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公開番号2024117088
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-08-28
出願番号2024021982
出願日2024-02-16
発明の名称磁気ディスク基板用研磨液組成物
出願人花王株式会社
代理人弁理士法人池内アンドパートナーズ
主分類G11B 5/84 20060101AFI20240821BHJP(情報記憶)
要約【課題】 一態様において、研磨速度向上と研磨後の基板表面のスクラッチ低減とを両立でき、保存安定性に優れる研磨液組成物を提供する。
【解決手段】 本開示は、一態様において、シリカ粒子(成分A)、酸(成分B)、高分子(成分C)、及び水を含む研磨液組成物であって、該研磨液組成物のpHが1以上5以下であり、成分Cは、フェノール性水酸基を有する単量体と、フェノール性水酸基と該フェノール性水酸基のo(オルト)位又はm(メタ)位に窒素原子含有官能基を有する単量体との共重合体である、磁気ディスク基板用研磨液組成物に関する。
【選択図】なし
特許請求の範囲【請求項1】
シリカ粒子(成分A)、酸(成分B)、高分子(成分C)、及び水を含む、研磨液組成物であって、
該研磨液組成物のpHが1以上5以下であり、
成分Cは、フェノール性水酸基を有する単量体と、フェノール性水酸基と該フェノール性水酸基のo(オルト)位又はm(メタ)位に窒素原子含有官能基を有する単量体との共重合体である、磁気ディスク基板用研磨液組成物。
続きを表示(約 1,000 文字)【請求項2】
前記研磨液組成物中のシリカ粒子(成分A)の平均粒径dと、前記研磨液組成物から成分Cが除かれた組成である組成物中のシリカ粒子(成分A)の平均粒径d
0
との比d/d
0
が、1.4以下である、請求項1に記載の研磨液組成物。
【請求項3】
前記成分Cは、下記式(I)で表される構造を有する化合物である、請求項1に記載の研磨剤組成物。
TIFF
2024117088000006.tif
42
159
式(I)中、R
1
及びR
2
はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数1~3の炭化水素基、又は、炭素数1~3のヒドロキシアルキル基である。ただし、R
1
とR
2
とが環構造を形成してもよい。xは1又は2であり、yは1又は2である。m及びnはモル比を示し、m+n=100、20≦m≦80、20≦n≦80を満たす。
【請求項4】
成分Cは、下記ゼータ電位測定サンプルで測定したゼータ電位が+1mV以上+40mV以下となる高分子である、請求項1に記載の研磨液組成物。
ゼータ電位測定サンプル:水、成分C、酸(成分B)からなるpHが1.5の組成物であって、該組成物中の成分Cの含有量が0.5質量%である
【請求項5】
前記研磨液組成物中の成分Cの含有量が10質量ppm以上100質量ppm以下である請求項1に記載の研磨液組成物。
【請求項6】
前記研磨液組成物中の成分Aの含有量と同成分Cの含有量との質量比A/Cが、300以上5000以下である、請求項1に記載の研磨液組成物。
【請求項7】
成分Cの重量平均分子量が、1000以上5万以下である、請求項1に記載の研磨液組成物。
【請求項8】
酸化剤(成分D)をさらに含む、請求項1に記載の研磨液組成物。
【請求項9】
分子内にスルホン酸基又はカルボン酸基を有する芳香族化合物、及びアゾール化合物から選ばれる少なくとも1種の化合物(成分E)を更に含む、請求項1に記載の研磨液組成物。
【請求項10】
請求項1から9のいずれかに記載の研磨液組成物を用いて被研磨基板を研磨することを含み、前記被研磨基板は、磁気ディスク基板の製造に用いられる基板である、基板の研磨方法。
(【請求項11】以降は省略されています)

発明の詳細な説明【技術分野】
【0001】
本開示は、磁気ディスク基板用研磨液組成物、並びにこれを用いた磁気ディスク基板の製造方法及び研磨方法に関する。
続きを表示(約 1,500 文字)【背景技術】
【0002】
近年、磁気ディスクドライブは小型化・大容量化が進み、高記録密度化が求められている。高記録密度化するために、単位記録面積を縮小し、弱くなった磁気信号の検出感度を向上するため、磁気ヘッドの浮上高さをより低くするための技術開発が進められている。磁気ディスク基板には、磁気ヘッドの低浮上化と記録面積の確保に対応するため、表面粗さ、うねり、端面ダレ(ロールオフ)の低減に代表される平滑性・平坦性の向上とスクラッチ、突起、ピット等の低減に代表される欠陥低減に対する要求が厳しくなっている。
【0003】
例えば、特許文献1には、ガラス素材用研磨液組成物として、少なくとも加工用助剤と水とを含む加工用助剤組成物において、上記加工用助剤が水溶性又は水分散性の有機高分子からなり、該有機高分子は、1個以上の水酸基を持つ芳香族基を分子量500単位当たりに1個以上有し、且つその主鎖中に重合性のビニル系単量体から誘導される2価の基、又は-Ar-CH
2
-(Arは官能基で置換されていてもよいフェニレン基を表す)で表される基を含む、加工用助剤組成物が提案されている。
特許文献2には、磁気ディスク用研磨液組成物として、研磨材、水溶性高分子、酸及び水系媒体を含有し、前記水溶性高分子が、主鎖又は側鎖にフェニルエーテル骨格を有する陽イオン性高分子である、研磨液組成物が提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
特開平10-102041号公報
特開2020-84186号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
磁気ディスクドライブの大容量化に伴い、基板の表面品質に対する要求特性はさらに厳しくなっており、基板表面のスクラッチをいっそう低減できる研磨液組成物の開発が求められている。また、一般的に、研磨速度とスクラッチとはトレードオフの関係にあり、一方が改善すれば一方が悪化するという問題がある。さらに、生産性向上及び廃棄処分低減の観点から、研磨液組成物には保存安定性に優れることも要求される。
【0006】
そこで、本開示は、一態様において、研磨速度の向上と研磨後の基板表面のスクラッチ低減とを両立でき、保存安定性に優れる研磨液組成物を提供する。
【課題を解決するための手段】
【0007】
本開示は、一態様において、シリカ粒子(成分A)、酸(成分B)、高分子(成分C)、及び水を含む、研磨液組成物であって、pHが1以上5以下であり、成分Cは、フェノール性水酸基を有する単量体と、フェノール性水酸基と該フェノール性水酸基のo(オルト)位又はm(メタ)位に窒素原子含有官能基を有する単量体との共重合体である、磁気ディスク基板用研磨液組成物に関する。
【0008】
本開示は、一態様において、本開示の研磨液組成物を用いて被研磨基板を研磨することを含み、前記被研磨基板は、磁気ディスク基板の製造に用いられる基板である、基板の研磨方法に関する。
【0009】
本開示は、一態様において、本開示の研磨液組成物を用いて被研磨基板を研磨する工程を含む、磁気ディスク基板の製造方法に関する。
【発明の効果】
【0010】
本開示は、一態様において、研磨速度向上と研磨後の基板表面のスクラッチ低減とを両立でき、保存安定性に優れる研磨液組成物を提供できる。
【発明を実施するための形態】
(【0011】以降は省略されています)

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