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公開番号2025099698
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-07-03
出願番号2023216578
出願日2023-12-22
発明の名称保持装置、及び緻密層付き多孔質体
出願人日本特殊陶業株式会社
代理人弁理士法人暁合同特許事務所
主分類H01L 21/683 20060101AFI20250626BHJP(基本的電気素子)
要約【課題】強度を保持しつつ、ガス流量を向上させた多孔質体を備える保持装置等の提供。
【解決手段】本発明の保持装置100は、第1表面S1、第1表面S1の反対側に配される第2表面S2を含む板状部材11と、第1表面S1側に開口したガス流出口12b、及び第2表面S2側に開口したガス流入口12aを含み、板状部材11の内部に形成されるガス流路120と、ガス流路120内に配される多孔質体70とを有する保持基板10を備える保持装置100であって、多孔質体70は、絶縁性の材料を主成分とする骨格基材71を備えており、骨格基材71は、複数の連通孔72からなる連通孔群720が形成されており、連通孔群720は、5μm未満の範囲と、5μm以上15μm以下の範囲とに、それぞれ1つずつHgポロシメーターで測定された気孔径分布のピークを有する。
【選択図】図7
特許請求の範囲【請求項１】
第１表面、前記第１表面の反対側に配される第２表面を含む板状部材と、前記第１表面側に開口したガス流出口、及び前記第２表面側に開口したガス流入口を含み、前記板状部材の内部に形成されるガス流路と、前記ガス流路内に配される多孔質体とを有する保持基板を備える保持装置であって、
前記多孔質体は、絶縁性の材料を主成分とする骨格基材を備えており、前記骨格基材は、複数の連通孔からなる連通孔群が形成されており、
前記連通孔群は、５μｍ未満の範囲と、５μｍ以上１５μｍ以下の範囲とに、それぞれ１つずつＨｇポロシメーターで測定された気孔径分布のピークを有する保持装置。
続きを表示（約 200 文字）【請求項２】
前記多孔質体の気孔率が、７０％以上９０％以下である請求項１に記載の保持装置。
【請求項３】
５μｍ未満の範囲と、５μｍ以上１５μｍ以下の範囲とに、それぞれ１つずつＨｇポロシメーターで測定された気孔径分布のピークを有する連通孔群を含む柱状の多孔質体と、前記多孔質体の周囲に配される筒状の、前記多孔質体よりも気孔率が小さい緻密層とを備える緻密層付き多孔質体。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、保持装置、及び緻密層付き多孔質体に関する。
続きを表示（約 1,500 文字）【背景技術】
【０００２】
半導体を製造する際にウェハ（半導体ウェハ）を保持する保持装置の一例として、静電チャックが挙げられる（特許文献１参照）。静電チャックは、絶縁性のセラミックス（例えば、アルミナ）を主体とした保持基板（セラミック基板）を備えており、その保持基板の表面上でウェハが静電引力により保持される。静電引力は、保持基板の内部に設けられたチャック電極に電圧が印加されることで、発生する。
【０００３】
この種の静電チャックでは、プラズマエッチング等のプラズマ処理において、保持基板とウェハとの間に、ヘリウムガス等の熱伝導ガスを供給して、ウェハから熱を取り除くことが行われている。そのため、静電チャックの保持基板の内部には、外部から供給された熱伝導ガスを、ウェハに向かって流すためのガス流路が形成されている。保持基板の表面には、ガス流路の終端に位置するガス流出口が複数設けられており、各ガス流出口から、ウェハに向かって熱伝導ガスが供給される。
【０００４】
なお、プラズマ処理時に印加される高周波電力により、ガス流路内で異常放電（アーキング）が発生して、その異常放電により保持基板上のウェハが損傷することがあった。そのため、このような異常放電の発生を抑制するために、ガス流路内に、ガス透過性の多孔質体が設けられていた。多孔質体は、絶縁性のセラミック材料からなる骨格基材と、その骨格基材の内部に形成される三次元網目状の複数の連通孔とからなる。このような多孔質体に、ガス流路の上流側から熱伝導ガスが供給されると、熱伝導ガスは、多孔質体内の三次元網目状の連通孔を通過してガス流路の下流側へ移動する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
特許第４９５９９０５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
多孔質体の強度と、多孔質体内を通過可能なガス流量との間には、所謂、トレードオフの関係があるため、それらを好適に両立させることが難しく、問題となっていた。
【０００７】
本発明の目的は、必要なガス流量を保持しつつ、強度を向上させた多孔質体を備える保持装置等を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
前記課題を解決するための手段は、以下の通りである。即ち、
＜１＞第１表面、前記第１表面の反対側に配される第２表面を含む板状部材と、前記第１表面側に開口したガス流出口、及び前記第２表面側に開口したガス流入口を含み、前記板状部材の内部に形成されるガス流路と、前記ガス流路内に配される多孔質体とを有する保持基板を備える保持装置であって、前記多孔質体は、絶縁性の材料を主成分とする骨格基材を備えており、前記骨格基材は、複数の連通孔からなる連通孔群が形成されており、前記連通孔群は、５μｍ未満の範囲と、５μｍ以上１５μｍ以下の範囲とに、それぞれ１つずつＨｇポロシメーターで測定された気孔径分布のピークを有する保持装置。
【０００９】
＜２＞前記多孔質体の気孔率が、７０％以上９０％以下である前記＜１＞に記載の保持装置。
【００１０】
＜３＞５μｍ未満の範囲と、５μｍ以上１５μｍ以下の範囲とに、それぞれ１つずつＨｇポロシメーターで測定された気孔径分布のピークを有する連通孔群を含む柱状の多孔質体と、前記多孔質体の周囲に配される筒状の、前記多孔質体よりも気孔率が小さい緻密層とを備える緻密層付き多孔質体。
【発明の効果】
（【００１１】以降は省略されています）

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