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公開番号2025121223
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-08-19
出願番号2024016538
出願日2024-02-06
発明の名称静電チャック
出願人TOTO株式会社
代理人個人,個人,個人,個人
主分類H01L 21/683 20060101AFI20250812BHJP(基本的電気素子)
要約【課題】プラズマの状態に対する影響を抑制することのできる静電チャック、を提供する。
【解決手段】静電チャック10は、誘電体基板100と、誘電体基板100を加熱するヒーターユニット300と、を備える。上面視において、ヒーターユニット300は、第1領域HA1の内側において線状に引き回された導体である発熱部331と、第1領域HA1と隣り合う領域であって第1領域HA1よりも面積の大きな第2領域HA2、の全体を占めるように配置された導体である伝熱部335と、発熱部331と伝熱部335との間を電気的に接続する接続部336と、を有する。
【選択図】図8
特許請求の範囲【請求項１】
被吸着物が載置される載置面を有する誘電体基板と、
前記誘電体基板を加熱するヒーターと、を備え、
前記載置面に対し垂直な方向から見た場合において、
前記ヒーターは、第１領域の内側において線状に引き回された導体である発熱部と、
前記第１領域と隣り合う領域であって前記第１領域よりも面積の大きな第２領域、の全体を占めるように配置された導体である伝熱部と、
前記発熱部と前記伝熱部との間を電気的に接続する接続部と、を有することを特徴とする静電チャック。
続きを表示（約 410 文字）【請求項２】
前記載置面に対し垂直な方向から見た場合において、
複数の前記第１領域が環状に並ぶように配置されており、
前記第２領域は、複数の前記第１領域の内周側もしくは外周側となる位置に配置されていることを特徴とする、請求項１に記載の静電チャック。
【請求項３】
複数の前記第１領域の内側にあるそれぞれの前記発熱部のうち、単一の前記発熱部のみが、前記接続部を介して前記伝熱部に電気的に接続されていることを特徴とする、請求項２に記載の静電チャック。
【請求項４】
前記接続部は、前記発熱部を通る電流の少なくとも一部が前記伝熱部をも通るように構成されていることを特徴とする、請求項１に記載の静電チャック。
【請求項５】
前記発熱部、前記伝熱部、及び前記接続部が、互いに同一の材料によって形成されていることを特徴とする、請求項１に記載の静電チャック。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は静電チャックに関する。
続きを表示（約 1,600 文字）【背景技術】
【０００２】
例えばエッチング装置等の半導体製造装置には、処理の対象となるシリコンウェハ等の基板を吸着し保持するための装置として、静電チャックが設けられる。静電チャックは、吸着電極が設けられた誘電体基板を有する。吸着電極に電圧が印加されると静電力が生じ、誘電体基板上に載置された基板が吸着され保持される。
【０００３】
半導体製造装置で基板を処理しているときには、基板の面内温度分布が可能な限り均等となるよう温度調整を行う必要がある。高い精度での温度調整を可能とするために、近年ではヒーターを備えた静電チャックも開発され、既に実用化されている。ヒーターは、誘電体基板の内部に設けられることもあるが、例えば下記特許文献１に記載されているように、ユニット化された状態で誘電体基板とベースプレートとの間に設けられることもある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
特開２０２１－１９７４８５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ヒーターは、線状に引き回された導体である発熱部を有する。外部から電力が供給され、発熱部に電流が流れると、発熱部ではジュール熱が生じる。誘電体基板の各部の温度を個別に調整可能とするために、ヒーターの発熱部は、複数の領域のそれぞれにおいて個別に引き回される。
【０００６】
複数ある領域の中には、発熱部を配置する必要の無い領域も存在し得る。しかしながら、発熱部が配置されている領域と、配置されていない領域とが混在している場合には、シリコンウェハ等の基板とベースプレートとの間の熱抵抗が全体で一様とはならず、領域毎に熱抵抗が異なってしまうこととなる。熱抵抗を一様とするための対策としては、例えば、発熱部を配置する必要の無い領域に、発熱部に替えてダミーの導体層を配置しておくことも考えられる。
【０００７】
しかしながら、ダミーの導体層は所謂「浮き導体」となるため、その電位は周囲の影響を受けて変動してしまう。一方、発熱部は、電位の変動を抑制するためのフィルタ回路を介して電源に接続されるため、その電位は周囲の影響を受けない。従って、基板の処理中においては、ダミーの導体層と発熱部との間の電位差が大きくなり、基板上部で生じているプラズマの状態に悪影響を及ぼしてしまう可能性がある。
【０００８】
本発明はこのような課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、プラズマの状態に対する影響を抑制することのできる静電チャック、を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記課題を解決するために、本発明に係る静電チャックは、被吸着物が載置される載置面を有する誘電体基板と、誘電体基板を加熱するヒーターと、を備える。載置面に対し垂直な方向から見た場合において、ヒーターは、第１領域の内側において線状に引き回された導体である発熱部と、第１領域と隣り合う領域であって第１領域よりも面積の大きな第２領域、の全体を占めるように配置された導体である伝熱部と、発熱部と伝熱部との間を電気的に接続する接続部と、を有する。
【００１０】
このような構成の静電チャックでは、第１領域に発熱部を配置し、発熱部を配置する必要の無い第２領域に伝熱部を配置することで、第１領域及び第２領域のそれぞれの熱抵抗を概ね同一とすることができる。更に、発熱部と伝熱部との間を、接続部を介して電気的に接続することで、伝熱部が所謂「浮き導体」となってしまうことを防止できる。発熱部及び伝熱部のそれぞれの電位が互いに概ね同一となるので、基板上部で生じているプラズマの状態は、両者の電位差による影響を殆ど受けることがない。
【発明の効果】
（【００１１】以降は省略されています）

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