TOP
|
特許
|
意匠
|
商標
特許ウォッチ
Twitter
他の特許を見る
公開番号
2024154754
公報種別
公開特許公報(A)
公開日
2024-10-31
出願番号
2023068774
出願日
2023-04-19
発明の名称
混合物の製造方法
出願人
住友化学株式会社
代理人
個人
,
個人
主分類
B01F
23/53 20220101AFI20241024BHJP(物理的または化学的方法または装置一般)
要約
【課題】グラスライニング機器の破損を防止する。
【解決手段】1種類以上の固体及び1種類以上の液体を含む混合物を製造する混合物の製造方法が、Aは終末沈降速度であり、Bは溶剤抵抗の常用対数であり、Cは動力数であり、Dは浮遊限界速度比であり、Eは比表面積であり、Fは粉体抵抗の常用対数であり、a*A+b*B+c*C+d*D+e*E+f*F≦2.6となる条件で、原料混合物をグラスライニング機器に接触させる工程を含む。
【選択図】なし
特許請求の範囲
【請求項1】
1種類以上の固体及び1種類以上の液体を含む混合物を製造する混合物の製造方法であって、
Aは終末沈降速度[m/s]であり、
Bは溶剤抵抗[Ω・m]の常用対数であり、
Cは動力数であり、
Dは浮遊限界速度比であり、
Eは比表面積[m
2
/m
3
]であり、
Fは粉体抵抗[Ω・m]の常用対数であり、
a=26.54、b=0.11、c=-1.71、d=-0.29、e=-0.50、f=0.22であり、
a*A+b*B+c*C+d*D+e*E+f*F≦2.6となる条件で、1種類以上の固体及び1種類以上の液体を含む原料混合物をグラスライニング機器に接触させる工程を含む、
混合物の製造方法。
続きを表示(約 460 文字)
【請求項2】
前記接触させる工程は、-3.8≦a*A+b*B+c*C+d*D+e*E+f*F≦2.6となる条件で前記原料混合物を前記グラスライニング機器に接触させる、
請求項1に記載の混合物の製造方法。
【請求項3】
Aは2.0×10
-5
以上8.4×10
-2
以下であり、
Bは10以上1.7×10
15
以下であり、
Cは0.2以上4.8以下であり、
Dは0.96以上5.38以下であり、
Eは1.8以上6.3以下であり、
Fは1.5×10
5
以上6.0×10
18
以下である、
請求項1に記載の混合物の製造方法。
【請求項4】
前記混合物は、スラリーである、
請求項1から3のいずれかに記載の混合物の製造方法。
【請求項5】
前記スラリーは、高帯電スラリーである、
請求項4に記載の混合物の製造方法。
発明の詳細な説明
【技術分野】
【0001】
本開示は、混合物の製造方法に関する。
続きを表示(約 1,300 文字)
【背景技術】
【0002】
グラスライニング機器は使用中に発生する静電気に起因して破損することがある。例えば、非特許文献1には、静電気によるグラスライニング撹拌槽の損傷事例及びグラスライニング機器における静電気対策が開示されている。
【先行技術文献】
【非特許文献】
【0003】
沢田雅光、「静電気によるGLの損傷とその対策」、神鋼パンテック技報、Vol.34、No.3、pp.22-27、1990年
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
しかしながら、従来のグラスライニング機器の静電気対策は破損防止の効果が不明である。例えば、非特許文献1に開示されている静電気対策は定性条件のみであり、グラスライニング機器の破損を防止するための基準が明確ではない。
【0005】
本開示の一態様は、グラスライニング機器の破損を防止することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0006】
本開示の一態様による混合物の製造方法は、1種類以上の固体及び1種類以上の液体を含む混合物を製造する混合物の製造方法であって、Aは終末沈降速度[m/s]であり、Bは溶剤抵抗[Ω・m]の常用対数であり、Cは動力数であり、Dは浮遊限界速度比であり、Eは比表面積[m
2
/m
3
]であり、Fは粉体抵抗[Ω・m]の常用対数であり、a=26.54、b=0.11、c=-1.71、d=-0.29、e=-0.50、f=0.22であり、a*A+b*B+c*C+d*D+e*E+f*F≦2.6となる条件で、1種類以上の固体及び1種類以上の液体を含む原料混合物をグラスライニング機器に接触させる工程を含む。
【発明の効果】
【0007】
本開示の一態様によれば、グラスライニング機器の破損を防止することができる。
