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公開番号2024008877
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-01-19
出願番号2023107899
出願日2023-06-30
発明の名称結晶成長炉システム
出願人環球晶圓股ふん有限公司,Global Wafers Co.,Ltd.
代理人個人
主分類C30B 23/06 20060101AFI20240112BHJP(結晶成長)
要約【課題】結晶の厚さを増やし、品質を改善することのできる結晶成長炉システムを提供する。
【解決手段】結晶成長炉システム100は、外部加熱モジュール110、炉120、第1駆動装置130、第2駆動装置140、および制御装置150を含む。炉は、外部加熱モジュール内に移動可能に配置される。第1駆動装置は、軸A1に沿って移動するように炉を駆動する。第2駆動装置は、軸を中心に回転するように炉を駆動する。制御装置は、第1駆動装置、第2駆動装置、および外部加熱モジュールに電気接続される。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項１】
外部加熱モジュールと、
前記外部加熱モジュール内に移動可能に配置された炉と、
軸に沿って移動するように前記炉を駆動する第１駆動装置と、
前記軸を中心に回転するように前記炉を駆動する第２駆動装置と、
前記第１駆動装置、前記第２駆動装置、および前記外部加熱モジュールに電気接続された制御装置と、
を含む結晶成長炉システム。
続きを表示（約 730 文字）【請求項２】
前記制御装置が、前記第１駆動装置および前記第２駆動装置を同時に、または非同時に動作するように制御するため、前記炉が、前記外部加熱モジュール内で移動または／および回転する請求項１に記載の結晶成長炉システム。
【請求項３】
前記第１駆動装置が、前記軸に沿って２００ｍｍ以下の最大移動距離で移動するように前記炉を駆動する請求項１に記載の結晶成長炉システム。
【請求項４】
前記第１駆動装置が、前記軸に沿って０．１μｍ以上の最小移動距離で移動するように前記炉を駆動する請求項１に記載の結晶成長炉システム。
【請求項５】
前記第１駆動装置が、前記軸に沿って０．０５ｍｍ／時間～１００ｍｍ／分の速度で移動するように前記炉を駆動する請求項１に記載の結晶成長炉システム。
【請求項６】
前記第２駆動装置が、前記軸を中心に２０ｒｐｍ未満の最大回転速度で回転するように前記炉を駆動する請求項１に記載の結晶成長炉システム。
【請求項７】
前記外部加熱モジュールが、加熱コイル群であり、前記加熱コイル群が、前記軸に沿って移動する前記炉の移動範囲を覆う請求項１に記載の結晶成長炉システム。
【請求項８】
前記炉を覆い、前記炉に連結された断熱層をさらに備えた請求項１に記載の結晶成長炉システム。
【請求項９】
前記炉の下方に位置し、前記炉の重量を測定するための重量計をさらに備えた請求項１に記載の結晶成長炉システム。
【請求項１０】
前記炉が、原料で充填され、前記炉の内部上壁に種結晶が提供された請求項１に記載の結晶成長炉システム。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、結晶成長炉システムに関するものであり、特に、移動可能かつ回転可能な炉を備えた結晶成長炉システムに関するものである。
続きを表示（約 1,100 文字）【背景技術】
【０００２】
従来の結晶成長炉は、固定型と可動型に分けることができる。その違いは、固定型結晶成長炉の炉と外部加熱モジュールがいずれも固定されるのに対し、可動型結晶成長炉の外部加熱モジュールは移動可能であることである。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
一般的に、固定型結晶成長炉は、炉の加熱が不均一であるという従来の問題を抱えている。炉の加熱が不均一であると、生成された結晶の前と後の端面間の温度差が大きくなるため、前と後の端面間の応力差が増大し、結晶の厚さおよび品質に影響を及ぼす。
【０００４】
可動型結晶成長炉は、移動可能な外部加熱モジュールにより不均一な加熱の問題を改善することができるが、外部加熱モジュールの動きを制御する昇降機構が外部加熱モジュールの電磁誘導を不均一にするため、改善効果に影響を及ぼし、結晶の厚さおよび品質を低下させることにもなる。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明は、移動可能および／または回転可能な炉によって炉が均一に加熱されるようにすることで、結晶両端部の温度差および応力差を減らし、それにより、結晶の厚さを増やし、品質を改善することのできる結晶成長炉システムを提供する。
【０００６】
本発明の結晶成長炉システムは、外部加熱モジュール、炉、第１駆動装置、第２駆動装置、および制御装置を含む。炉は、外部加熱モジュール内に移動可能に配置される。第１駆動装置は、軸に沿って移動するように炉を駆動する。第２駆動装置は、軸を中心に回転するように炉を駆動する。制御装置は、第１駆動装置、第２駆動装置、および外部加熱モジュールに電気接続される。
【０００７】
本発明の１つの実施形態において、制御装置は、第１駆動装置および第２駆動装置を同時に、または非同時に動作するように制御するため、炉は、外部加熱モジュール内で移動および／または回転する。
【０００８】
本発明の１つの実施形態において、第１駆動装置は、軸に沿って２００ｍｍ以下の最大移動距離で移動するように炉を駆動する。
【０００９】
本発明の１つの実施形態において、第１駆動装置は、軸に沿って０．１μｍ以上の最小移動距離で移動するように炉を駆動する。
【００１０】
本発明の１つの実施形態において、第１駆動装置は、軸に沿って０．０５ｍｍ／時間～１００ｍｍ／分の速度で移動するように炉を駆動する。
（【００１１】以降は省略されています）

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