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公開番号2024053320
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-04-15
出願番号2022159503
出願日2022-10-03
発明の名称現像装置
出願人TOPPANホールディングス株式会社
代理人
主分類H01L 21/027 20060101AFI20240408BHJP(基本的電気素子)
要約【課題】ガラス基板を枚葉で搬送しながら、基板の表面への現像液のスプレー吐出による現像、及び洗浄液のスプレー吐出による洗浄を行うカラーフィルタの現像装置において、基板上での現像液および洗浄液の流れを制御することによって、基板が大型化しても基板上の現像液滞留がなく、レジストパターン品質が損なわれることのない、ガラス基板内の現像均一性が良好な現像装置を提供することを課題とする。
【解決手段】搬送中のガラス基板の裏面にエアーを吹き付けて、そのエアー圧でガラス基板の傾斜角度を自在に変化させる手段を有する現像装置。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項１】
ガラス基板を枚葉で搬送しながら、ガラス基板の表面への現像液の吐出による現像、及び洗浄液の吐出による洗浄を行う現像装置において、
ガラス基板の裏面にエアーを吹き付けて、そのエアー圧でガラス基板の傾斜角度を自在に変化させる手段を有する現像装置。
続きを表示（約 250 文字）【請求項２】
ガラス基板を枚葉で搬送しながら、ガラス基板の表面への現像液の吐出による現像、及び洗浄液の吐出による洗浄を行う現像装置において、
ガラス基板の裏面にローラーを押し当てて、そのローラーの押し圧でガラス基板の傾斜角度を自在に変化させる手段を有する現像装置。
【請求項３】
請求項１または２の現像装置において、ガラス基板の傾斜角度を変えて現像液、および洗浄液の流れがガラス基板上に形成されたレジストパターンに対して均一に当たるように制御する手段を有する現像装置。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置のカラーフィルタ基板の製造において、ブラックマトリクス（ＢＭ）等の凹凸パターンを形成する際に、基板上に形成したレジスト膜の露光後に現像液を処理液として供給し現像処理を行う液晶表示装置用カラーフィルタ基板の現像装置に関する。
続きを表示（約 1,900 文字）【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置用カラーフィルタ基板の製造工程で用いる現像装置としては、基板を枚葉で搬送しながら、現像液を用いるウエット処理を行うものが広く用いられてきた。現像処理を行う現像槽では水平搬送する基板の上方に設置されたノズルより現像液を噴霧により基板面に供給することで、基板上にある未硬化部の感光性樹脂を溶解して除去する。そして、現像処理は現像液に浸漬している時間で制御され、規定の時間つまり現像時間が経過したところで、水洗工程で現像液を除去して現像処理を終える。ここで、現像時間は、基板を搬送しながら処理を行うため、基板の搬送速度を変えることで調整している。
【０００３】
しかしながら、基板のサイズが大型化により、基板がたわむなどして、基板上の現像液の量が増える傾向がある。この傾向により、現像時間経過後の水洗工程では現像液の排除に時間がかかるため、現像可能な現像液が基板上に留まる時間が長くなり、処理過剰となる。そして、搬送系の構造により、基板の特定の場所に、現像可能な現像液が留まり、現像処理が不均一になり、パターン形状が部分的に意図したものと違う形になってしまうという問題があった（特許文献１参照）。
【０００４】
このため、大型基板でのカラーフィルタの製造に用いられる現像装置としては、基板を搬送方向と直角の幅方向に５～６度の角度で傾斜搬送して、傾斜状態を保ったままでウエット処理を行う現像装置が用いられるようになった。基板を傾斜処理すると、重力による液流が基板上に生じ、基本的には基板上の現像液の滞留がなくなり、洗浄効率が向上した（特許文献２参照）。
【０００５】
上記した傾斜搬送しながらの現像処理においては、図３に示すように、現像液は傾斜搬送される基板の高い側(上方)から低い側(下方)に向かって流れることになる。そのため、現像中のレジストパターンの上方に面した垂直面に流れ落ちてくる現像液が常に当たる状態になる。これに対して、下方側の垂直面はレジストパターンがあるため、流れ落ちてくる現像液が直接当らない。その結果、上方に面した垂直面は、下方側の垂直面に比べて、現像が過多になる。
【０００６】
図６は、上記の傾斜処理による現像したカラーフィルタのブラックマトリクス（ＢＭ）の断面形状を示しており、傾斜の上方側のパターンの垂直面が削れた形状になっていることがわかる。この垂直面が削れた部分のブラックマトリクスは他の部分に比べてパターンの厚みが薄くなっているため、その部分だけ遮光性が他の部分に比べて低下する。このようなブラックマトリクスを有するカラーフィルタを用いた表示装置は、表示特性が低いものとなってしまう。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
特開平８－１２０４６８号公報
特開２００９－１２８８６７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は、上記問題を解決するためになされたものであり、
ガラス基板を枚葉で搬送しながら、基板の表面への現像液のスプレー吐出による現像、及び洗浄液のスプレー吐出による洗浄を行うカラーフィルタの現像装置において、基板上での現像液および洗浄液の流れを制御することによって、基板が大型化しても基板上の現像液滞留がなく、形成されたパターンに対して片側のみが削られるオーバーハング現象の発生などにより、レジストパターン品質が損なわれることのない、ガラス基板内の現像均一性が良好な現像装置を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記の課題を解決するための手段として、本発明の第１の態様は、
ガラス基板を枚葉で搬送しながら、ガラス基板の表面への現像液の吐出による現像、及び洗浄液の吐出による洗浄を行う現像装置において、
ガラス基板の裏面にエアーを吹き付けて、そのエアー圧でガラス基板の傾斜角度を自在に変化させる手段を有する現像装置である。
【００１０】
また、第２の態様は、
ガラス基板を枚葉で搬送しながら、ガラス基板の表面への現像液の吐出による現像、及び洗浄液の吐出による洗浄を行う現像装置において、
ガラス基板の裏面にローラーを押し当てて、そのローラーの押し圧でガラス基板の傾斜角度を自在に変化させる手段を有する現像装置である。
（【００１１】以降は省略されています）

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