【発明を実施するための形態】
【0008】
以下、本発明の各実施形態について添付の図面を参照しながら説明する。なお、本明細書及び図面において、実質的に同一の機能を有する構成要素については、同一の符号を付することにより重複した説明を省略する。
【0009】
[実施形態]
本発明の一実施形態は、グラスライニング機器を用いて固体と液体とを含む混合物を製造する混合物の製造方法である。グラスライニング機器は、グラスライニングが施された機器である。グラスライニングは、鋼等の金属基材にグラス層を形成する表面処理法である。グラスライニング機器において、グラス層が形成された部位はグラスライニング面等とも呼ばれる。
【0010】
グラスライニング機器は、一例として、耐食性、不活性、耐熱性等を有し、化学工業、医薬品工業、食品工業、電子産業等の分野で広く用いられている。グラスライニング機器は、一例として、反応機(又は反応釜)、撹拌翼、撹拌槽、熱交換器、乾燥機、蒸発機、濾過機等が挙げられる。
(【0011】以降は省略されています)
この特許をJ-PlatPatで参照する
関連特許
住友化学株式会社
光学積層体
11日前
住友化学株式会社
硬化性組成物
2日前
住友化学株式会社
硬化性組成物
2日前
住友化学株式会社
リチウム二次電池
18日前
住友化学株式会社
偏光子の製造方法
10日前
住友化学株式会社
変性樹脂の製造方法
15日前
住友化学株式会社
硬化膜及び表示装置
2日前
住友化学株式会社
硬化膜及び表示装置
2日前
住友化学株式会社
樹脂組成物及びその製造方法
11日前
住友化学株式会社
メタクリル酸製造用触媒の製造方法
9日前
住友化学株式会社
非水電解液二次電池用積層セパレータ
22日前
住友化学株式会社
非水電解液二次電池用積層セパレータ
22日前
住友化学株式会社
グルコースの製造方法およびその触媒
2日前
住友化学株式会社
レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
8日前
住友化学株式会社
レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
18日前
住友化学株式会社
レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
18日前
住友化学株式会社
レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
18日前
住友化学株式会社
着色樹脂組成物、カラーフィルタ、及び表示装置
15日前
住友化学株式会社
着色樹脂組成物、カラーフィルタ、及び表示装置
15日前
住友化学株式会社
有機化合物の製造方法および微生物培養用組成物
2日前
住友化学株式会社
再生基板の製造方法および積層構造体の製造方法
9日前
住友化学株式会社
レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
9日前
住友化学株式会社
液晶ポリエステル、液晶ポリエステル組成物及び成形品
10日前
住友化学株式会社
再生SiC基板の製造方法および積層構造体の製造方法
9日前
住友化学株式会社
化合物、組成物、インク、光電変換素子、及び光センサー
17日前
住友化学株式会社
化合物、組成物、インク、光電変換素子、及び光センサー
17日前
住友化学株式会社
圧電素子を備える装置、積層基板、及びその装置の製造方法
9日前
住友化学株式会社
圧電膜を有する積層基板、積層基板の製造方法、及び圧電素子
9日前
住友化学株式会社
III族窒化物積層体およびIII族窒化物積層体の製造方法
10日前
住友化学株式会社
III族窒化物積層体およびIII族窒化物積層体の製造方法
9日前
住友化学株式会社
光学積層体、液晶硬化膜の製造方法及び光学積層体の製造方法
11日前
住友化学株式会社
III族窒化物積層体およびIII族窒化物積層体の製造方法
9日前
住友化学株式会社
酸発生剤、塩、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
8日前
住友化学株式会社
組成物及びその硬化物、成形物、表示装置、並びに固体撮像素子
9日前
住友化学株式会社
組成物及びその硬化物、成形物、表示装置、並びに固体撮像素子
9日前
住友化学株式会社
酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法並びに塩
9日前
続きを見る
他の特許を見る