特許ウォッチ

公開番号2025097318
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-06-30
出願番号2024220900
出願日2024-12-17
発明の名称レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
出願人住友化学株式会社
代理人弁理士法人新樹グローバル・アイピー
主分類G03F 7/004 20060101AFI20250623BHJP(写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ)
要約【課題】良好なラインエッジラフネスを有するレジストパターンを製造し得るレジスト組成物等を提供することを目的とする。
【解決手段】式(I)で表される化合物と、酸発生剤とを含有するレジスト組成物。
<com:Image com:imageContentCategory="Drawing"> <com:ImageFormatCategory>TIFF</com:ImageFormatCategory> <com:FileName>2025097318000157.tif</com:FileName> <com:HeightMeasure com:measureUnitCode="Mm">26</com:HeightMeasure> <com:WidthMeasure com:measureUnitCode="Mm">84</com:WidthMeasure> </com:Image> [式(I)中、X⁰は、ハロゲン原子を有する炭素数1～72の炭化水素基を表し、該炭化水素基に含まれる-CH₂-は、-O-、-S-、-CO-又は-SO₂-に置き換わっていてもよく、該炭化水素基はハロゲン原子以外の置換基を有していてもよい。R^c1、R^c2及びR^c3は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子又は炭素数1～48の炭化水素基を表し、該炭化水素基は、置換基を有してもよく、該炭化水素基に含まれる-CH₂-は、-O-、-CO-、-S-又は-SO₂-に置き換わってもよい。nc1は、1～6のいずれかの整数を表す。nc1が2以上のとき、複数の括弧内の基は、互いに同じであっても異なっていてもよい。]
【選択図】なし
特許請求の範囲【請求項１】
式（Ｉ）で表される化合物と、酸発生剤とを含有するレジスト組成物。
TIFF
2025097318000150.tif
26
84
［式（Ｉ）中、
Ｘ
０
は、ハロゲン原子を有する炭素数１～７２の炭化水素基を表し、該炭化水素基に含まれる－ＣＨ
2
－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－又は－ＳＯ
２
－に置き換わっていてもよく、該炭化水素基は、ハロゲン原子以外の置換基を有していてもよい。
Ｒ
ｃ１
、Ｒ
ｃ２
及びＲ
ｃ３
は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子又は炭素数１～４８の炭化水素基を表し、該炭化水素基は、置換基を有してもよく、該炭化水素基に含まれる－ＣＨ
２
－は、－Ｏ－、－ＣＯ－、－Ｓ－又は－ＳＯ
２
－に置き換わってもよい。
ｎｃ１は、１～６のいずれかの整数を表す。ｎｃ１が２以上のとき、複数の括弧内の基は、互いに同じであっても異なっていてもよい。］
続きを表示（約 3,700 文字）【請求項２】
Ｘ
０
が、炭素数３～３６の脂環式炭化水素基、炭素数６～３６の芳香族炭化水素基、又は、炭素数１～１８の鎖式炭化水素基と炭素数３～３６の脂環式炭化水素基と炭素数６～３６の芳香族炭化水素基とから選ばれる２つ以上を組み合わせてなる基（該脂環式炭化水素基及び該芳香族炭化水素基は、フッ素原子、ヨウ素原子又は炭素数１～４のフッ化アルキル基を有し、ヒドロキシ基を有してもよく、該鎖式炭化水素基は、フッ素原子、ヨウ素原子、炭素数１～４のフッ化アルキル基又はヒドロキシ基を有してもよく、該脂環式炭化水素基及び該鎖式炭化水素基に含まれる－ＣＨ
