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公開番号
2025110314
公報種別
公開特許公報(A)
公開日
2025-07-28
出願番号
2024004186
出願日
2024-01-15
発明の名称
硬化性組成物、硬化物、積層体
出願人
三菱ケミカル株式会社
代理人
個人
,
個人
,
個人
主分類
C08F
2/46 20060101AFI20250718BHJP(有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物)
要約
【課題】硬化物の表面に微細な凹凸構造を形成し、艶消し性を発現させるとともに、ムラ
が良好な硬化物となる硬化性組成物、前記硬化性組成物の硬化物、および前記硬化物から
なる層を有する積層体を提供する。
【解決手段】活性エネルギー線の照射によりラジカルを発生する活性基を有する重合体、
粒子、および(メタ)アクリレートを含有する硬化性組成物。
【選択図】なし
特許請求の範囲
【請求項1】
活性エネルギー線の照射によりラジカルを発生する活性基を有する重合体、粒子、およ
び(メタ)アクリレートを含有する硬化性組成物。
続きを表示(約 820 文字)
【請求項2】
前記活性エネルギー線の照射によりラジカルを発生する活性基が、α-ヒドロキシケト
ン基、ベンゾフェノン基、アセトフェノン基、ベンゾイン基、α-アミノケトン基、α-
ジケトン基、α-ジケトンジアルキルアセタール基、アントラキノン基、チオキサントン
基、及びホスフィンオキシド基からなる群から選ばれる1種以上である請求項1に記載の
硬化性組成物。
【請求項3】
前記活性エネルギー線の照射によりラジカルを発生する活性基を有する重合体が、炭素
数4以上のアルキル基、またはパーフルオロアルキレン基を有する(メタ)アクリル酸ア
ルキルエステル由来の構成単位を含む請求項1に記載の硬化性組成物。
【請求項4】
前記活性エネルギー線の照射によりラジカルを発生する活性基を有する重合体の重量平
均分子量が1,000~500,000である請求項3に記載の硬化性組成物。
【請求項5】
前記粒子が有機粒子である請求項1に記載の硬化性組成物。
【請求項6】
前記粒子の平均粒子径が1nm~50μmである請求項1に記載の硬化性組成物。
【請求項7】
前記(メタ)アクリレートが3官能以上である請求項1に記載の硬化性組成物。
【請求項8】
前記(メタ)アクリレートがウレタンアクリレート、ハイパーブランチ体の(メタ)ア
クリレート、またはグリセリン含有(メタ)アクリレートのいずれか1種以上を含有する
請求項7に記載の硬化性組成物。
【請求項9】
請求項1または5に記載の硬化性組成物を硬化してなる硬化物。
【請求項10】
前記硬化物が、表面に凹凸構造を有する膜状物である請求項9に記載の硬化物。
(【請求項11】以降は省略されています)
発明の詳細な説明
【技術分野】
【0001】
本発明は、硬化性組成物、前記硬化性組成物の硬化物、および前記硬化物からなる層を
有する積層体に関する。
続きを表示(約 2,300 文字)
【背景技術】
【0002】
基材の表面に微細な凹凸構造を形成することにより、艶消し性を付与し、意匠性や視認
性を向上させる方法として、例えば、微粒子を分散させた硬化性組成物を基材に塗布して
硬化する方法、基材に金属の薄膜を蒸着させる方法、硬化性組成物を基材に塗布して硬化
させてなる硬化物の表面に微細なしわを発現させる方法が知られている。
【0003】
例えば特許文献1には、硬化性組成物を基材に塗布し、活性エネルギー線を照射して硬
化させた硬化物の表面に微細な凹凸構造を形成し、艶消し性を発現させる技術が記載され
ている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
特開2019-131717号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
