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公開番号
2025103028
公報種別
公開特許公報(A)
公開日
2025-07-08
出願番号
2025065227,2022518128
出願日
2025-04-10,2021-04-28
発明の名称
配線基板及び配線基板の製造方法
出願人
大日本印刷株式会社
代理人
個人
,
個人
,
個人
主分類
H01Q
1/38 20060101AFI20250701BHJP(基本的電気素子)
要約
【課題】メッシュ配線層中に電流が流れにくくなることを抑制する配線基板及び配線基板の製造方法を提供する。
【解決手段】配線基板(10)は、基板(11)と、基板(11)上に配置され、複数の配線(21、22)を含むメッシュ配線層(20)と、を備えている。基板(11)は、波長400nm以上700nm以下の光線の透過率が85%以上である。配線(21、22)は、表面粗さRaを含み、表面粗さRaは、100nm以下である。
【選択図】図2
特許請求の範囲
【請求項1】
配線基板であって、
基板と、
前記基板上に配置され、複数の配線を含むメッシュ配線層と、を備え、
前記配線は、断面視において粒界を介して互いに隣接して配置された複数の金属結晶を含み、前記金属結晶のエリア平均粒径が300nm以上である、配線基板。
続きを表示(約 590 文字)
【請求項2】
前記基板は、透明性を有する、請求項1に記載の配線基板。
【請求項3】
前記メッシュ配線層の開口率が87%以上である、請求項1又は2に記載の配線基板。
【請求項4】
前記配線は、表面粗さRaを含み、前記表面粗さRaは、100nm以下である、請求項1乃至3のいずれか一項に記載の配線基板。
【請求項5】
前記配線の線幅は、0.1μm以上5.0μm以下である、請求項1乃至4のいずれか一項に記載の配線基板。
【請求項6】
前記メッシュ配線層は、アンテナである、請求項1乃至5のいずれか一項に記載の配線基板。
【請求項7】
前記配線は、金、銀、銅、白金、錫、アルミニウム、鉄又はニッケルを含む、請求項1乃至6のいずれか一項に記載の配線基板。
【請求項8】
前記基板の誘電正接が0.002以下である、請求項1乃至7のいずれか一項に記載の配線基板。
【請求項9】
前記基板の厚みが5μm以上200μm以下である、請求項1乃至8のいずれか一項に記載の配線基板。
【請求項10】
前記基板は、シクロオレフィンポリマー又はポリノルボルネンポリマーを含む、請求項1乃至9のいずれか一項に記載の配線基板。
(【請求項11】以降は省略されています)
発明の詳細な説明
【技術分野】
【0001】
本開示の実施の形態は、配線基板及び配線基板の製造方法に関する。
続きを表示(約 1,300 文字)
【背景技術】
【0002】
現在、スマートフォン、タブレット等の携帯端末機器の高機能、小型化、薄型化及び軽量化が進んでいる。これら携帯端末機器は、複数の通信帯域を使用するため、通信帯域に応じた複数のアンテナが必要とされる。例えば、携帯端末機器には、電話用アンテナ、WiFi(Wireless Fidelity)用アンテナ、3G(Generation)用アンテナ、4G(Generation)用アンテナ、LTE(Long Term Evolution)用アンテナ、Bluetooth(登録商標)用アンテナ、NFC(Near Field Communication)用アンテナ等の複数のアンテナが搭載されている。しかしながら、携帯端末機器の小型化に伴い、アンテナの搭載スペースは限られており、アンテナ設計の自由度は狭まっている。また、限られたスペース内にアンテナを内蔵していることから、電波感度が必ずしも満足できるものではない。
【0003】
このため、携帯端末機器の表示領域に搭載することができるフィルムアンテナが開発されている。このフィルムアンテナは、透明基材上にアンテナパターンが形成された透明アンテナであり、アンテナパターンが、不透明な導電体層の形成部としての導体部と非形成部としての多数の開口部とによるメッシュ状の導電体メッシュ層によって形成されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
特開2011-66610号公報
特許第5636735号明細書
特許第5695947号明細書
【0005】
従来のフィルムアンテナにおいては、透明基材上にメッシュ配線層(導電体メッシュ層)が搭載される。特に近年、フィルムアンテナにおいて、高周波の電磁波が使用されてきている。高周波の電磁波を用いた場合、メッシュ配線層を構成する金属の結晶粒界を電子が単位時間当たりに通過する回数が増加するため、電流が流れにくく、伝送損失が増加する恐れがある。
【0006】
本実施の形態は、メッシュ配線層中に電流が流れにくくなることを抑制することが可能な、配線基板及び配線基板の製造方法を提供する。
【発明の開示】
【0007】
本実施の形態による配線基板は、配線基板であって、基板と、前記基板上に配置され、複数の配線を含むメッシュ配線層と、を備え、前記基板は、波長400nm以上700nm以下の光線の透過率が85%以上であり、前記配線は、表面粗さRaを含み、前記表面粗さRaは、100nm以下である。
【0008】
本実施の形態による配線基板において、前記配線は、金属結晶を含み、前記金属結晶のエリア平均粒径が300nm以上であっても良い。
【0009】
本実施の形態による配線基板において、前記配線の線幅は、0.1μm以上5.0μm以下であっても良い。
【0010】
本実施の形態による配線基板において、前記メッシュ配線層は、アンテナであっても良い。
(【0011】以降は省略されています)
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