２
－は、－Ｏ－又は－ＣＯ－に置き換わってもよい。）である請求項１に記載のレジスト組成物。
【請求項３】
酸発生剤が、式（Ｂ１）で表される塩である請求項１に記載のレジスト組成物。
TIFF
2025097318000151.tif
13
92
［式（Ｂ１）中、
Ｌ
b1
は、単結合又は置換基を有してもよい（ｎｂ１＋１）価の炭化水素基を表し、該炭化水素基に含まれる－ＣＨ
2
－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－又は－ＳＯ
2
－に置き換わっていてもよい。
Ｌ
b2
は、単結合又は置換基を有してもよい炭素数１～２４の２価の炭化水素基を表し、該炭化水素基に含まれる－ＣＨ
2
－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－又は－ＳＯ
2
－で置き換わっていてもよい。
Ｙ
b1
は、置換基を有していてもよいメチル基又は置換基を有していてもよい炭素数３～２４の環状炭化水素基を表し、該環状炭化水素基に含まれる－ＣＨ
2
－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＳＯ
2
－又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよい。
ｎｂ１は、１～６のいずれかの整数を表す。ｎｂ１が２以上のとき、複数の括弧内の基は、互いに同じであっても異なっていてもよい。
Ｚ
＋
は、有機カチオンを表す。］
【請求項４】
樹脂をさらに含有し、樹脂が、
式（ａ２－Ａ）で表される構造単位を含む請求項１に記載のレジスト組成物。
TIFF
2025097318000152.tif
30
128
［式（ａ２－Ａ）中、
Ｒ
ａ２
は、水素原子、ハロゲン原子又はハロゲン原子を有していてもよい炭素数１～６のアルキル基を表す。
Ｒ
ａ２７
は、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、カルボキシ基、ハロゲン原子を有していてもよい炭素数１～６のアルキル基、炭素数１～６のアルコキシ基、炭素数２～１２のアルコキシアルキル基、炭素数２～１２のアルコキシアルコキシ基、炭素数２～４のアルキルカルボニル基、炭素数２～４のアルキルカルボニルオキシ基、アクリロイルオキシ基又はメタクリロイルオキシ基を表す。
Ａ
ａ２１
は、単結合又は炭素数１～１２のアルカンジイル基を表し、該アルカンジイル基に含まれる－ＣＨ
２
－は、－Ｏ－、－ＣＯ－又は－ＮＲ
ａ２８
－に置き換わってもよい。
Ｒ
ａ２８
は、水素原子又は炭素数１～６のアルキル基を表す。
Ｘ
ａ２
は、単結合又はカルボニル基を表す。
ｎＡ２は、１～５のいずれかの整数を表し、ｎＡ２が２以上のとき、複数の括弧内の基は、互いに同一であっても異なっていてもよい。
ｎａ２１は、０～４のいずれかの整数を表し、ｎａ２１が２以上のとき、複数のＲ
ａ２７
は、互いに同一であっても異なっていてもよい。
ｍｃは、０～２のいずれかの整数を表す。］
【請求項５】
樹脂が、酸不安定基を有する構造単位をさらに含み、
酸不安定基を有する構造単位が、式（ａ１－０）で表される構造単位、式（ａ１－１）で表される構造単位、式（ａ１－２）で表される構造単位、式（ａ１－４）で表される構造単位、式（ａ１－５）で表される構造単位及び式（ａ１－６）で表される構造単位からなる群より選ばれる少なくとも１種を含む請求項４に記載のレジスト組成物。
TIFF
2025097318000153.tif
44
143
［式（ａ１－０）、式（ａ１－１）及び式（ａ１－２）中、
Ｌ
a01
、Ｌ
ａ１
及びＬ
ａ２
は、それぞれ独立に、－Ｏ－又は＊－Ｏ－（ＣＨ
２
）
ｋ１
－ＣＯ－Ｏ－を表し、ｋ１は１～７のいずれかの整数を表し、＊は－ＣＯ－との結合部位を表す。
