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公開番号2025124277
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-08-26
出願番号2024020213
出願日2024-02-14
発明の名称耐プラズマ性部材
出願人日本特殊陶業株式会社
代理人個人,個人
主分類H01L 21/683 20060101AFI20250819BHJP(基本的電気素子)
要約【課題】エッチングレートが低減された耐プラズマ性部材を提供することを目的とする。
【解決手段】耐プラズマ性部材において、焼結体は、焼結体全体の質量を100としたときに、酸化マグネシウム(MgO)の含有量が95以上である。焼結体はまた、酸化マグネシウム(MgO)の質量を100としたときに、アルミニウム(Al)およびカルシウム(Ca)の含有量が、それぞれ、アルミナ(Al₂O₃)および酸化カルシウム(CaO)に換算した合計で、0.04以上2.3以下であってもよい。
【選択図】なし
特許請求の範囲【請求項１】
焼結体を含む耐プラズマ性部材であって、
前記焼結体は、
前記焼結体全体の質量を１００としたときに、酸化マグネシウム（ＭｇＯ）の含有量が９５以上であることを特徴とする、
耐プラズマ性部材。
続きを表示（約 350 文字）【請求項２】
請求項１に記載の耐プラズマ性部材であって、
前記焼結体は、
酸化マグネシウム（ＭｇＯ）の質量を１００としたときに、アルミニウム（Ａｌ）およびカルシウム（Ｃａ）の含有量が、それぞれ、アルミナ（Ａｌ
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）および酸化カルシウム（ＣａＯ）に換算した合計で、０．０４以上２．３以下であることを特徴とする、
耐プラズマ性部材。
【請求項３】
請求項２に記載の耐プラズマ性部材であって、
前記焼結体は、
酸化マグネシウム（ＭｇＯ）の質量を１００としたときに、カルシウム（Ｃａ）の含有量が酸化カルシウム（ＣａＯ）に換算して０．０１以上０．５以下であることを特徴とする、
耐プラズマ性部材。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、耐プラズマ性部材に関する。
続きを表示（約 1,800 文字）【背景技術】
【０００２】
半導体製造におけるドライプロセスやプラズマコーティングなどを実施する際に利用される半導体製造装置では、エッチング、クリーニング用として、反応性の高いハロゲン系プラズマが使用される。このため、こうした装置に利用される部材には高い耐食性が必要であり、静電チャックやヒーター等のシリコン（Ｓｉ）ウエハと接する部材や、それらを覆うチャンバーやそのチャンバーパーツには更なる高耐食が求められる。このような要求に応えられる耐食性部材として、アルミナ（Ａｌ
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）やイットリア（Ｙ
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）の焼結体が知られている。Ｙ
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の焼結体を利用した半導体製造装置は、例えば、特許文献１～３に開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
特開平１１－２７８９３５号公報
特開２００１－１７９０８０号公報
特開２００６－６９８４３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
上記特許文献１～３に記載の技術により耐食性を有する部材が得られるものの、よりエッチングレートを小さく抑えることのできる焼結体材料の開発が望まれている。なお、このような課題は、半導体製造装置に限定されず、例えば、プラズマコーティングされる母材やプラズマガスを照射するノズル等の撥水加工用部材等、ハロゲン系プラズマに晒される種々の部材に共通する課題である。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本開示は、上述の課題の少なくとも一つを解決するためになされたものであり、以下の形態として実現できる。
【０００６】
（１）本開示の一形態によれば焼結体を含む耐プラズマ性部材が提供される。この耐プラズマ性部材において、前記焼結体は、前記焼結体全体の質量を１００としたときに、酸化マグネシウム（ＭｇＯ）の含有量が９５以上である。ここで、耐プラズマ性部材は、ハロゲン系ガスなどのプラズマに対して耐食性を有する（エッチングされにくい）部品のことである。
【０００７】
この形態の耐プラズマ性部材によれば、アルミナ（Ａｌ
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）やイットリア（Ｙ
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）を主に含む焼結体を用いる場合や酸化マグネシウム（ＭｇＯ）の含有量が９５未満の焼結体を用いる場合と比較して、エッチングレートを低下させることができ、ハロゲン系ガス耐腐食性（耐プラズマ性ともいう）を向上させることができる。そのため、耐プラズマ性部材がハロゲン系プラズマに晒された場合に、発塵量を低減させることができ、耐プラズマ性部材の耐久性を向上させることができる。
【０００８】
（２）上記形態の耐プラズマ性部材であって、前記焼結体は、酸化マグネシウム（ＭｇＯ）の質量を１００としたときに、アルミニウム（Ａｌ）およびカルシウム（Ｃａ）の含有量が、それぞれ、アルミナ（Ａｌ
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）および酸化カルシウム（ＣａＯ）に換算した合計で、０．０４以上２．３以下であってもよい。このようにすると、焼結性を確保しつつ、耐プラズマ性を向上させることができる。
【０００９】
（３）上記形態の耐プラズマ性部材であって、前記焼結体は、酸化マグネシウム（ＭｇＯ）の質量を１００としたときに、カルシウム（Ｃａ）の含有量が酸化カルシウム（ＣａＯ）に換算して０．０１以上０．５以下であってもよい。このようにすると、焼結性を確保しつつ、さらに、耐プラズマ性を向上させることができる。
【００１０】
なお、本発明は、種々の態様で実現することが可能であり、例えば、半導体製造装置用部品、半導体製造装置、保持装置、静電チャック、撥水加工用部材、およびこれらを備える装置、および半導体製造装置用部品の製造方法、撥水加工用部材の製造方法等の形態で実現することができる。
【図面の簡単な説明】
（【００１１】以降は省略されています）

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