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公開番号2024172703
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-12-12
出願番号2023090585
出願日2023-06-01
発明の名称ビームプロファイル測定装置用の姿勢調整装置及びビームプロファイル測定システム
出願人三菱重工業株式会社
代理人SSIP弁理士法人
主分類G01J 1/02 20060101AFI20241205BHJP(測定;試験)
要約【課題】測定位置に関わらずビームプロファイルを正確に測定しやすいビームプロファイル測定装置用の姿勢調整装置及びビームプロファイル測定システムを提供する。
【解決手段】ビームプロファイル測定装置用の姿勢調整装置は、測定対象のビームを撮像するための撮像部を、X方向及び前記X方向に交差するY方向を含むXY平面内で移動させるための位置調節部と、前記撮像部の撮像面を通り、前記撮像面の向きを示す軸の、前記XY平面における方位角及び前記XY平面に対する傾斜角を調節するように構成された姿勢調節部と、を備える。
【選択図】図3
特許請求の範囲【請求項１】
ビームプロファイル測定装置用の姿勢調整装置であって、
測定対象のビームを撮像するための撮像部を、Ｘ方向及び前記Ｘ方向に交差するＹ方向を含むＸＹ平面内で移動させるための位置調節部と、
前記撮像部の撮像面を通り、前記撮像面の向きを示す軸の、前記ＸＹ平面における方位角及び前記ＸＹ平面に対する傾斜角を調節するように構成された姿勢調節部と、
を備えるビームプロファイル測定装置用の姿勢調整装置。
続きを表示（約 970 文字）【請求項２】
前記姿勢調節部は、
前記撮像面を通り前記ＸＹ平面に直交するＺ方向に沿って延びるθ軸の周りを回動可能に前記撮像部を支持するように構成された方位角調節部と、
前記撮像面と前記θ軸との交点を通り前記ＸＹ平面に平行な傾斜軸の周りを回動可能に前記撮像部を支持するように構成された傾斜角調節部と、
を含む
請求項１に記載のビームプロファイル測定装置用の姿勢調整装置。
【請求項３】
前記傾斜角調節部は、前記撮像部とともに前記θ軸の周りを回動可能に前記方位角調節部に支持される
請求項２に記載のビームプロファイル測定装置用の姿勢調整装置。
【請求項４】
前記位置調節部は、
前記姿勢調節部及び前記撮像部を搭載するための搭載部と、
基台に支持され、前記搭載部を前記Ｘ方向に沿って案内するための第１ガイド部と、
前記基台に支持され、前記搭載部を前記Ｙ方向に沿って案内するための第２ガイド部と、
を含む
請求項１乃至３の何れか一項に記載のビームプロファイル測定装置用の姿勢調整装置。
【請求項５】
ビームを照射するための照射部を含む造形装置用のビームプロファイル測定システムであって、
測定対象のビームを撮像するための撮像部と、
前記撮像部の姿勢を調節するように構成された請求項１乃至３の何れか一項に記載の姿勢調整装置と、
前記姿勢調整装置を前記ＸＹ平面と直交するＺ方向に沿って移動させることが可能な昇降部と、
を備える
ビームプロファイル測定システム。
【請求項６】
前記昇降部は、前記姿勢調整装置を載置するための設置面を有し、
前記設置面は、前記造形装置における造形面よりも下方の位置にて前記Ｚ方向に沿って移動可能である
請求項５に記載のビームプロファイル測定システム。
【請求項７】
前記昇降部は、前記姿勢調整装置の前記撮像面の位置が、前記造形装置における造形面の位置に一致するように、前記姿勢調整装置の前記Ｚ方向における位置を調節可能に構成された
請求項５に記載のビームプロファイル測定システム。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本開示は、ビームプロファイル測定装置用の姿勢調整装置及びビームプロファイル測定システムに関する。
続きを表示（約 1,500 文字）【背景技術】
【０００２】
レーザビームや電子ビーム等のビームを用いる造形、加工又は処理等の品質向上のために、予めビームプロファイル（ビームの形状や強度分布等）を測定して適切に調整することが重要である。
【０００３】
特許文献１には、レーザビームのプロファイルを測定するための測定装置が記載されている。この測定装置は、レーザビームのプロファイルを撮像するためのカメラが配置されるステージ部をＸ軸方向及びＹ軸方向に移動するためのＸ軸駆動系及びＹ軸駆動系を備えており、カメラによる撮像位置をＸ軸方向及びＹ軸方向に動かすことが可能となっている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
特開２０２１－０７７７３１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、設置位置が固定された照射部からのビーム照射方向を様々に変化させて、各々の照射方向についてビームプロファイルを測定することがある。ここで、例えば特許文献１のように、撮像部（カメラ等）をＸ方向及びＹ方向において（即ちＸＹ平面において）移動させる場合、照射部からのビームの照射方向によっては、撮像部の撮像面に対するビームの入射角度が斜めになり、この場合、ビームプロファイルを正確に測定することが難しい。ビームプロファイルを正確に測定できない場合、ビームを用いて得られる製品（造形物等）の品質が良好でなくなると考えられる。
【０００６】
上述の事情に鑑みて、本発明の少なくとも一実施形態は、測定位置に関わらずビームプロファイルを正確に測定しやすいビームプロファイル測定装置用の姿勢調整装置及びビームプロファイル測定システムを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の少なくとも一実施形態に係るビームプロファイル測定装置用の姿勢調整装置は、
測定対象のビームを撮像するための撮像部を、Ｘ方向及び前記Ｘ方向に交差するＹ方向を含むＸＹ平面内で移動させるための位置調節部と、
前記撮像部の撮像面を通り、前記撮像面の向きを示す軸の、前記ＸＹ平面における方位角及び前記ＸＹ平面に対する傾斜角を調節するように構成された姿勢調節部と、
を備える。
【０００８】
また、本発明の少なくとも一実施形態に係るビームプロファイル測定システムは、
ビームを照射するための照射部を含む造形装置用のビームプロファイル測定システムであって、
上述の姿勢調整装置と、
前記姿勢調整装置を前記ＸＹ平面と直交するＺ方向に沿って移動させることが可能な昇降部と、
を備える。
【発明の効果】
【０００９】
本発明の少なくとも一実施形態によれば、測定位置に関わらずビームプロファイルを正確に測定しやすいビームプロファイル測定装置用の姿勢調整装置及びビームプロファイル測定システムが提供される。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
一実施形態に係る姿勢調整装置が適用される造形装置の一例を示す図である。
一実施形態に係る姿勢調整装置が適用される造形装置の一例を示す図である。
一実施形態に係る姿勢調整装置の概略図である。
図３に示す姿勢調整装置の一部を示す概略的な平面図である。
一実施形態に係る姿勢調整装置に支持される撮像部を含む測定部を示す概略図である。
【発明を実施するための形態】
（【００１１】以降は省略されています）

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