Ｒ
a01
、Ｒ
ａ４
及びＲ
ａ５
は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子又はハロゲン原子を有していてもよい炭素数１～６のアルキル基を表す。
Ｒ
a02
、Ｒ
a03
及びＲ
a04
は、それぞれ独立に、炭素数１～８のアルキル基、炭素数３～１８の脂環式炭化水素基、炭素数６～１８の芳香族炭化水素基又はこれらを組み合わせた基を表し、該アルキル基、該脂環式炭化水素基及び該芳香族炭化水素基は、ハロゲン原子を有してもよい。
Ｒ
ａ６
及びＲ
ａ７
は、それぞれ独立に、炭素数１～８のアルキル基、炭素数２～８のアルケニル基、炭素数３～１８の脂環式炭化水素基、炭素数６～１８の芳香族炭化水素基又はこれらを組合せることにより形成される基を表し、該アルキル基、該アルケニル基、該脂環式炭化水素基及び該芳香族炭化水素基は、ハロゲン原子を有してもよい。
ｍ１’は０～１４のいずれかの整数を表す。
ｎ１は０～１０のいずれかの整数を表す。
ｎ１’は０～３のいずれかの整数を表す。］
TIFF
2025097318000154.tif
31
117
［式（ａ１－４）中、
Ｒ
ａ１
は、水素原子、ハロゲン原子、又は、ハロゲン原子を有していてもよい炭素数１～６のアルキル基を表す。
Ｒ
ａ１７
は、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、カルボキシ基、ハロゲン原子を有していてもよい炭素数１～６のアルキル基、炭素数１～６のアルコキシ基、炭素数２～１２のアルコキシアルキル基、炭素数２～１２のアルコキシアルコキシ基、炭素数２～４のアルキルカルボニル基、炭素数２～４のアルキルカルボニルオキシ基、アクリロイルオキシ基又はメタクリロイルオキシ基を表す。
Ａ
ａ１１
は、単結合又は炭素数１～１２のアルカンジイル基を表し、該アルカンジイル基に含まれる－ＣＨ
２
－は、－Ｏ－、－ＣＯ－又は－ＮＲ
ａ１８
－に置き換わってもよい。
Ｒ
ａ１８
は、水素原子又は炭素数１～６のアルキル基を表す。
Ｘ
ａ１
は、単結合又はカルボニル基を表す。
Ｒ
a34
及びＲ
a35
は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数１～１２の炭化水素基を表し、Ｒ
a36
は、炭素数１～２０の炭化水素基を表すか、Ｒ
a35
及びＲ
a36
は互いに結合してそれらが結合する－Ｃ－Ｏ－とともに炭素数２～２０の２価の炭化水素基を形成し、該炭化水素基及び該２価の炭化水素基に含まれる－ＣＨ
2
－は、－Ｏ－又は－Ｓ－で置き換わってもよい。
ｎａ１は、１～５のいずれかの整数を表し、ｎａ１が２以上のとき、複数の括弧内の基は、互いに同一であっても異なっていてもよい。
ｎａ１１は、０～４のいずれかの整数を表し、ｎａ１１が２以上のとき、複数のＲ
ａ１７
は、互いに同一であっても異なっていてもよい。
ｍｃは、０～２のいずれかの整数を表す。］
TIFF
2025097318000155.tif
45
58
［式（ａ１－５）中、
Ｒ
【請求項６】
（１）請求項１～５のいずれかに記載のレジスト組成物を基板上に塗布する工程、
（２）塗布後のレジスト組成物を乾燥させて組成物層を形成する工程、
（３）組成物層に露光する工程、
（４）露光後の組成物層を加熱する工程、及び
（５）加熱後の組成物層を現像する工程、
を含むレジストパターンの製造方法。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、レジスト組成物及び該レジスト組成物を用いるレジストパターンの製造方法等に関する。
続きを表示（約 7,200 文字）【背景技術】
【０００２】
特許文献１には、下記構造式の化合物と、酸不安定基を有する樹脂と、酸発生剤とを含有するレジスト組成物が記載されている。
TIFF
2025097318000001.tif
16
84
