２の方向）、基板６ａがステップ移動する、当該Ｙ方向に垂直な方向をＸ方向（第１の方向）と定義する。
（【００１１】以降は省略されています）

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