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公開番号2024156011
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-10-31
出願番号2024146219,2023049750
出願日2024-08-28,2023-03-27
発明の名称保持装置
出願人日本特殊陶業株式会社
代理人弁理士法人暁合同特許事務所
主分類H01L 21/683 20060101AFI20241024BHJP(基本的電気素子)
要約【課題】ガス透過性に優れる多孔質体がガス流路内に充填された保持基板を備える保持装置の提供。
【解決手段】本発明の保持装置100は、対象物Wを保持する第1表面S1、それの反対側に配される第2表面S2を含み、セラミックスを主成分とする板状部材11と、その内部に形成されるガス流路12と、ガス流路12の一部に充填され、セラミックスを主成分とするガス透過性の多孔質体70とを有する保持基板を備える。ガス流路12は、第1表面S1側に開口したガス流出口12bを含み、ガス流出口12bから第2表面S2側に延びた縦流路部120と、縦流路部120と接続し、第1表面S1に対して平行に延びた横流路部130とを有する。多孔質体70は、その第2表面S2側であって横流路部130内に空間Vが形成されるように、縦流路部120に充填される。
【選択図】図3
特許請求の範囲【請求項１】
対象物を保持する第１表面、及び前記第１表面の反対側に配される第２表面を含み、セラミックスを主成分とする板状部材と、前記板状部材の内部に形成されるガス流路と、前記ガス流路の一部に充填され、セラミックスを主成分とするガス透過性の多孔質体とを有する保持基板を備える保持装置であって、
前記ガス流路は、前記第１表面側に開口したガス流出口を含み、前記ガス流出口から前記第２表面側に延びた縦流路部と、前記縦流路部と接続し、前記第１表面に対して平行に延びた横流路部とを有し、
前記多孔質体は、前記多孔質体の前記第２表面側であって前記横流路部内に空間が形成されるように、前記縦流路部に充填される保持装置。
続きを表示（約 460 文字）【請求項２】
前記多孔質体は、前記空間に面する前記第２表面側の端面からなり、前記第２表面側に盛り上がった凸状端面を有する請求項１に記載の保持装置。
【請求項３】
前記多孔質体は、前記空間に面する前記第２表面側の端面からなり、前記第１表面側に窪んだ凹状端面を有する請求項１に記載の保持装置。
【請求項４】
前記横流路部は、前記多孔質体と対向する底面を含み、
前記多孔質体は、前記縦流路部に充填される本体部と、前記本体部の前記第２表面側に前記空間が形成されると共に前記底面上で前記本体部が支持されるように、前記本体部から前記底面まで延びた支持部とを有する請求項１に記載の保持装置。
【請求項５】
前記多孔質体は、前記ガス流出口よりも前記第２表面側に配され、かつ径方向において前記ガス流出口よりも大きい幅広部を有する請求項１に記載の保持装置。
【請求項６】
前記横流路部の一端に前記空間を有する請求項１から請求項５の何れか一項に記載の保持装置。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、保持装置に関する。
続きを表示（約 1,400 文字）【背景技術】
【０００２】
半導体を製造する際にウェハ（半導体ウェハ）を保持する保持装置の一例として、静電チャックが挙げられる（特許文献１参照）。静電チャックは、絶縁性のセラミックス（例えば、アルミナ）を主体とした保持基板（セラミック基板）を備えており、その保持基板の表面上でウェハが静電引力により保持される。静電引力は、保持基板の内部に設けられたチャック電極に電圧が印加されることで、発生する。
【０００３】
この種の静電チャックでは、プラズマエッチング等のプラズマ処理において、保持基板とウェハとの間に、ヘリウムガス等の熱伝導ガスを供給して、ウェハから熱を取り除くことが行われている。そのため、静電チャックの保持基板の内部には、外部から供給された熱伝導ガスを、ウェハに向かって流すためのガス流路が形成されている。
【０００４】
なお、プラズマ処理時に印加される高周波電力により、ガス流路内で異常放電（アーキング）が発生して、その異常放電により保持基板上のウェハが損傷することがあった。そのため、このような異常放電の発生を抑制するために、ガス流路の内部に、絶縁性のセラミック材料からなるガス透過性の多孔質体が設けられていた。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
特許第４９５９９０５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
従来の保持装置の場合、ガス流路を利用して供給されるガス（熱伝導ガス等の不活性ガス）と、多孔質体の表面との接触面積が小さく、多孔質体におけるガスの圧力損失が大きい。そのため、外部よりガス流路に供給されるガス量と比べて、多孔質体を透過できるガス量が少なくなってしまう。
【０００７】
本発明の目的は、ガス透過性に優れる多孔質体がガス流路内に充填された保持基板を備える保持装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
前記課題を解決するための手段は、以下の通りである。即ち、
＜１＞対象物を保持する第１表面、及び前記第１表面の反対側に配される第２表面を含み、セラミックスを主成分とする板状部材と、前記板状部材の内部に形成されるガス流路と、前記ガス流路の一部に充填され、セラミックスを主成分とするガス透過性の多孔質体とを有する保持基板を備える保持装置であって、前記ガス流路は、前記第１表面側に開口したガス流出口を含み、前記ガス流出口から前記第２表面側に延びた縦流路部と、前記縦流路部と接続し、前記第１表面に対して平行に延びた横流路部とを有し、前記多孔質体は、前記多孔質体の前記第２表面側であって前記横流路部内に空間が形成されるように、前記縦流路部に充填される保持装置。
【０００９】
＜２＞前記多孔質体は、前記空間に面する前記第２表面側の端面からなり、前記第２表面側に盛り上がった凸状端面を有する前記＜１＞に記載の保持装置。
【００１０】
＜３＞前記多孔質体は、前記空間に面する前記第２表面側の端面からなり、前記第１表面側に窪んだ凹状端面を有する前記＜１＞に記載の保持装置。
（【００１１】以降は省略されています）

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