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
特開２０１２－００８５５３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
上記レジスト組成物から形成されたレジストパターンよりも、ラインエッジラフネス（ＬＥＲ）が良好なレジストパターンを形成するレジスト組成物を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明は、以下の発明を含む。
〔１〕式（Ｉ）で表される化合物と、酸発生剤とを含有するレジスト組成物。
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2025097318000002.tif
26
84
［式（Ｉ）中、
Ｘ
０
は、ハロゲン原子を有する炭素数１～７２の炭化水素基を表し、該炭化水素基に含まれる－ＣＨ
2
－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－又は－ＳＯ
２
－に置き換わっていてもよく、該炭化水素基は、ハロゲン原子以外の置換基を有していてもよい。
Ｒ
ｃ１
、Ｒ
ｃ２
及びＲ
ｃ３
は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子又は炭素数１～４８の炭化水素基を表し、該炭化水素基は、置換基を有してもよく、該炭化水素基に含まれる－ＣＨ
２
－は、－Ｏ－、－ＣＯ－、－Ｓ－又は－ＳＯ
２
－に置き換わってもよい。
ｎｃ１は、１～６のいずれかの整数を表す。ｎｃ１が２以上のとき、複数の括弧内の基は、互いに同じであっても異なっていてもよい。］
〔２〕Ｘ
０
が、炭素数３～３６の脂環式炭化水素基、炭素数６～３６の芳香族炭化水素基、又は、炭素数１～１８の鎖式炭化水素基と炭素数３～３６の脂環式炭化水素基と炭素数６～３６の芳香族炭化水素基とから選ばれる２つ以上を組み合わせてなる基（該脂環式炭化水素基及び該芳香族炭化水素基は、フッ素原子、ヨウ素原子又は炭素数１～４のフッ化アルキル基を有し、ヒドロキシ基を有してもよく、該鎖式炭化水素基は、フッ素原子、ヨウ素原子、炭素数１～４のフッ化アルキル基又はヒドロキシ基を有してもよく、該脂環式炭化水素基及び該鎖式炭化水素基に含まれる－ＣＨ
２
－は、－Ｏ－又は－ＣＯ－に置き換わってもよい。）である〔１〕に記載のレジスト組成物。
［３］酸発生剤が、式（Ｂ１）で表される塩である［１］又は［２］に記載のレジスト組成物。
TIFF
2025097318000003.tif
13
92
［式（Ｂ１）中、
Ｌ
b1
は、単結合又は置換基を有してもよい（ｎｂ１＋１）価の炭化水素基を表し、該炭化水素基に含まれる－ＣＨ
2
－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－又は－ＳＯ
2
－に置き換わっていてもよい。
Ｌ
b2
は、単結合又は置換基を有してもよい炭素数１～２４の２価の炭化水素基を表し、該炭化水素基に含まれる－ＣＨ
2
－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－又は－ＳＯ
2
－で置き換わっていてもよい。
Ｙ
b1
は、置換基を有していてもよいメチル基又は置換基を有していてもよい炭素数３～２４の環状炭化水素基を表し、該環状炭化水素基に含まれる－ＣＨ
2
－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＳＯ
2
－又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよい。
ｎｂ１は、１～６のいずれかの整数を表す。ｎｂ１が２以上のとき、複数の括弧内の基は、互いに同じであっても異なっていてもよい。
Ｚ
＋
は、有機カチオンを表す。］
［４］樹脂をさらに含有し、樹脂が、
式（ａ２－Ａ）で表される構造単位を含む［１］～［３］のいずれかに記載のレジスト組成物。
