TOP特許意匠商標
特許ウォッチ Twitter
公開番号2025100910
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-07-03
出願番号2025072560,2023090066
出願日2025-04-24,2017-09-29
発明の名称ひずみゲージ
出願人ミネベアミツミ株式会社
代理人弁理士法人ITOH
主分類G01B 7/16 20060101AFI20250626BHJP(測定;試験)
要約【課題】可撓性を有する基材上に形成された抵抗体を有するひずみゲージにおいて、ピンホール数を低減する。
【解決手段】本ひずみゲージは、可撓性を有する樹脂製の基材と、前記基材の一方の面に直接、金属、合金、又は、金属の化合物から形成された機能層と、前記機能層の一方の面に直接、Cr、CrN、及びCr2Nを含む膜から形成された、α-Crを主成分とする抵抗体と、を有し、前記機能層は、前記α-Crの結晶成長を促進させ、前記α-Crを主成分とする膜を成膜する機能を有し、前記抵抗体の厚さは、0.05μm以上2μm以下であり、前記機能層の厚さは、1nm以上100nm以下であり、前記基材の一方の面の表面凹凸が15nm以下である。
【選択図】図3
特許請求の範囲【請求項1】
可撓性を有する樹脂製の基材と、
前記基材の一方の面に直接、金属、合金、又は、金属の化合物から形成された機能層と、
前記機能層の一方の面に直接、Cr、CrN、及びCr

Nを含む膜から形成された、α-Crを主成分とする抵抗体と、を有し、
前記機能層は、前記α-Crの結晶成長を促進させ、前記α-Crを主成分とする膜を成膜する機能を有し、
前記抵抗体の厚さは、0.05μm以上2μm以下であり、
前記機能層の厚さは、1nm以上100nm以下であり、
前記基材の一方の面の表面凹凸が15nm以下であるひずみゲージ。
続きを表示(約 100 文字)【請求項2】
前記基材は、フィラーを含有している請求項1に記載のひずみゲージ。
【請求項3】
前記基材は、ポリイミド樹脂から形成されている請求項1又は2に記載のひずみゲージ。

発明の詳細な説明【技術分野】
【0001】
本発明は、ひずみゲージに関する。
続きを表示(約 1,200 文字)【背景技術】
【0002】
測定対象物に貼り付けて、測定対象物のひずみを検出するひずみゲージが知られている。ひずみゲージは、ひずみを検出する抵抗体を備えており、抵抗体の材料としては、例えば、Cr(クロム)やNi(ニッケル)を含む材料が用いられている。又、抵抗体は、例えば、絶縁樹脂からなる基材上に形成されている(例えば、特許文献1参照)。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
特開2016-74934号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
しかしながら、可撓性を有する基材上に抵抗体を形成すると、抵抗体にピンホールが発生する場合がある。抵抗体に発生するピンホール数が所定値を超えると、ゲージ特性が悪化したり、ひずみゲージとして機能しなくなったりするおそれがある。
【0005】
本発明は、上記の点に鑑みてなされたもので、可撓性を有する基材上に形成された抵抗体を有するひずみゲージにおいて、ピンホール数を低減することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0006】
本ひずみゲージは、可撓性を有する樹脂製の基材と、前記基材の一方の面に直接、金属、合金、又は、金属の化合物から形成された機能層と、前記機能層の一方の面に直接、Cr、CrN、及びCr

Nを含む膜から形成された、α-Crを主成分とする抵抗体と、を有し、前記機能層は、前記α-Crの結晶成長を促進させ、前記α-Crを主成分とする膜を成膜する機能を有し、前記抵抗体の厚さは、0.05μm以上2μm以下であり、前記機能層の厚さは、1nm以上100nm以下であり、前記基材の一方の面の表面凹凸が15nm以下である。
【発明の効果】
【0007】
開示の技術によれば、可撓性を有する基材上に形成された抵抗体を有するひずみゲージにおいて、ピンホール数を低減することができる。
【図面の簡単な説明】
【0008】
第1の実施の形態に係るひずみゲージを例示する平面図である。
第1の実施の形態に係るひずみゲージを例示する断面図である。
基材の表面凹凸と抵抗体のピンホール数との関係を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【0009】
以下、図面を参照して発明を実施するための形態について説明する。各図面において、同一構成部分には同一符号を付し、重複した説明を省略する場合がある。
【0010】
〈第1の実施の形態〉
図1は、第1の実施の形態に係るひずみゲージを例示する平面図である。図2は、第1の実施の形態に係るひずみゲージを例示する断面図であり、図1のA-A線に沿う断面を示している。図1及び図2を参照するに、ひずみゲージ1は、基材10と、抵抗体30と、端子部41とを有している。
(【0011】以降は省略されています)

この特許をJ-PlatPatで参照する

関連特許

日本精機株式会社
計器装置
6日前
株式会社東光高岳
計器
2日前
日本精機株式会社
液面検出装置
8日前
有限会社原製作所
検出回路
28日前
大和製衡株式会社
組合せ秤
8日前
大和製衡株式会社
組合せ秤
8日前
大和製衡株式会社
組合せ秤
14日前
個人
フロートレス液面センサー
21日前
キヤノン株式会社
放射線撮像装置
23日前
ダイハツ工業株式会社
試験用治具
14日前
日本特殊陶業株式会社
ガスセンサ
20日前
エグゼヴィータ株式会社
端末装置
今日
日本特殊陶業株式会社
ガスセンサ
今日
日本特殊陶業株式会社
ガスセンサ
今日
日本特殊陶業株式会社
ガスセンサ
9日前
日本特殊陶業株式会社
ガスセンサ
9日前
大同特殊鋼株式会社
座標系較正方法
23日前
富士電機株式会社
エンコーダ
1日前
富士電機株式会社
エンコーダ
1日前
柳井電機工業株式会社
部材検査装置
今日
株式会社クボタ
作業車
13日前
バイオテック株式会社
容器設置装置
今日
TDK株式会社
計測装置
7日前
大同特殊鋼株式会社
ラベル色特定方法
23日前
旭光電機株式会社
漏出検出装置
20日前
株式会社フジキン
流量測定装置
15日前
株式会社ノーリツ
通信システム
6日前
トヨタ自動車株式会社
歯車の検査方法
9日前
新電元メカトロニクス株式会社
位置検出装置
6日前
日本電気株式会社
測位装置及びその方法
2日前
株式会社島津製作所
発光分析装置
6日前
ジャパンプローブ株式会社
超音波探触子
今日
株式会社アステックス
ラック型負荷装置
21日前
帝国通信工業株式会社
圧力センサ
今日
住友化学株式会社
積層基板
20日前
日本製鉄株式会社
評価方法
21日前
続きを見る