しかし、特許文献1の方法の場合、組成によっては硬化のばらつきがあるためか、外観
(ムラ)が悪化するため、光学用途に使用することが難しい場合があった。
【0006】
本発明は、上記課題を改善するためになされたもので、硬化物の表面に微細な凹凸構造
を形成し、艶消し性を発現させるとともに、ムラが良好な硬化物となる硬化性組成物を提
供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0007】
本発明は、以下の態様を有する。
[1] 活性エネルギー線の照射によりラジカルを発生する活性基を有する重合体、粒子
、および(メタ)アクリレートを含有する硬化性組成物。
[2] 前記活性エネルギー線の照射によりラジカルを発生する活性基が、α-ヒドロキ
シケトン基、ベンゾフェノン基、アセトフェノン基、ベンゾイン基、α-アミノケトン基
、α-ジケトン基、α-ジケトンジアルキルアセタール基、アントラキノン基、チオキサ
ントン基、及びホスフィンオキシド基からなる群から選ばれる1種以上である、前記[1
]の硬化性組成物。
[3] 前記活性エネルギー線の照射によりラジカルを発生する活性基を有する重合体が
、炭素数4以上のアルキル基、またはパーフルオロアルキレン基を有する(メタ)アクリ
ル酸アルキルエステル由来の構成単位を含む、前記[1]または[2]の硬化性組成物。
[4] 前記活性エネルギー線の照射によりラジカルを発生する活性基を有する重合体の
重量平均分子量が1,000~500,000である、前記[1]~[3]の硬化性組成
物。
[5] 前記粒子が有機粒子である前記[1]~[4]の硬化性組成物。
[6] 前記粒子の平均粒子径が1nm~50μmである、前記[1]~[5]の硬化性
組成物。
[7] 前記(メタ)アクリレートが3官能以上である、前記[1]~[6]の硬化性組
成物。
[8] 前記(メタ)アクリレートがウレタンアクリレート、ハイパーブランチ体の(メ
タ)アクリレート、またはグリセリン含有(メタ)アクリレートのいずれか1種以上を含
有する、前記[1]~[7]の硬化性組成物。
[9] 前記[1]~[8]の硬化性組成物を硬化してなる硬化物。
[10]前記硬化物が、表面に凹凸構造を有する膜状物である前記[9]の硬化物。
[11]前記硬化物のヘイズが5%以上である前記[9]または[10]の硬化物。
[12]前記硬化物の20°グロスが80以下である前記[9]~[11]の記載の硬化
物。
[13]前記硬化物の算術平均粗さ(Ra)が0.02μm以上である前記[9]~[1
2]の硬化物。
[14]活性エネルギー線の照射によりラジカルを発生する活性基を有する重合体、粒子
、および(メタ)アクリレートを含有する硬化性組成物の塗膜を形成し、前記塗膜に活性
エネルギー線を照射する、硬化物の製造方法。
[15]基材表面に前記[9]~[13]の硬化物が積層してなる積層体。
【発明の効果】
【0008】
本発明によれば、硬化物の表面に微細な凹凸構造を形成し、艶消し性を発現させるとと
もに、ムラが良好な硬化物となる硬化性組成物、当該硬化性組成物を硬化してなる硬化物
、及び基材の表面に当該硬化物が積層してなる積層体を提供することができる。
【発明を実施するための形態】
【0009】
以下、本発明の実施の形態について詳細に説明する。
本発明において、「(メタ)アクリレート」は、アクリレート又はメタクリレートの総
称である。
数値範囲を示す「~」は、その前後に記載された数値を下限値及び上限値として含むこ
とを意味する。本明細書に開示の数値範囲は、その下限値および上限値を任意に組み合わ
せて新たな数値範囲とすることができる。
【0010】
<硬化性組成物>
本発明の硬化性組成物は、活性エネルギー線の照射によりラジカルを発生する活性基を
有する重合体、粒子、および(メタ)アクリレートを含有するものである。
(【0011】以降は省略されています)
この特許をJ-PlatPat(特許庁公式サイト)で参照する
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