TIFF
2025097318000004.tif
30
128
［式（ａ２－Ａ）中、
Ｒ
ａ２
は、水素原子、ハロゲン原子又はハロゲン原子を有していてもよい炭素数１～６のアルキル基を表す。
Ｒ
ａ２７
は、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、カルボキシ基、ハロゲン原子を有していてもよい炭素数１～６のアルキル基、炭素数１～６のアルコキシ基、炭素数２～１２のアルコキシアルキル基、炭素数２～１２のアルコキシアルコキシ基、炭素数２～４のアルキルカルボニル基、炭素数２～４のアルキルカルボニルオキシ基、アクリロイルオキシ基又はメタクリロイルオキシ基を表す。
Ａ
ａ２１
は、単結合又は炭素数１～１２のアルカンジイル基を表し、該アルカンジイル基に含まれる－ＣＨ
２
－は、－Ｏ－、－ＣＯ－又は－ＮＲ
ａ２８
－に置き換わってもよい。
Ｒ
ａ２８
は、水素原子又は炭素数１～６のアルキル基を表す。
Ｘ
ａ２
は、単結合又はカルボニル基を表す。
【発明の効果】
【０００６】
本発明レジスト組成物を用いることにより、良好なラインエッジラフネス（ＬＥＲ）でレジストパターンを製造することができる。
【発明を実施するための形態】
【０００７】
本明細書において、「（メタ）アクリル系モノマー」とは、「アクリル系モノマー及びメタクリル系モノマーの少なくとも一種」を意味する。同様に「（メタ）アクリレート」及び「（メタ）アクリル酸」等の表記も、同様の意味を表す。本明細書中に記載する基において、直鎖構造と分岐構造の両方をとり得るものについては、そのいずれでもよい。炭化水素基等に含まれる－ＣＨ
2
－が－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－、－ＳＯ－、－ＮＲ
Ｘ
－（Ｘは任意の符号）又は－ＳＯ
２
－で置き換わる場合、各基において同様の例を適用するものとし、置き換わる前の炭素数を炭化水素基等の炭素数とする。「組み合わせた基」とは、例示した基を２種以上結合させた基を意味し、それら基の価数は結合形態によって適宜変更してもよい。「由来する」又は「誘導される」とは、その分子中に含まれる重合性Ｃ＝Ｃ結合が重合により単結合（－Ｃ－Ｃ－基）となるか又は任意の水素原子が結合部位となることを指す。立体異性体が存在する場合は、全ての立体異性体を含む。「酸不安定基」とは、酸（例えば、トリフルオロメタンスルホン酸等）と接触すると、脱離基が脱離して、親水性基（例えば、ヒドロキシ基又はカルボキシ基等）を形成する基を意味する。「塩基不安定基」とは、塩基（例えば、トリメチルアミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド等）と接触すると、脱離基が脱離して、親水性基（例えば、カルボキシ基又はヒドロキシ基等）を形成する基を意味する。各基は、置換基の数等によって、その基に含まれる任意の位置及び数の水素原子が結合手に置き換わることがある。置換基における炭素数は、被置換基の炭素数には含めない。
本明細書において、「レジスト組成物の固形分」とは、レジスト組成物の総量から、後述する溶剤（Ｅ）を除いた成分の合計を意味する。
【０００８】
〔レジスト組成物〕
本発明のレジスト組成物は、式（Ｉ）で表される化合物（以下「化合物（Ｉ）」という場合がある）と、酸発生剤（以下、「酸発生剤（Ｂ）」という場合がある。）とを含有する。
本発明のレジスト組成物は、さらに、樹脂を含有していてもよい。樹脂としては、酸不安定基を有する構造単位を含む樹脂（以下「樹脂（Ａ）」という場合がある）等が挙げられる。ここでの「酸不安定基」は、脱離基を有し、酸との接触により脱離基が脱離して、親水性基（例えば、ヒドロキシ基又はカルボキシ基）を有する構成単位に変換する基を意味する。さらに、樹脂（Ａ）以外の樹脂を含有していてもよい。
