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公開番号2024154531
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-10-31
出願番号2023068378
出願日2023-04-19
発明の名称サーマルプリントヘッド
出願人ローム株式会社
代理人弁理士法人深見特許事務所
主分類B41J 2/335 20060101AFI20241024BHJP(印刷;線画機;タイプライター;スタンプ)
要約【課題】歩留まりが改善し得るサーマルプリントヘッドを提供する。
【解決手段】サーマルプリントヘッド1は、シリコン基板10を備える。シリコン基板10は、主面11を有する。シリコン基板10は、主面11上に凸部14を有する。主面11に対して垂直な方向をz方向とする。凸部14は、頂点14pを有する。頂点14pは、主面11からz方向において最も離れた点である。z方向に沿ったシリコン基板10の断面において、頂点14pからz方向において200μm以内のシリコン基板10の領域A1における欠陥密度は0.02個/μm²以下である。
【選択図】図4
特許請求の範囲【請求項１】
主面を有するシリコン基板を備え、
前記シリコン基板は、前記主面上に凸部を有し、
前記主面に対して垂直な方向をｚ方向とすると、
前記凸部は、前記主面から前記ｚ方向において最も離れた点である頂点を有し、
前記ｚ方向に沿った前記シリコン基板の断面において、
前記頂点から前記ｚ方向において２００μｍ以内の前記シリコン基板の領域における欠陥密度が０．０２個／μｍ
２
以下である、サーマルプリントヘッド。
続きを表示（約 290 文字）【請求項２】
前記断面において、
前記領域における欠陥密度が０．００４個／μｍ
２
以下である、請求項１に記載のサーマルプリントヘッド。
【請求項３】
前記断面において、
前記ｚ方向における前記シリコン基板の中央部における欠陥密度が０．００４個／μｍ
２
以上である、請求項２に記載のサーマルプリントヘッド。
【請求項４】
前記シリコン基板は、前記主面上に凹部を有し、
前記凸部は、前記凹部を覆う充填剤によって構成されている、請求項１から請求項３のいずれか１項に記載のサーマルプリントヘッド。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本開示は、サーマルプリントヘッドに関する。
続きを表示（約 2,000 文字）【背景技術】
【０００２】
特開２０２２－１８０１５２号公報（特許文献１）は、凸部を有する基板を備えるサーマルプリントヘッドを開示している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
特開２０２２－１８０１５２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかし、基板に起因する不良が発生する場合があり、サーマルプリントヘッドの歩留まりにおいて改善の余地がある。
【０００５】
本開示の目的は、上記のような課題を解決するために成されたものであり、本開示の目的は、歩留まりが改善し得るサーマルプリントヘッドを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本開示のサーマルプリントヘッドは、シリコン基板を備える。シリコン基板は、主面を有する。シリコン基板は、主面上に凸部を有する。主面に対して垂直な方向をｚ方向とする。凸部は、頂点を有する。頂点は、主面からｚ方向において最も離れた点である。ｚ方向に沿ったシリコン基板の断面において、頂点からｚ方向において２００μｍ以内のシリコン基板の領域における欠陥密度は０．０２個／μｍ
２
以下である。
【発明の効果】
【０００７】
本開示によれば、歩留まりが改善し得るサーマルプリントヘッドが提供され得る。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
図１は、実施の形態１のサーマルプリントヘッドの概略断面図である。
図２は、実施の形態１のサーマルプリントヘッドの概略平面図である。
図３は、実施の形態１のサーマルプリントヘッドの概略部分拡大平面図である。
図４は、実施の形態１のサーマルプリントヘッドの概略部分拡大断面図である。
図５は、実施の形態１のサーマルプリントヘッドの製造方法における一工程を示す概略部分拡大断面図である。
図６は、実施の形態１のサーマルプリントヘッドの製造方法における図５に示される工程の次工程を示す概略部分拡大断面図である。
図７は、実施の形態１のサーマルプリントヘッドの製造方法における図６に示される工程の次工程を示す概略部分拡大断面図である。
図８は、実施の形態１のサーマルプリントヘッドの製造方法における図７に示される工程の次工程を示す概略部分拡大断面図である。
図９は、実施の形態１のサーマルプリントヘッドの製造方法における図８に示される工程の次工程を示す概略部分拡大断面図である。
図１０は、実施の形態１のサーマルプリントヘッドの製造方法における図９に示される工程の次工程を示す概略部分拡大断面図である。
図１１は、実施の形態１のサーマルプリントヘッドの製造方法における図１０に示される工程の次工程を示す概略部分拡大断面図である。
図１２は、実施の形態１のサーマルプリントヘッドの製造方法における図１１に示される工程の次工程を示す概略部分拡大断面図である。
図１３は、実施の形態１のサーマルプリントヘッドの製造方法における図１２に示される工程の次工程を示す概略部分拡大断面図である。
図１４は、実施の形態１のサーマルプリントヘッドの製造方法における図１３に示される工程の次工程を示す概略部分拡大断面図である。
図１５は、実施の形態２のサーマルプリントヘッドの概略部分拡大断面図である。
図１６は、実施の形態２のサーマルプリントヘッドの製造方法における一工程を示す概略部分拡大断面図である。
図１７は、実施の形態２のサーマルプリントヘッドの製造方法における図１６に示される工程の次工程を示す概略部分拡大断面図である。
図１８は、実施の形態２のサーマルプリントヘッドの製造方法における図１７に示される工程の次工程を示す概略部分拡大断面図である。
図１９は、実施の形態２のサーマルプリントヘッドの製造方法における図１８に示される工程の次工程を示す概略部分拡大断面図である。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
図面に基づいて本開示の実施の形態の詳細について説明する。なお、以下の図面において同一または相当する部分には同一の参照番号を付し、その説明は繰返さない。以下に記載する実施の形態の少なくとも一部の構成を任意に組み合わせてもよい。
【００１０】
（実施の形態１）
図１は、実施の形態１のサーマルプリントヘッドの概略断面図である。図２は、実施の形態１のサーマルプリントヘッドの概略平面図である。図３は、実施の形態１のサーマルプリントヘッドの概略部分拡大平面図である。図４は、実施の形態１のサーマルプリントヘッドの概略部分拡大断面図である。
（【００１１】以降は省略されています）

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