特許ウォッチ

公開番号2025089872
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-06-16
出願番号2023204807
出願日2023-12-04
発明の名称ウエハ洗浄装置、ウエハ加工装置およびウエハ洗浄方法
出願人ヤマハ発動機株式会社
代理人個人
主分類H01L 21/304 20060101AFI20250609BHJP(基本的電気素子)
要約【課題】洗浄液供給部および紫外線照射部の両方を配置した場合でも、水平方向における装置の大型化を抑制することが可能なウエハ洗浄装置、ウエハ加工装置およびウエハ洗浄方法を提供する。
【解決手段】このウエハ洗浄装置100は、フレームWfを保持した状態でウエハWeを回転させるウエハ保持回転部3と、異物Cnを除去する洗浄液Cwを、ウエハ保持回転部3に保持された状態のウエハWeの表面に供給する洗浄液供給部4とを備える。ウエハ洗浄装置100は、ウエハ保持回転部3に保持されたウエハWeに洗浄液供給部4から洗浄液Cwを供給する状態で、洗浄液供給部4の洗浄液Cwの供給口41aと平面視においてオーバーラップする位置に配置され、粘着テープWtのうちのウエハWeが貼り付けられたウエハ貼付部分Wt1に下方から紫外線を照射する紫外線照射部5を備えている。
【選択図】図4
特許請求の範囲【請求項１】
複数の半導体チップに分割されたウエハと共に粘着テープに貼り付けられたフレームを保持するとともに、前記フレームを保持した状態で前記ウエハを回転させるウエハ保持回転部と、
前記ウエハを前記複数の半導体チップに分割した際に付着した異物を除去する洗浄液を、前記ウエハ保持回転部に保持された状態の前記ウエハの表面に供給する洗浄液供給部と、
前記ウエハ保持回転部に保持された前記ウエハに前記洗浄液供給部から前記洗浄液を供給する状態で、前記洗浄液供給部の前記洗浄液の供給口と平面視においてオーバーラップする位置に配置され、前記粘着テープのうちの前記ウエハが貼り付けられたウエハ貼付部分に下方から紫外線を照射する紫外線照射部とを備える、ウエハ洗浄装置。
続きを表示（約 1,900 文字）【請求項２】
前記ウエハ保持回転部により保持しつつ回転させた前記ウエハの表面に前記洗浄液供給部から前記洗浄液を供給して行う前記ウエハの洗浄と並行して、供給された前記洗浄液により前記ウエハの表面を被膜しつつ、前記紫外線照射部から前記粘着テープの前記ウエハ貼付部分に向かって紫外線を照射する制御を行う制御部をさらに備える、請求項１に記載のウエハ洗浄装置。
【請求項３】
前記制御部は、前記ウエハ保持回転部により保持しつつ第１回転速度で回転させた状態で前記洗浄液による前記ウエハの洗浄を行った後、前記ウエハ保持回転部により保持して前記第１回転速度よりも遅い第２回転速度で前記ウエハを回転させた状態で、前記ウエハの洗浄と並行して、供給された前記洗浄液により前記ウエハの表面を被膜しつつ、前記紫外線照射部から前記粘着テープの前記ウエハ貼付部分に向かって紫外線を照射する制御を行うように構成されている、請求項２に記載のウエハ洗浄装置。
【請求項４】
前記ウエハの表面に供給された前記洗浄液の膜厚を測定する膜厚測定部をさらに備え、
前記制御部は、前記ウエハの洗浄と並行して紫外線を照射する制御を行う際に、前記膜厚測定部により測定された前記洗浄液の膜厚に基づいて、前記ウエハ保持回転部による前記ウエハの回転速度、および、前記洗浄液供給部からの前記洗浄液の供給量の少なくともいずれかを調整する制御を行うように構成されている、請求項２に記載のウエハ洗浄装置。
【請求項５】
前記膜厚測定部は、前記洗浄液の膜厚を測定する状態で、前記紫外線照射部と平面視においてオーバーラップした位置に配置されるレーザ計測部を含む、請求項４に記載のウエハ洗浄装置。
【請求項６】
前記ウエハの洗浄後に前記紫外線照射部と平面視においてオーバーラップした位置に配置された状態で、前記ウエハを乾燥させるウエハ乾燥部をさらに備える、請求項１に記載のウエハ洗浄装置。
【請求項７】
前記紫外線照射部は、前記ウエハ保持回転部により前記ウエハを回転させることにより、前記粘着テープの前記ウエハ貼付部分に均等に紫外線が照射されるように配置された複数の紫外線光源を含む、請求項１に記載のウエハ洗浄装置。
【請求項８】
前記洗浄液供給部は、平面視において、前記ウエハ保持回転部の回転中心位置と、前記ウエハ保持回転部から外れた退避位置との間で回動するとともに、前記洗浄液を前記ウエハの表面に供給する前記供給口を有する洗浄ノズルを含み、
前記制御部は、前記洗浄ノズルを前記回転中心位置に回動させた状態で前記洗浄液を供給して行う前記ウエハの洗浄と並行して、供給された前記洗浄液により前記ウエハの表面を被膜しつつ、前記紫外線照射部から前記粘着テープの前記ウエハ貼付部分に向かって紫外線を照射する制御を行うように構成されている、請求項２に記載のウエハ洗浄装置。
【請求項９】
複数の半導体チップが設けられたウエハを前記複数の半導体チップに分割するダイシング部と、
前記ダイシング部による分割後の前記ウエハの洗浄を行うウエハ洗浄部とを備え、
前記ウエハ洗浄部は、
前記ウエハと共に粘着テープに貼り付けられたフレームを保持するとともに、前記フレームを保持した状態で前記ウエハを回転させるウエハ保持回転部と、
前記ウエハを前記複数の半導体チップに分割した際に付着した異物を除去する洗浄液を、前記ウエハ保持回転部に保持された状態の前記ウエハの表面に供給する洗浄液供給部と、