本発明のレジスト組成物は、酸発生剤から発生する酸よりも酸性度の弱い酸を発生する塩等のクエンチャー（以下「クエンチャー（Ｃ）」という場合がある）をさらに含有することが好ましく、溶剤（以下「溶剤（Ｅ）」という場合がある）を含有することがより好ましい。
【０００９】
＜化合物（Ｉ）＞
本発明のレジスト組成物は、化合物（Ｉ）を含有する。
TIFF
2025097318000009.tif
26
84
［式（Ｉ）中、全ての符号は、それぞれ前記と同じ意味を表す。］
【００１０】
式（Ｉ）において、Ｘ
０
の（ｎｃ１）価の炭化水素基としては、１価の鎖式炭化水素基、１価の脂環式炭化水素基（単環式あるいはスピロ環、縮合環又は橋掛け環等の多環式）、１価の芳香族炭化水素基及びこれらの２つ以上の基を組み合わせた１価の基から、（ｎｃ１－１）個の水素原子を取り除いた基が挙げられる。
炭化水素基の炭素数としては、１～４８であることが好ましく、１～４２であることがより好ましく、１～３６であることがさらに好ましく、１～３０であることがより一層好ましく、１～２４であることがさらに一層好ましい。
鎖式炭化水素基としては、アルキル基又はアルケニル基の（ｎｃ１－１）個の水素原子を取り除いた基が挙げられる。アルキル基としては、直鎖状でも分岐状であってもよく、具体的には、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｉｓｏ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｉｓｏ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタンデシル基、ヘプタデシル基等が挙げられる。アルケニル基としては、エテニル基、プロペニル基、イソプロペニル基、ブテニル基、イソブテニル基、ｔｅｒｔ－ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基、ヘプテニル基、オクテニル基、イソオクテニル基、ノネニル基が挙げられる。
鎖式炭化水素基の炭素数としては、１～３６であることが好ましく、１～２４であることがより好ましく、１～２０であることがさらに好ましく、１～１８であることがより一層好ましく、１～１２であることがさらに一層好ましく、１～１０であることがさらにより好ましい。
脂環式炭化水素基としては、単環式又は多環式のシクロアルキル基の（ｎｃ１－１）個の水素原子を取り除いた基が挙げられる。単環式のシクロアルキル基としては、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基等が挙げられる。
多環式のシクロアルキル基としては、架橋構造を有するシクロアルキル基、２つ以上の環が縮合したシクロアルキル基又は２つの環がスピロで結合したシクロアルキル基等が挙げられる。架橋構造を有するシクロアルキル基としては、ノルボルニル基、アダマンチル基等が挙げられる。２種以上の環が縮合したシクロアルキル基としては、ビシクロ〔４，４,０〕デカン基、ステロイド基（ステロイド骨格）等が挙げられる。２つの環がスピロで結合したシクロアルキル基としては、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、ノルボルニル基及びアダマンチル基から構成される群から選択される１種のシクロアルキル基と炭素数５～８のシクロアルキル基とがスピロで結合したスピロ環式シクロアルキル基等が挙げられる。また、脂環式炭化水素基に含まれる２つの炭素原子間は、二重結合が形成されていてもよい。
より具体的には、以下の式で表される脂環式炭化水素基が挙げられる。
TIFF
2025097318000010.tif
26
168
脂環式炭化水素基が単環式のシクロアルキル基の場合、脂環式炭化水素基の炭素数は、３～２４であることが好ましく、３～２０であることがより好ましく、３～１８であることがさらに好ましく、３～１２であることがより一層好ましく、３～１０であることがさらに一層好ましく、３～８であることがさらにより好ましい。脂環式炭化水素基が多環式のシクロアルキル基の場合、脂環式炭化水素基の炭素数は、６～２４であることが好ましく、６～２０であることがより好ましく、６～１８であることがさらに好ましく、６～１２であることがより一層好ましく、７～１２であることがさらに一層好ましい。
