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公開番号2025112585
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-08-01
出願番号2024006905
出願日2024-01-19
発明の名称システム、基板処理装置、基板処理方法、及び物品の製造方法
出願人キヤノン株式会社
代理人弁理士法人近島国際特許事務所
主分類F26B 5/04 20060101AFI20250725BHJP(乾燥)
要約【課題】基板上のインクを乾燥させるのに有利な技術を提供する。
【解決手段】システムは、インク供給部及び基板の少なくとも一方を移動させることにより、前記インク供給部を前記基板の主面に沿う第1方向に走査して前記基板の前記主面にインクを供給する第1ユニットと、前記基板の前記主面に配置された前記インクを乾燥させる第2ユニットと、を備える。前記第2ユニットは、前記基板が搬送される内部空間を画定する容器と、前記容器の内部に搬送された前記基板の前記主面に対向するよう、前記容器の内部に配置されたカバーと、を有する。前記カバーは、前記カバーに対して前記基板の側の第1空間、および前記カバーに対して前記基板とは反対の側の第2空間を連通させる複数のスリットを画定するよう構成されている。前記主面に直交する方向に視て、前記複数のスリットのうち少なくとも2つのスリットは、前記第1方向と平行に延びる仮想直線と交差する。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項１】
インク供給部及び基板の少なくとも一方を移動させることにより、前記インク供給部を前記基板の主面に沿う第１方向に走査して前記基板の前記主面にインクを供給する第１ユニットと、
前記基板の前記主面に配置された前記インクを乾燥させる第２ユニットと、を備え、
前記第２ユニットは、
前記基板が搬送される内部空間を画定する容器と、
前記容器の内部に搬送された前記基板の前記主面に対向するよう、前記容器の内部に配置されたカバーと、を有し、
前記カバーは、前記カバーに対して前記基板の側の第１空間、および前記カバーに対して前記基板とは反対の側の第２空間を連通させる複数のスリットを画定するよう構成され、
前記主面に直交する方向に視て、前記複数のスリットのうち少なくとも２つのスリットは、前記第１方向と平行に延びる仮想直線と交差する、
ことを特徴とするシステム。
続きを表示（約 900 文字）【請求項２】
前記少なくとも２つのスリットの各々は、スリット長さがスリット幅の２倍以上である、
ことを特徴とする請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
前記少なくとも２つのスリットは、前記第１方向に互いに間隔をあけて配置されている、
ことを特徴とする請求項１に記載のシステム。
【請求項４】
前記少なくとも２つのスリットの各々は、前記第１方向に交差する第２方向に直線状に延在する、
ことを特徴とする請求項２に記載のシステム。
【請求項５】
前記第２方向は、前記第１方向に直交する方向である、
ことを特徴とする請求項４に記載のシステム。
【請求項６】
前記主面に直交する方向に視て、前記少なくとも２つのスリットの各々は、前記仮想直線に複数箇所で交差する波形状又はジグザグ形状である、
ことを特徴とする請求項１に記載のシステム。
【請求項７】
前記主面に直交する方向に視て、前記少なくとも２つのスリットの各々は、リング状のスリットであり、
前記主面に直交する方向に視て、前記少なくとも２つのスリットは、同心円状に配置されている、
ことを特徴とする請求項１に記載のシステム。
【請求項８】
前記主面に直交する方向に視て、前記少なくとも２つのスリットの各々は、リングの周方向に沿って波形状又はジグザグ形状である、
ことを特徴とする請求項７に記載のシステム。
【請求項９】
前記主面に直交する方向に視て、前記基板の前記主面と重なる領域のうち、中心領域における開口率は、前記中心領域の外側の周辺領域における開口率より大きい、
ことを特徴とする請求項１に記載のシステム。
【請求項１０】
前記中心領域における開口率は、４０％以上６０％以下であり、
前記周辺領域における開口率は、１０％以上３０％以下である、
ことを特徴とする請求項９に記載のシステム。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本開示は、基板処理に関する。
続きを表示（約 1,500 文字）【背景技術】
【０００２】
有機ＥＬ（ＥｌｅｃｔｒｏＬｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）素子であるＯＬＥＤ（ＯｒｇａｎｉｃＬｉｇｈｔＥｍｉｔｔｉｎｇＤｉｏｄｅ）を有するパネル（有機ＥＬパネル）などの物品を製造する際に、基板の上の所望の箇所にインクジェット塗布装置を用いて溶液を塗布することで基板の上に溶液膜を配置する方法が知られている。溶液膜は、溶質と溶媒とを含む溶液（インク）で構成される膜である。基板の上に配置された溶液膜を乾燥させることで、基板の上に膜（層）が形成される。溶液膜の乾燥には、基板処理装置である減圧乾燥装置が用いられる。
【０００３】
基板上に塗布された溶液膜から安定して膜を形成するためには、インク塗布工程、搬送工程、及び乾燥工程のそれぞれのプロセス時間や環境などを一貫して管理しながら、短時間に溶液膜を乾燥させることが好ましい。
【０００４】
特許文献１には、複数の蒸気透過領域と複数の蒸気バリア領域とを有するマスクを備える乾燥室が開示されている。複数の蒸気透過領域の各々は、例えば開口である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
特表２０２１－５３２５４１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかし、基板には、塗布装置の走査方向と直交する方向に、インクの塗布量のムラやインクの塗布位置精度のムラなど、塗布装置の塗布性能に起因するインクの塗布ムラが生じることがある。つまり、走査方向に沿ってインクがスジ状となるように見える塗布ムラが生じることがある。
【０００７】
例えば、インクジェット塗布装置では、塗布ヘッド及び基板の少なくとも一方を移動させることにより塗布ヘッドを基板の主面に沿って走査し、走査方向に沿って基板の主面上にインクを塗布する。塗布ヘッドは、走査方向に交差する方向に配列された複数のノズルを有する。複数のノズルの性能のばらつきに起因して、基板上には上述したインクの塗布ムラが生じることがある。
【０００８】
このような塗布ムラのあるインクを乾燥させた後に形成されるパネルには、走査方向に沿ったスジ状のムラが視認されることがある。特に、有機ＥＬパネルでは、素子性能のムラがスジ状に並ふと、スジ状の性能ムラがユーザに視認されることがある。このようなパネルは不良品となるため、良品率の向上が求められている。
【０００９】
本開示は、基板上のインクを乾燥させるのに有利な技術を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本開示の第１態様は、インク供給部及び基板の少なくとも一方を移動させることにより、前記インク供給部を前記基板の主面に沿う第１方向に走査して前記基板の前記主面にインクを供給する第１ユニットと、前記基板の前記主面に配置された前記インクを乾燥させる第２ユニットと、を備え、前記第２ユニットは、前記基板が搬送される内部空間を画定する容器と、前記容器の内部に搬送された前記基板の前記主面に対向するよう、前記容器の内部に配置されたカバーと、を有し、前記カバーは、前記カバーに対して前記基板の側の第１空間、および前記カバーに対して前記基板とは反対の側の第２空間を連通させる複数のスリットを画定するよう構成され、前記主面に直交する方向に視て、前記複数のスリットのうち少なくとも２つのスリットは、前記第１方向と平行に延びる仮想直線と交差する、ことを特徴とするシステムである。
（【００１１】以降は省略されています）

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