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公開番号2025104655
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-07-10
出願番号2023222605
出願日2023-12-28
発明の名称ガス供給機構、および、処理装置
出願人株式会社アルバック
代理人個人,個人
主分類H01L 21/3065 20060101AFI20250703BHJP(基本的電気素子)
要約【課題】処理空間に供給されるガス流量の分布をガス供給源の数よりも多く形成することを可能としたガス供給機構、および、処理装置を提供する。
【解決手段】ガス供給機構10は、N個のガス供給源11と、処理空間21Sにガスを供給するM個のガス拡散部材12Aと、1つのガス拡散部材12Aに対して、ガス供給源11を並列に接続する並列のL本の供給ライン13とを備える。Nは1以上の整数であり、MはNよりも大きい整数であり、LはM以下の整数である。供給ライン13は、供給ライン13に接続されるガス拡散部材12Aと、供給ライン13に接続されるガス供給源11との間にバルブ14を有する。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項１】
Ｎ個のガス供給源と、
処理空間にガスを供給するＭ個のガス拡散部材と、
１つの前記ガス拡散部材に対して、前記ガス供給源を並列に接続する並列のＬ本の供給ラインと、を備え、
Ｎは１以上の整数であり、ＭはＮよりも大きい整数であり、Ｎよりも大きくＬはＭ以下の整数であり、
前記供給ラインは、前記供給ラインに接続される前記ガス拡散部材と、前記供給ラインに接続される前記ガス供給源との間にバルブを有する
ガス供給機構。
続きを表示（約 420 文字）【請求項２】
前記ガス供給源は、複数のガス供給部から構成され、
１つの前記ガス拡散部材に対して、１つの前記供給ラインによって前記複数のガス供給部が接続される
請求項１に記載のガス供給機構。
【請求項３】
各ガス供給部が、複数のマスフローコントローラーから構成され、
各マスフローコントローラーから供給されるガスの混合ガスを前記ガス供給部が前記ガス拡散部材に供給する
請求項２に記載のガス供給機構。
【請求項４】
前記ガス供給源は、複数のフロースプリッターを備え、
１つの前記ガス拡散部材に対して、１つの前記供給ラインによって前記複数のフロースプリッターが接続される
請求項１に記載のガス供給機構。
【請求項５】
請求項１から４のいずれか一項に記載のガス供給機構と、
処理空間を画定する処理槽と、を備える
処理装置。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本開示は、ガス供給機構、および、ガス供給機構を備える処理装置に関する。
続きを表示（約 1,500 文字）【背景技術】
【０００２】
誘導結合プラズマ処理装置の一例は、処理空間にガスを導入するためのシャワーヘッドを備えている。シャワーヘッドは、複数の分割シャワーヘッドから構成されている。複数の分割シャワーヘッドは、分割シャワーヘッドの数よりも少ない数の複数の分割シャワーヘッド群に区分されている。各分割シャワーヘッドには、分割シャワーヘッド群ごとの流量比制御器が接続されている。各分割シャワーヘッド群には、その群に接続された流量比制御器において設定された流量のガスが供給される（例えば、特許文献１を参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
特開２０１８－０８８３３６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
上述した誘導結合プラズマ処理装置では、分割シャワーヘッド群の位置によって、ガス流量の区分のパターンが固定される。１つのシャワーヘッドにおいて、分割シャワーヘッド群の数を増やし、かつ、各分割シャワーヘッド群に流量比制御器を接続することによって、シャワーヘッドの面内においてガス流量の区分を増やすことは可能ではある。しかしながら、シャワーヘッドの面内において一度に設定することが可能なガス流量の区分は、最大でも流量比制御器群に含まれる制御器の数と同数である。加えて、流量比制御器群に含まれる制御器の増加は、誘導結合プラズマ処理装置における部品点数の増加を招く。なお、こうした課題は、誘導結合プラズマ処理装置に限らず、容量結合プラズマ処理装置などの他の処理装置や、流量比制御器に代えて流量制御器を備える処理装置においても共通である。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記課題を解決するためのガス供給機構は、Ｎ個のガス供給源と、処理空間にガスを給するＭ個のガス拡散部材と、１つの前記ガス拡散部材に対して、前記ガス供給源を並列に接続する並列のＬ本の供給ラインと、を備える。Ｎは１以上の整数であり、ＭはＮよりも大きい整数であり、ＬはＭ以下の整数である。前記供給ラインは、前記供給ラインに接続される前記ガス拡散部材と、前記供給ラインに接続される前記ガス供給源との間にバルブを有する。
【０００６】
上記課題を解決するための処理装置は、上記ガス供給機構と、前記処理空間を画定する処理槽と、を備える。
【０００７】
上記ガス供給機構および処理装置によれば、１つのガス拡散部材に対してガス供給源が並列に接続されるため、ガス拡散部材よりも少ない数のガス供給源で処理空間に供給されるガス流量の区分をガス供給源の数よりも多く形成することが可能である。
【０００８】
上記ガス供給機構において、前記ガス供給源は、複数のガス供給部から構成され、１つの前記ガス拡散部材に対して、１つの前記供給ラインによって前記複数のガス供給部が接続されてもよい。
【０００９】
上記ガス供給機構によれば、各ガス拡散部材に対して複数のガス供給部が接続されるため、１つのガス拡散部材に対して複数のガス供給部のうちのいずれからガスを供給するかをバルブの開閉によって選択することができる。
【００１０】
上記ガス供給機構において、各ガス供給部が、複数のマスフローコントローラーから構成され、各マスフローコントローラーから供給されるガスの混合ガスを前記ガス供給部が前記ガス拡散部材に供給してもよい。
（【００１１】以降は省略されています）

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