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公開番号
2025062331
公報種別
公開特許公報(A)
公開日
2025-04-14
出願番号
2023171317
出願日
2023-10-02
発明の名称
グルコンアミド誘導体
出願人
株式会社トクヤマ
代理人
主分類
C07C
235/06 20060101AFI20250407BHJP(有機化学)
要約
【課題】新規な化合物である、グルコンアミド誘導体、デオキシスルホニルオキシグルコンアミド誘導体、デオキシハロゲノグルコン酸誘導体、及びデオキシメルカプトグルコンアミド誘導体を提供する。
【解決手段】一側面によると、式(3)
<com:Image com:imageContentCategory="Drawing"> <com:ImageFormatCategory>JPEG</com:ImageFormatCategory> <com:FileName>2025062331000034.jpg</com:FileName> <com:HeightMeasure com:measureUnitCode="Mm">26</com:HeightMeasure> <com:WidthMeasure com:measureUnitCode="Mm">83</com:WidthMeasure> </com:Image>
に表されるグルコンアミド誘導体が提供される。式(3)において、R
1
及びR
2
は、それぞれ独立に、C1~6のアルキル基、C2~7のアルキルアルコキシ基、C4~6のシクロアルキル基、置換基を有してもよいC5~20のアリール基、又はC7~20のアラルキル基である。R
1
及びR
2
は、これらが結合している窒素原子と一緒になって、環員数5以上6以下であり、酸素、硫黄、及び窒素からなる群より選択される少なくとも1種のヘテロ原子を更に含んでもよい複素環を形成してもよい。R
3
、R
4
、R
5
、及びR
6
は、それぞれ独立に、保護基である。
【選択図】なし
特許請求の範囲
【請求項1】
下記式(3)に表されるグルコンアミド誘導体:
JPEG
2025062331000030.jpg
26
83
前記式(3)において、
R
1
及びR
2
は、それぞれ独立に、炭素数1以上6以下のアルキル基、炭素数2以上7以下のアルキルアルコキシ基、炭素数4以上6以下のシクロアルキル基、置換基を有してもよい炭素数5以上20以下のアリール基、又は炭素数7以上20以下のアラルキル基であり、
R
1
及びR
2
は、これらが結合している窒素原子と一緒になって、環員数5以上6以下であり、酸素、硫黄、及び窒素からなる群より選択される少なくとも1種のヘテロ原子を更に含んでもよい複素環を形成してもよく、
R
3
、R
4
、R
5
、及びR
6
は、それぞれ独立に、保護基である。
続きを表示(約 1,700 文字)
【請求項2】
R
1
及びR
2
は、これらが結合している窒素原子と一緒になって、環員数5以上6以下であり、酸素、硫黄、及び窒素からなる群より選択される少なくとも1種のヘテロ原子を更に含んでもよい複素環を形成する、請求項1に記載のグルコンアミド誘導体。
【請求項3】
前記保護基は、トルオイル基、ベンジル基、アセチル基、及びベンゾイル基からなる群より選択される、請求項1に記載のグルコンアミド誘導体。
【請求項4】
下記式(5)に表されるデオキシスルホニルオキシグルコンアミド誘導体:
JPEG
2025062331000031.jpg
36
83
前記式(5)において、
R
1
及びR
2
は、それぞれ独立に、炭素数1以上6以下のアルキル基、炭素数2以上7以下のアルキルアルコキシ基、炭素数4以上6以下のシクロアルキル基、置換基を有してもよい炭素数5以上20以下のアリール基、又は炭素数7以上20以下のアラルキル基であり、
R
1
及びR
2
は、これらが結合している窒素原子と一緒になって、環員数5以上6以下であり、酸素、硫黄、及び窒素からなる群より選択される少なくとも1種のヘテロ原子を更に含んでもよい複素環を形成してもよく、
R
3
、R
4
、R
5
、及びR
6
は、それぞれ独立に、保護基であり、
R
7
は、炭素数1以上12以下のアルキル基、炭素数1以上12以下のハロアルキル基、置換基を有してもよい炭素数7以上20以下のアラルキル基、又は置換基を有してもよい炭素数6以上20以下のアリール基である。
【請求項5】
下記式(6)に表されるデオキシハロゲノグルコン酸誘導体:
JPEG
2025062331000032.jpg
26
83
前記式(6)において、
R
1
及びR
2
は、それぞれ独立に、炭素数1以上6以下のアルキル基、炭素数2以上7以下のアルキルアルコキシ基、炭素数4以上6以下のシクロアルキル基、置換基を有してもよい炭素数5以上20以下のアリール基、又は炭素数7以上20以下のアラルキル基であり、
R
1
及びR
2
は、これらが結合している窒素原子と一緒になって、環員数5以上6以下であり、酸素、硫黄、及び窒素からなる群より選択される少なくとも1種のヘテロ原子を更に含んでもよい複素環を形成してもよく、
R
3
、R
4
、R
5
、及びR
6
は、それぞれ独立に、保護基であり、
X
2
は、ハロゲン原子である。
【請求項6】
下記式(7)に表されるデオキシメルカプトグルコンアミド誘導体:
JPEG
2025062331000033.jpg
26
83
前記式(7)において、
R
1
及びR
2
は、それぞれ独立に、炭素数1以上6以下のアルキル基、炭素数2以上7以下のアルキルアルコキシ基、炭素数4以上6以下のシクロアルキル基、置換基を有してもよい炭素数5以上20以下のアリール基、又は炭素数7以上20以下のアラルキル基であり、
R
1
及びR
2
は、これらが結合している窒素原子と一緒になって、環員数5以上6以下であり、酸素、硫黄、及び窒素からなる群より選択される少なくとも1種のヘテロ原子を更に含んでもよい複素環を形成してもよく、
R
3
、R
4
、R
5
、及びR
6
は、それぞれ独立に、保護基である。
発明の詳細な説明
【技術分野】
【0001】
本発明は、グルコンアミド誘導体、デオキシスルホニルオキシグルコンアミド誘導体、デオキシハロゲノグルコン酸誘導体、及びデオキシメルカプトグルコンアミド誘導体に関する。
続きを表示(約 800 文字)
【背景技術】
【0002】
ナトリウム-グルコース共輸送担体-2(SGLT-2)阻害剤は、抗糖尿病薬として有用である。SGLT-2阻害剤としては、例えば、カナグリフロジン、エンパグリフロジン、イプラグリフロジン、ダパグリフロジン、ルセオグリフロジン等が知られている。
【0003】
SGLT-2阻害剤は、例えば、下記式(I)で表される。
【0004】
JPEG
2025062331000001.jpg
28
60
【0005】
上記式(I)において、Yは、炭素原子、窒素原子、酸素原子、又は硫黄原子である。Zは、種々の置換基である。
【0006】
SGLT-2阻害剤の製造方法として、下記式(2)に表されるグルコノラクトン保護体を用いた方法が研究されている。
【0007】
JPEG
2025062331000002.jpg
28
64
【0008】
式(2)において、R
3
、R
4
、R
5
、及びR
6
は、それぞれ独立に、保護基である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0009】
特開2022-159769号公報
国際公開2016/098016号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0010】
本発明の目的は、新規な化合物である、グルコンアミド誘導体、デオキシスルホニルオキシグルコンアミド誘導体、デオキシハロゲノグルコン酸誘導体、及びデオキシメルカプトグルコンアミド誘導体を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
(【0011】以降は省略されています)
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