前記ウエハ保持回転部に保持された前記ウエハに前記洗浄液供給部から前記洗浄液を供給する状態で、前記洗浄液供給部の前記洗浄液の供給口と平面視においてオーバーラップする位置に配置され、前記粘着テープのうちの前記ウエハが貼り付けられたウエハ貼付部分に下方から紫外線を照射する紫外線照射部とを含む、ウエハ加工装置。
【請求項１０】
複数の半導体チップに分割されたウエハが貼り付けられた粘着テープに共に貼り付けられたフレームをウエハ保持回転部により保持するステップと、
前記ウエハ保持回転部により保持しつつ回転させた前記ウエハの表面に洗浄液供給部から洗浄液を供給して行う前記ウエハの洗浄と並行して、紫外線照射部から前記粘着テープのウエハ貼付部分に向かって紫外線を照射するステップとを備える、ウエハ洗浄方法。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
この発明は、ウエハ洗浄装置、ウエハ加工装置およびウエハ洗浄方法に関し、特に、ウエハを複数の半導体チップに分割した際に付着した異物を除去するウエハ洗浄装置、ウエハ加工装置およびウエハ洗浄方法に関する。
続きを表示（約 1,700 文字）【背景技術】
【０００２】
従来、ウエハを複数の半導体チップに分割した際に付着した異物を除去するウエハ加工装置が知られている（たとえば、特許文献１参照）。
【０００３】
上記特許文献１には、ウエハを複数の半導体チップに分割した際に付着した異物を除去する加工装置（ウエハ加工装置）が開示されている。
【０００４】
上記特許文献１の加工装置は、レーザ照射部と、吸着部と、クランプ部と、クランプ昇降部と、洗浄部と、紫外線照射部とを備えている。レーザ照射部は、ウエハ内に改質層を形成するレーザを照射するように構成されている。吸着部は、改質層を形成した後、ウエハが貼り付けられた粘着テープのウエハの下方部分を吸着するように構成されている。クランプ部は、吸着部により粘着テープのウエハの下方部分を吸着した後、ウエハと共に粘着テープに貼り付けられたフレームを保持するように構成されている。クランプ昇降部は、吸着部に対して相対的にクランプ部を下降させるように構成されている。この下降により、粘着テープが拡張するので、ウエハが改質層に沿って分割される。
【０００５】
上記特許文献１の洗浄部は、分割されたウエハを洗浄するように構成されている。紫外線照射部は、洗浄部により洗浄されたウエハの下方部分の粘着テープに紫外線を照射するように構成されている。紫外線照射部は、ウエハおよび粘着テープを液体に浸漬させた状態で、ウエハの下方部分の粘着テープに紫外線を照射するように構成されている。このような紫外線照射部は、洗浄部とは水平方向において離れた場所に配置されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
特許第６７３９２９４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、上記特許文献１の加工装置では、洗浄部とは水平方向において離れた場所に配置されていることに起因して、洗浄部および紫外線照射部の両方の配置スペースを確保するために、水平方向において加工装置が大型化する。このため、洗浄部（洗浄液供給部）および紫外線照射部の両方を配置した場合でも、水平方向における加工装置の大型化を抑制することが望まれている。
【０００８】
この発明は、上記のような課題を解決するためになされたものであり、この発明の１つの目的は、洗浄液供給部および紫外線照射部の両方を配置した場合でも、水平方向における装置の大型化を抑制することが可能なウエハ洗浄装置、ウエハ加工装置およびウエハ洗浄方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
この発明の第１の局面によるウエハ洗浄装置は、複数の半導体チップに分割されたウエハと共に粘着テープに貼り付けられたフレームを保持するとともに、フレームを保持した状態でウエハを回転させるウエハ保持回転部と、ウエハを複数の半導体チップに分割した際に付着した異物を除去する洗浄液を、ウエハ保持回転部に保持された状態のウエハの表面に供給する洗浄液供給部と、ウエハ保持回転部に保持されたウエハに洗浄液供給部から洗浄液を供給する状態で、洗浄液供給部の洗浄液の供給口と平面視においてオーバーラップする位置に配置され、粘着テープのうちのウエハが貼り付けられたウエハ貼付部分に下方から紫外線を照射する紫外線照射部とを備える。
【００１０】
この発明の第１の局面によるウエハ洗浄装置では、上記のように、異物を除去する洗浄液を、ウエハ保持回転部に保持された状態のウエハの表面に供給する洗浄液供給部を設ける。また、ウエハ洗浄装置では、洗浄液を供給する状態で、洗浄液供給部の洗浄液の供給口と平面視においてオーバーラップする位置に配置され、粘着テープのうちのウエハが貼り付けられたウエハ貼付部分に下方から紫外線を照射する紫外線照射部を設ける。これにより、洗浄液供給部と紫外線照射部とが水平方向において同じ箇所に配置されているので、洗浄液供給部および紫外線照射部の両方を配置した場合でも、水平方向における装置の大型化を抑制することができる。
（【００１１】以降は省略されています）

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