芳香族炭化水素基としては、アリール基の（ｎｃ１－１）個の水素原子を取り除いた基が挙げられる。アリール基としては、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、ビフェニル基、フルオレニル基等が挙げられる。
より具体的には、以下の式で表される芳香族炭化水素基が挙げられる。
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2025097318000011.tif
13
84
芳香族炭化水素基の炭素数としては、４～２４であることが好ましく、４～２０であることがより好ましく、４～１８であることがさらに好ましく、５～１４であることがより一層好ましく、５～１０であることがさらに一層好ましく、６～１０であることがさらにより好ましい。
Ｘ
０
の炭化水素基に含まれる－ＣＨ
2
－が、－Ｏ－、－ＣＯ－、－Ｓ－又は－ＳＯ
2
－に置き換わっている場合、置き換わる前の炭素数を該炭化水素基の炭素数とする。
Ｘ
０
の炭化水素基のうち、鎖式炭化水素基に含まれる－ＣＨ
2
－が、－Ｏ－、－ＣＯ－、－Ｓ－又は－ＳＯ
2
－に置き換わった基としては、ヒドロキシ基（メチル基中に含まれる－ＣＨ
2
－が、－Ｏ－に置き換わった基）、カルボキシ基（エチル基中に含まれる－ＣＨ
2
－ＣＨ
2
－が、－Ｏ－ＣＯ－に置き換わった基）、カルボニル基（メチレン基中に含まれる－ＣＨ
2
－が、－ＣＯ－に置き換わった基）、オキシ基（メチレン基中に含まれる－ＣＨ
2
－が、－Ｏ－に置き換わった基）、チオール基（メチル基中に含まれる－ＣＨ
2
－が、－Ｓ－に置き換わった基）、スルホニル基（メチレン基中に含まれる－ＣＨ
2
－が、－ＳＯ
２
－に置き換わった基）、アルコキシ基（アルキル基中に含まれる任意の位置の－ＣＨ
2
－が、－Ｏ－に置き換わった基）、アルコキシカルボニル基（アルキル基中に含まれる任意の位置の－ＣＨ
2
－ＣＨ
2
－が、－Ｏ－ＣＯ－に置き換わった基）、アルキルカルボニル基（アルキル基中に含まれる任意の位置の－ＣＨ
2
－が、－ＣＯ－に置き換わった基）、アルキルチオ基（アルキル基中に含まれる任意の位置の－ＣＨ
2
－が、－Ｓ－に置き換わった基）、アルキルスルホニル基（アルキル基中に含まれる任意の位置の－ＣＨ
2
－が、－ＳＯ
２
－に置き換わった基）、アルキルカルボニルオキシ基（アルキル基中に含まれる任意の位置の－ＣＨ
2
－ＣＨ
2
－が、－ＣＯ－Ｏ－に置き換わった基）、アルコキシカルボニルオキシ基（アルキル基中に含まれる任意の位置の－ＣＨ
2
－ＣＨ
2
－ＣＨ
2
－が、－Ｏ－ＣＯ－Ｏ－に置き換わった基）、アルカンジイルオキシ基（アルカンジイル基中に含まれる任意の位置の－ＣＨ
2
－が、－Ｏ－に置き換わった基）、アルカンジイルオキシカルボニル基（アルカンジイル基中に含まれる任意の位置の－ＣＨ
2
－ＣＨ
2
－が、－Ｏ－ＣＯ－に置き換わった基）、アルカンジイルカルボニル基（アルカンジイル基中に含まれる任意の位置の－ＣＨ
2
－が、－ＣＯ－に置き換わった基）、アルカンジイルカルボニルオキシ基（アルカンジイル基中に含まれる任意の位置の－ＣＨ
2
－ＣＨ
2
－が、－ＣＯ－Ｏ－に置き換わった基）、アルカンジイルチオ基（アルカンジイル基中に含まれる任意の位置の－ＣＨ
2
－が、－Ｓ－に置き換わった基）、アルカンジイルスルホニル基（アルカンジイル基中に含まれる任意の位置の－ＣＨ
2
－が、－ＳＯ
２
－に置き換わった基）等が挙げられる。
（【００１１】以降は省略されています）

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