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公開番号2024158730
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-11-08
出願番号2023074207
出願日2023-04-28
発明の名称基板保持装置、露光装置、及び物品の製造方法
出願人キヤノン株式会社
代理人個人,個人,個人,個人,個人
主分類G03F 7/20 20060101AFI20241031BHJP(写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ)
要約【課題】露光ムラを低減するうえで有利な基板保持装置を提供すること。
【解決手段】基板を露光する露光装置に設けられる基板保持装置であって、前記基板を保持する基台と、前記基台の開口を介して昇降可能な昇降部と、前記開口を遮蔽する遮蔽部と、前記遮蔽部を駆動する駆動部と、を有し、前記駆動部は、前記基板を露光している間は、前記遮蔽部が前記開口を遮蔽する位置に前記遮蔽部を配置させる。
【選択図】図8
特許請求の範囲【請求項１】
基板を露光する露光装置に設けられる基板保持装置であって、
前記基板を保持する基台と、
前記基台の開口を介して昇降可能な昇降部と、
前記開口を遮蔽する遮蔽部と、
前記遮蔽部を駆動する駆動部と、を有し、
前記駆動部は、前記基板を露光している間は、前記遮蔽部が前記開口を遮蔽する位置に前記遮蔽部を配置させることを特徴とする基板保持装置。
続きを表示（約 920 文字）【請求項２】
前記駆動部は、前記昇降部の上面が前記基台の上面より高い状態では、前記遮蔽部が前記開口を遮蔽しない第１位置に前記遮蔽部を配置させ、前記基板を露光している間は、前記遮蔽部が前記開口を遮蔽する第２位置に前記遮蔽部を配置させることを特徴とする請求項１に記載の基板保持装置。
【請求項３】
前記駆動部は、前記昇降部の上面が前記基台の上面より低い状態では、前記第２位置に前記遮蔽部を配置させることを特徴とする請求項２に記載の基板保持装置。
【請求項４】
前記駆動部は、水平成分を含む方向に前記遮蔽部を駆動することを特徴とする請求項１に記載の基板保持装置。
【請求項５】
前記遮蔽部は、前記昇降部の昇降に伴い前記駆動部に発生する駆動力により駆動されることを特徴とする請求項１に記載の基板保持装置。
【請求項６】
前記駆動部は、前記昇降部に設けられた第１凹凸部に係合して配置された第１歯車と、前記遮蔽部に設けられた第２凹凸部に係合して配置された第２歯車を含み、
前記遮蔽部は、前記第１歯車、前記第２歯車を介して前記昇降部の昇降に伴い発生する駆動力により駆動されることを特徴とする請求項５に記載の基板保持装置。
【請求項７】
前記昇降部は、基板を保持する面が円形状のリフトピンであることを特徴とする請求項１に記載の基板保持装置。
【請求項８】
前記昇降部は、基板を保持する面がバー形状のリフトバーであることを特徴とする請求項１に記載の基板保持装置。
【請求項９】
前記開口は、前記基台の壁面の間の空間であり、
前記遮蔽部は、前記遮蔽部が前記第２位置に配置されるとき、前記遮蔽部の第１部分は、前記第１部分よりも前記壁面からの距離が近い前記遮蔽部の第２部分よりも反射率が低いことを特徴とする請求項２に記載の基板保持装置。
【請求項１０】
前記第２位置は、前記遮蔽部の上面が前記基台の上面と同程度となる位置であることを特徴とする請求項２に記載の基板保持装置。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板保持装置、露光装置、及び物品の製造方法に関する。
続きを表示（約 1,600 文字）【背景技術】
【０００２】
フォトリソグラフィ技術を用いて半導体素子や液晶表示素子等のデバイスを製造する際に、マスクのパターンを投影光学系によって基板に投影してパターンを転写する露光装置が使用されている。デバイスの製造工程は、基板に対してレジストを塗布する工程や基板に対して露光によりパターンを転写する工程、パターンが転写された基板を現像する工程を含む。一般的に、基板に対してレジストを塗布する工程やパターンが転写された基板を現像する工程は、基板に対して露光によりパターンを転写する露光装置とは異なるコータ・デベロッパ等で行われる。
【０００３】
このようにデバイスの製造工程において、異なる装置間で基板の受け渡しを行いながらデバイスが製造される。各装置には、基板を吸着等により保持し、基板の受け渡しを行うための基板保持装置が設けられており、基板保持装置は、基板を保持する基台と基板を昇降させるリフトピン等の基板昇降機構を含むことが一般的である。
【０００４】
ここで、基板の下部に設けられた基台と基板昇降機構との間には隙間が生じる。それゆえ、基板には、その下部に基台や基板昇降機構が配置された領域と、それらが配置されていない領域が生じる。昨今は、露光光が透過する透明基板を用いてデバイスを製造することも一般的になっており、透明基板に対して露光を行う場合には、基板を透過した露光光が基台や基板昇降機構において反射され、その反射光が基板上に塗布されたレジストを感光する。基台に設けられた隙間によりレジストに照射される光量に差が発生することで基板上に露光ムラが生じうる。特許文献１には、当該隙間の下部に基台より反射率が高い反射部材を設けることにより、レジストに照射される光量の差を低減する内容が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
特開２０１９－２１１７５５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
特許文献１の手法は、基板昇降機構の反射率が基台の反射率と同程度であることを前提とした内容である。しかしながら、露光ムラが生じないように基台又は基板昇降機構の材料を選択することは、設計の自由度を低下させてしまうおそれがある。
【０００７】
そこで、本発明は、露光ムラを低減するうえで有利な基板保持装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記目的を達成するために、本発明の一側面としての基板保持装置は、基板を露光する露光装置に設けられる基板保持装置であって、前記基板を保持する基台と、前記基台の開口を介して昇降可能な昇降部と、前記開口を遮蔽する遮蔽部と、前記遮蔽部を駆動する駆動部と、を有し、前記駆動部は、前記基板を露光している間は、前記遮蔽部が前記開口を遮蔽する位置に前記遮蔽部を配置させる。ことを特徴とする。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、露光ムラを低減するうえで有利な基板保持装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
露光装置の概略図である。
基板保持装置の概略図である。
基板保持機構における基台の例を示す図である。
基板保持機構における基台の例を示す図である。
基板保持機構における基台の例を示す図である。
露光ムラの発生メカニズムを説明する概略図である。
感光剤における光の波長と透過率の関係を示す図である。
第１実施形態における基板保持装置の構成を示す図である。
第２実施形態における基板保持装置の構成を示す図である。
物品の製造方法のフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
（【００１１】以降は省略されています）

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